JP2541339B2 - マグネットチャック式基板ホルダ― - Google Patents
マグネットチャック式基板ホルダ―Info
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- JP2541339B2 JP2541339B2 JP2082604A JP8260490A JP2541339B2 JP 2541339 B2 JP2541339 B2 JP 2541339B2 JP 2082604 A JP2082604 A JP 2082604A JP 8260490 A JP8260490 A JP 8260490A JP 2541339 B2 JP2541339 B2 JP 2541339B2
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- JP
- Japan
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- substrate
- chuck type
- magnet chuck
- substrate holder
- type substrate
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、マグネットチャック式基板ホルダー、特
に、スパッタ装置,蒸着装置等の成膜装置全般に用いら
れる基板ホルダーに関する。
に、スパッタ装置,蒸着装置等の成膜装置全般に用いら
れる基板ホルダーに関する。
従来のマグネットチャック式基板ホルダーは基板マス
クに空気ぬきがなかったり、空気ぬきのための穴が設け
られていた。
クに空気ぬきがなかったり、空気ぬきのための穴が設け
られていた。
第3図は従来の一例を示す断面図、第4図は第3図に
示す従来例の平面図である。
示す従来例の平面図である。
第3図,第4図に示すマグネットチャック式基板ホル
ダーは、円板状の基板取付台1の上に円板状の基板2が
載置され、この基板2は、基板マスク13,14が基板取付
台1と磁石によって引きつけあう力によって挟まれて固
定される。(埋めこまれている磁石は図では省略)。
ダーは、円板状の基板取付台1の上に円板状の基板2が
載置され、この基板2は、基板マスク13,14が基板取付
台1と磁石によって引きつけあう力によって挟まれて固
定される。(埋めこまれている磁石は図では省略)。
このようにして、基板2は基板取付台1に固定され、
この基板取付台1はスパッタ装置,蒸着装置等の成膜装
置に装着され、膜が基板2の上に形成される。
この基板取付台1はスパッタ装置,蒸着装置等の成膜装
置に装着され、膜が基板2の上に形成される。
しかしながら、第3図,第4図に示すマグネットチャ
ック式基板ホルダーは成膜中に基板マスク13,14が落ち
てしまうということが発生し、破損などの問題が生じ
た。この原因は、基板マスク13,14と基板2の表面の接
触面に空気層がとじこめられることによって固定時の基
板マスク13,14と基板取付台1との間隔が所定の値より
離れることによって磁力が弱まるためであることがわか
った。
ック式基板ホルダーは成膜中に基板マスク13,14が落ち
てしまうということが発生し、破損などの問題が生じ
た。この原因は、基板マスク13,14と基板2の表面の接
触面に空気層がとじこめられることによって固定時の基
板マスク13,14と基板取付台1との間隔が所定の値より
離れることによって磁力が弱まるためであることがわか
った。
第5図は従来の他の例を示す断面図、第6図は第5図
に示す従来例の平面図である。第5図,第6図に示すマ
グネットチャック式基板ホルダーは、基板マスク23,24
に空気ぬきのための穴25,26を設けたものである。
に示す従来例の平面図である。第5図,第6図に示すマ
グネットチャック式基板ホルダーは、基板マスク23,24
に空気ぬきのための穴25,26を設けたものである。
このように改造することにより成膜中に基板マスク2
が落下して歩留が低下するという問題はなくなったが、
空気ぬきから出入する空気により基板2上へゴミが付着
することにより、歩留が低下するという新たな問題が発
生した。
が落下して歩留が低下するという問題はなくなったが、
空気ぬきから出入する空気により基板2上へゴミが付着
することにより、歩留が低下するという新たな問題が発
生した。
すなわち、上述した従来のマグネットチャック式基板
ホルダーは、成膜中に基板や基板マスクが落下したり、
基板の上へのゴミ付着による歩留低下が起るという欠点
があった。
ホルダーは、成膜中に基板や基板マスクが落下したり、
基板の上へのゴミ付着による歩留低下が起るという欠点
があった。
本発明のマグネットチャック式基板ホルダーは、基板
取付台と、この基板取付台と協働して基板を磁力によっ
て挟みこの基板の表面の一部分が成膜されないように前
記基板を覆う基板マスクとを含むマグネットチャック式
基板ホルダーであり、前記基板マスクには空気ぬき用の
溝を前記基板と接する面に設けて構成される。
取付台と、この基板取付台と協働して基板を磁力によっ
て挟みこの基板の表面の一部分が成膜されないように前
記基板を覆う基板マスクとを含むマグネットチャック式
基板ホルダーであり、前記基板マスクには空気ぬき用の
溝を前記基板と接する面に設けて構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を用いて説明す
る。
る。
第1図は、本発明の一実施例を示す断面図、第2図は
