JPS6324065B2 - - Google Patents
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- JPS6324065B2 JPS6324065B2 JP58052737A JP5273783A JPS6324065B2 JP S6324065 B2 JPS6324065 B2 JP S6324065B2 JP 58052737 A JP58052737 A JP 58052737A JP 5273783 A JP5273783 A JP 5273783A JP S6324065 B2 JPS6324065 B2 JP S6324065B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は連続薄膜形成装置に於けるパターン形
成装置の関する。
成装置の関する。
従来真空室内に設けた蒸発源或はスパツタリン
グターゲツトの薄膜物質発生装置に対向させてプ
ラスチツクフイルム等の帯状物を走行させ、該帯
状物の前面の膜形成面に該発生装置からの物質の
簿膜を形成することは行なわれているが、該薄膜
の形成に際してこれにパターンを形成することが
要望される場合がある。
グターゲツトの薄膜物質発生装置に対向させてプ
ラスチツクフイルム等の帯状物を走行させ、該帯
状物の前面の膜形成面に該発生装置からの物質の
簿膜を形成することは行なわれているが、該薄膜
の形成に際してこれにパターンを形成することが
要望される場合がある。
かかる場合第１図示のように回転するキヤンａ
に帯状物ｂを捲回させて走行させると共にその膜
形成面ｃに沿つて例えば蒸発源ｄ等に薄膜形成物
質発生装置から飛来する物質の付着を防ぐマージ
ンテープｅを同期走行させるか或は第２図示のよ
うに帯状物ｂを油蒸気噴出口ｆを備えた油蒸発器
ｇ上を通過させて膜形成面ｃに飛来物質の付着を
防ぐ油膜ｈを形成し、該マージンテープｅ或は油
膜ｈの部分に物質の付着しない縦縞のパターンを
得るを一般とするもので、角形等の帯状物の幅方
向の縞模様を有する横縞パターンの形成が困難で
ある不都合があつた。こうした横縞のパターンは
前記マージンテープｅに代え例えば第３図示のよ
うな角形透孔を有するマスクｉを使用することに
より形成出来ると考えられたが、該マスクｉはそ
の走行方向に対して張力が掛り帯状物ｂの縦方向
には密着するがそして幅方向に対しては張力が作
用しないので帯状物ｂから浮き上り勝ちで横縞の
パターンにぼけを生ずる欠点があり、また油膜式
のものでは油を定位置で蒸発させ帯状物ｂを油蒸
発器ｇと相対的に走行させるので原理的に横縞の
形成は不可能である。
に帯状物ｂを捲回させて走行させると共にその膜
形成面ｃに沿つて例えば蒸発源ｄ等に薄膜形成物
質発生装置から飛来する物質の付着を防ぐマージ
ンテープｅを同期走行させるか或は第２図示のよ
うに帯状物ｂを油蒸気噴出口ｆを備えた油蒸発器
ｇ上を通過させて膜形成面ｃに飛来物質の付着を
防ぐ油膜ｈを形成し、該マージンテープｅ或は油
膜ｈの部分に物質の付着しない縦縞のパターンを
得るを一般とするもので、角形等の帯状物の幅方
向の縞模様を有する横縞パターンの形成が困難で
ある不都合があつた。こうした横縞のパターンは
前記マージンテープｅに代え例えば第３図示のよ
うな角形透孔を有するマスクｉを使用することに
より形成出来ると考えられたが、該マスクｉはそ
の走行方向に対して張力が掛り帯状物ｂの縦方向
には密着するがそして幅方向に対しては張力が作
用しないので帯状物ｂから浮き上り勝ちで横縞の
パターンにぼけを生ずる欠点があり、また油膜式
のものでは油を定位置で蒸発させ帯状物ｂを油蒸
発器ｇと相対的に走行させるので原理的に横縞の
形成は不可能である。
かかる横縞のパターンを形成出来ると例えばス
テンレス鋼板を基板としたアモルフアスシリコン
太陽電池の製造工程に於て電極パターンを薄膜形
成と同時に直接形成出来、従来のような薄膜形成
後に電極パターンの形成のためのエツチング等の
工程を省略し得て好都合である。
テンレス鋼板を基板としたアモルフアスシリコン
太陽電池の製造工程に於て電極パターンを薄膜形
成と同時に直接形成出来、従来のような薄膜形成
後に電極パターンの形成のためのエツチング等の
工程を省略し得て好都合である。
本発明は帯状物に角形等の幅方向の縞模様を形
成することを目的としたもので、真空室内に設け
た蒸発源等の薄膜形成物質発生装置に対向させて
プラスチツクフイルム等の帯状物を走行させ、該
帯状物の前面の膜形成面に該発生装置からの物質
の薄膜を形成するものに於て、該帯状物の膜形成
面に沿つてこれと共に走行自在にパターン形成用
透孔を備えた磁性材料のマスクを設け、該帯状物
の背面に、該マスクを吸引して該帯状物に密接さ
せる磁石を設け、さらに該帯状物と該磁石との間
に該帯状物の背面に沿わせて非磁性材料の板状体
を設けて成る。
成することを目的としたもので、真空室内に設け
た蒸発源等の薄膜形成物質発生装置に対向させて
プラスチツクフイルム等の帯状物を走行させ、該
帯状物の前面の膜形成面に該発生装置からの物質
の薄膜を形成するものに於て、該帯状物の膜形成
面に沿つてこれと共に走行自在にパターン形成用
透孔を備えた磁性材料のマスクを設け、該帯状物
の背面に、該マスクを吸引して該帯状物に密接さ
せる磁石を設け、さらに該帯状物と該磁石との間
に該帯状物の背面に沿わせて非磁性材料の板状体
を設けて成る。
本発明の実施例を図面につき説明すれば、第４
図に於て１は真空室２内に設けた蒸発源からなる
薄膜形成物質発生装置、３は該装置１に膜形成面
３ａを対向させて走行するプラスチツクフイルム
等の帯状物を示し、該薄膜形成面３ａには薄膜物
質発生装置１から発生した薄膜形成物質が付着し
て薄膜が連続的に形成される。
図に於て１は真空室２内に設けた蒸発源からなる
薄膜形成物質発生装置、３は該装置１に膜形成面
３ａを対向させて走行するプラスチツクフイルム
等の帯状物を示し、該薄膜形成面３ａには薄膜物
質発生装置１から発生した薄膜形成物質が付着し
て薄膜が連続的に形成される。
以上の構成は通常の連続薄膜形成装置と特に変
わりがないが、本発明のものでは該膜形成面３ａ
に該帯状物３の幅方向の縞模様を形成するために
該帯状物３と共に走行自在に角形等のパターン形
成用透孔４を備えた磁性材料のマスク５を設け、
該帯状物３の背面に該マスク５を吸引する電磁石
等の磁石６を設けるようにしたもので、該磁石６
の磁力線６ａの力により該マスク５が帯状物３の
膜形成面３ａに密着し薄膜の縞模様特にその幅方
向の横縞がぼけることなく形成出来る。該マスク
５は第５図示の如くであり、そのパターン形成用
透孔４の形状は角形に限らず縦方向のマスク部５
ａと斜め或は横方向のマスク部５ｂ形成される形
状であつてもよい。７は帯状物３の背面に沿わせ
て設けた18―８ステンレ、Al，Cu等の非磁性体
の板状体で磁石６に吸引されて帯状物３がたわむ
ことを防止し、該板状体７も必要に応じて帯状物
３、マスク５と共に走行させることが可能であ
る。８は防着板、９は磁石６の鉄芯、１０はコイ
ルである。
わりがないが、本発明のものでは該膜形成面３ａ
に該帯状物３の幅方向の縞模様を形成するために
該帯状物３と共に走行自在に角形等のパターン形
成用透孔４を備えた磁性材料のマスク５を設け、
該帯状物３の背面に該マスク５を吸引する電磁石
等の磁石６を設けるようにしたもので、該磁石６
の磁力線６ａの力により該マスク５が帯状物３の
膜形成面３ａに密着し薄膜の縞模様特にその幅方
向の横縞がぼけることなく形成出来る。該マスク
５は第５図示の如くであり、そのパターン形成用
透孔４の形状は角形に限らず縦方向のマスク部５
ａと斜め或は横方向のマスク部５ｂ形成される形
状であつてもよい。７は帯状物３の背面に沿わせ
て設けた18―８ステンレ、Al，Cu等の非磁性体
の板状体で磁石６に吸引されて帯状物３がたわむ
ことを防止し、該板状体７も必要に応じて帯状物
３、マスク５と共に走行させることが可能であ
る。８は防着板、９は磁石６の鉄芯、１０はコイ
ルである。
第６図は薄膜形成物質発生装置１をスパツタリ
ングのカソードで構成した例を示し、これに於て
は帯状物３は繰出しロール１１から繰出され、そ
の背面の無端状の非磁性体の板状体７及びその前
面の無端状の磁性材料のマスク８と重合して該発
生装置１の上方を走行し、薄膜パターンが形成さ
れた帯状物３を巻取ロール１２に巻取るようにし
た。
ングのカソードで構成した例を示し、これに於て
は帯状物３は繰出しロール１１から繰出され、そ
の背面の無端状の非磁性体の板状体７及びその前
面の無端状の磁性材料のマスク８と重合して該発
生装置１の上方を走行し、薄膜パターンが形成さ
れた帯状物３を巻取ロール１２に巻取るようにし
た。
この作動を説明するに、プラスチツクフイル
ム、鋼板等の帯状物３の膜形成面３ａのパターン
形成用透孔４を備えたマスク５を重合し、蒸発源
等の薄膜物質発生装置１上を走行させると、帯状
物３の背面に設けた磁石６が該マスク５を吸引し
て膜形成面３ａに密着状態になる。
ム、鋼板等の帯状物３の膜形成面３ａのパターン
形成用透孔４を備えたマスク５を重合し、蒸発源
等の薄膜物質発生装置１上を走行させると、帯状
物３の背面に設けた磁石６が該マスク５を吸引し
て膜形成面３ａに密着状態になる。
該発生装置１から飛来する薄膜物質はパターン
形成用透孔４を介して膜形成面３ａに薄膜状に付
着するが、これとマスク５は密着状態にあるので
帯状物３とマスク５との間に薄膜物質が侵入せ
ず、該マスク５を外したとき帯状物３の縦方向の
みならず幅方向にも明瞭な輪郭の縞模様を形成出
来る。
形成用透孔４を介して膜形成面３ａに薄膜状に付
着するが、これとマスク５は密着状態にあるので
帯状物３とマスク５との間に薄膜物質が侵入せ
ず、該マスク５を外したとき帯状物３の縦方向の
みならず幅方向にも明瞭な輪郭の縞模様を形成出
来る。
このように本発明によれば走行する帯状物の膜
形成面に沿つてパターン形成用透孔を備えた磁性
材料のマスクを走行させ、該マスクを帯状物にそ
の背面の磁石で吸引して密着させるようにすると
共に帯状物の背面に沿わせた非磁性材料の板状体
により磁石に吸引されて帯状物がたわまないよう
にしたので、帯状物に連続的に形成される薄膜の
横縞パターンを明瞭となし得、成膜時に電極パタ
ーン等を同時に形成出来エツチング等の後処理工
程を省略出来る等の効果がある。
形成面に沿つてパターン形成用透孔を備えた磁性
材料のマスクを走行させ、該マスクを帯状物にそ
の背面の磁石で吸引して密着させるようにすると
共に帯状物の背面に沿わせた非磁性材料の板状体
により磁石に吸引されて帯状物がたわまないよう
にしたので、帯状物に連続的に形成される薄膜の
横縞パターンを明瞭となし得、成膜時に電極パタ
ーン等を同時に形成出来エツチング等の後処理工
程を省略出来る等の効果がある。
第１図及び第２図は従来例の斜視図、第３図は
マージンテープの１例の平面図、第４図は本発明
の実施例の截断側面図、第５図はそのマスクの１
例の平面図、第６図は本発明の変形例の截断側面
図である。 １…薄膜形成物質発生装置、２…真空室、３…
帯状物、３ａ…膜形成面、４…パターン形成用透
孔、５…マスク、６…磁石、７…板状体。
マージンテープの１例の平面図、第４図は本発明
の実施例の截断側面図、第５図はそのマスクの１
例の平面図、第６図は本発明の変形例の截断側面
図である。 １…薄膜形成物質発生装置、２…真空室、３…
帯状物、３ａ…膜形成面、４…パターン形成用透
孔、５…マスク、６…磁石、７…板状体。
Claims (1)
- １ 真空室内に設けた蒸発源等の薄膜形成物質発
生装置に対向させてプラスチツクフイルム等の帯
状物を走行させ、該帯状物の前面の膜形成面に該
発生装置からの物質の薄膜を形成するものに於い
て、該帯状物の膜形成面に沿つてこれと共に走行
自在にパターン形成用透孔を備えた磁性材料のマ
スクを設け、該帯状物の背面に該マスクを吸引し
て該帯状物に密接させる磁石を設け、さらに該帯
状物と該磁石との間に該帯状物の背面に沿わせて
非磁性材料の板状体を設けて成る連続薄膜形成装
置に於けるパターン形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5273783A JPS59179777A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 連続薄膜形成装置に於けるパタ−ン形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5273783A JPS59179777A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 連続薄膜形成装置に於けるパタ−ン形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59179777A JPS59179777A (ja) | 1984-10-12 |
| JPS6324065B2 true JPS6324065B2 (ja) | 1988-05-19 |
Family
ID=12923236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5273783A Granted JPS59179777A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 連続薄膜形成装置に於けるパタ−ン形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59179777A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1991006962A1 (en) * | 1989-10-26 | 1991-05-16 | Iomega Corporation | Method of manufacturing a magnetic recording head and mask used therefor |
| DE4100643C1 (ja) * | 1991-01-11 | 1991-10-31 | Leybold Ag, 6450 Hanau, De | |
| US6897164B2 (en) * | 2002-02-14 | 2005-05-24 | 3M Innovative Properties Company | Aperture masks for circuit fabrication |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5018974A (ja) * | 1973-06-22 | 1975-02-27 | ||
| JPS5770273A (en) * | 1980-10-16 | 1982-04-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method for fixing mask for vapor deposition |
| JPS57126967A (en) * | 1981-01-29 | 1982-08-06 | Fujitsu Ltd | Method for holding mask for film formation |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5170254U (ja) * | 1974-11-29 | 1976-06-03 |
-
1983
- 1983-03-30 JP JP5273783A patent/JPS59179777A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5018974A (ja) * | 1973-06-22 | 1975-02-27 | ||
| JPS5770273A (en) * | 1980-10-16 | 1982-04-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method for fixing mask for vapor deposition |
| JPS57126967A (en) * | 1981-01-29 | 1982-08-06 | Fujitsu Ltd | Method for holding mask for film formation |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59179777A (ja) | 1984-10-12 |
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