第1図に示す実施例の断面図である。
第1図に示す実施例の断面図である。
第1図,第2図に示すマグネットチャック式基板ホル
ダーは、基板取付台と協働して磁力で基板2を挟むため
の基板マスク3,4の成膜面と反対側の面に空気ぬき用の
溝5,6を設けている。
ダーは、基板取付台と協働して磁力で基板2を挟むため
の基板マスク3,4の成膜面と反対側の面に空気ぬき用の
溝5,6を設けている。
すなわち、基板マスク3,4には空気ぬき用の溝5,6を基
板2と接する面に設けてあるため成膜を行なっても、空
気ぬきの溝5,6に成膜物がたまることがなく、それゆえ
成膜物の基板上にゴミが落ちて、付着し歩留が低下する
という問題もなく、良好な歩留が得られる。
板2と接する面に設けてあるため成膜を行なっても、空
気ぬきの溝5,6に成膜物がたまることがなく、それゆえ
成膜物の基板上にゴミが落ちて、付着し歩留が低下する
という問題もなく、良好な歩留が得られる。
本発明のマグネットチャック式基板ホルダーは基板マ
スクの空気ぬきを基板と接する面に設けたことにより、
空気ぬきから発生するゴミがないので歩留が良好とな
り、かつ、空気ぬきを設けていることにより、基板マス
クが落下するという問題も発生しないという効果があ
る。
スクの空気ぬきを基板と接する面に設けたことにより、
空気ぬきから発生するゴミがないので歩留が良好とな
り、かつ、空気ぬきを設けていることにより、基板マス
クが落下するという問題も発生しないという効果があ
る。
第1図は本発明の一実施例を示す断面図、第2図は第1
図に示す実施例の平面図、第3図は従来の一例を示す断
面図、第4図は第3図に示す従来例の平面図、第5図は
従来の他の例を示す断面図、第6図は第5図に示す従来
例の平面図である。 1……基板取付台、2……基板、3,4,13,14,23,24……
基板マスク、5,6……溝、25,26……穴。
図に示す実施例の平面図、第3図は従来の一例を示す断
面図、第4図は第3図に示す従来例の平面図、第5図は
従来の他の例を示す断面図、第6図は第5図に示す従来
例の平面図である。 1……基板取付台、2……基板、3,4,13,14,23,24……
基板マスク、5,6……溝、25,26……穴。
Claims (1)
- 【請求項1】基板取付台と、前記基板取付台と協同して
基板を磁力によって挟みこの基板の表面の一部分が成膜
されないように前記基板を覆う基板マスクとを含むマグ
ネットチャック式基板ホルダーにおいて、前記基板マス
クには空気ぬき用の溝を前記基板と接する面に設けたこ
とを特徴とするマグネットチャック式基板ホルダー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2082604A JP2541339B2 (ja) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | マグネットチャック式基板ホルダ― |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2082604A JP2541339B2 (ja) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | マグネットチャック式基板ホルダ― |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03281772A JPH03281772A (ja) | 1991-12-12 |
JP2541339B2 true JP2541339B2 (ja) | 1996-10-09 |
Family
ID=13779089
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2082604A Expired - Fee Related JP2541339B2 (ja) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | マグネットチャック式基板ホルダ― |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2541339B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4857668B2 (ja) * | 2005-09-01 | 2012-01-18 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置の製造装置、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置用マスク部材 |
US8149535B2 (en) | 2008-11-26 | 2012-04-03 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Magnetic and encapsulation contamination control for disk drives |
-
1990
- 1990-03-29 JP JP2082604A patent/JP2541339B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH03281772A (ja) | 1991-12-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |