JPS59179777A - 連続薄膜形成装置に於けるパタ−ン形成装置 - Google Patents
連続薄膜形成装置に於けるパタ−ン形成装置Info
- Publication number
- JPS59179777A JPS59179777A JP5273783A JP5273783A JPS59179777A JP S59179777 A JPS59179777 A JP S59179777A JP 5273783 A JP5273783 A JP 5273783A JP 5273783 A JP5273783 A JP 5273783A JP S59179777 A JPS59179777 A JP S59179777A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- mask
- strip
- pattern
- film forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は連続薄膜形成装置に於けるパターン形成装置に
関する。
関する。
従来真空室内に設けた蒸発源或はスパッタリングターゲ
ットの薄膜物質発生装置に対向させてプラスチックフィ
ルム等の帯状物を走行させ、該帯状物の前面の膜形成面
に該発生装置からの物質の薄膜を形成するととは行なわ
れているが、該薄膜の形成に際してこれにパターンを形
成することが要望される場合がある。
ットの薄膜物質発生装置に対向させてプラスチックフィ
ルム等の帯状物を走行させ、該帯状物の前面の膜形成面
に該発生装置からの物質の薄膜を形成するととは行なわ
れているが、該薄膜の形成に際してこれにパターンを形
成することが要望される場合がある。
かかる場合第１図示のように回転するキャンａに帯状物
すを捲回させて走行させると共にその膜形成面Ｃに沿っ
て例えば蒸発源ｄ等の薄膜形成物質発生装置から飛来す
る物質の付着を防ぐマージンテープｅ’（（同期走行さ
せるか或は第２図示のように帯状物すを油蒸気噴気口ｆ
を備えた油蒸発器ｇ上を通過させて膜形成面Ｃに飛来物
質の付着を防ぐ油膜りを形成し、該マージンテープｅ或
は油膜りの部分に物質の付着しない縦縞のパターンを得
るを一般とするもので、角形等の帯状物の幅方向の縞模
様を有する横縞〕くターンの形成が困難である不都合が
あった。こうした横縞のパターンは前記マージンテープ
ｅに代え例えば第６図示のような角形透孔を有するマス
ク１を使用することによ多形成出来ると考えられたが、
該マスク１はその走行方向に対して張力が掛り帯状物す
の縦方向には密着するがその幅方向に対しては張力が作
用しないので帯状物すから浮き上シ勝ちで横縞のパター
ンにほけを生ずる欠点があシ、また油膜式のものでは油
を定位置で蒸発させ帯状物すを油蒸発器ｇと相対的に走
行させるので原理的に横縞の形成は不可能である。
すを捲回させて走行させると共にその膜形成面Ｃに沿っ
て例えば蒸発源ｄ等の薄膜形成物質発生装置から飛来す
る物質の付着を防ぐマージンテープｅ’（（同期走行さ
せるか或は第２図示のように帯状物すを油蒸気噴気口ｆ
を備えた油蒸発器ｇ上を通過させて膜形成面Ｃに飛来物
質の付着を防ぐ油膜りを形成し、該マージンテープｅ或
は油膜りの部分に物質の付着しない縦縞のパターンを得
るを一般とするもので、角形等の帯状物の幅方向の縞模
様を有する横縞〕くターンの形成が困難である不都合が
あった。こうした横縞のパターンは前記マージンテープ
ｅに代え例えば第６図示のような角形透孔を有するマス
ク１を使用することによ多形成出来ると考えられたが、
該マスク１はその走行方向に対して張力が掛り帯状物す
の縦方向には密着するがその幅方向に対しては張力が作
用しないので帯状物すから浮き上シ勝ちで横縞のパター
ンにほけを生ずる欠点があシ、また油膜式のものでは油
を定位置で蒸発させ帯状物すを油蒸発器ｇと相対的に走
行させるので原理的に横縞の形成は不可能である。
かかる横縞のパターン全形成出来ると例えばステンレス
鋼板を基板としたアモルファスシリコン太＠電池の製造
工程に於て電極パターンを薄膜形成と同時に直接形成出
来、従来のような薄膜形成後に電極パターンの形成のた
めのエツチング等の工程を省略し得て好都合である。
鋼板を基板としたアモルファスシリコン太＠電池の製造
工程に於て電極パターンを薄膜形成と同時に直接形成出
来、従来のような薄膜形成後に電極パターンの形成のた
めのエツチング等の工程を省略し得て好都合である。
本発明は帯状物に角形等の幅方向の縞模様を形成するこ
とを目的としたもので、真空室内に設けた蒸発源等の薄
膜形成物質発生装置に対向させてプラスチックフィルム
等の帯状物を走行させ、該帯状物の前面の膜形成面に該
発生装置からの物質の薄膜を形成する式のものに於て、
該帯状物の膜形成面に沿ってこれと共に走行自在にパタ
ーン形成用透孔を備えた磁性材料のマスクを設け、該帯
状物の背面に、該マスク全吸引して該帯状物に密接させ
る磁石を設けて成る。
とを目的としたもので、真空室内に設けた蒸発源等の薄
膜形成物質発生装置に対向させてプラスチックフィルム
等の帯状物を走行させ、該帯状物の前面の膜形成面に該
発生装置からの物質の薄膜を形成する式のものに於て、
該帯状物の膜形成面に沿ってこれと共に走行自在にパタ
ーン形成用透孔を備えた磁性材料のマスクを設け、該帯
状物の背面に、該マスク全吸引して該帯状物に密接させ
る磁石を設けて成る。
本発明の実施例を図面につき説明すれば、第４図に於て
１０は真空室（２）内に設けた蒸発源からなる薄膜形成
物質発生装置、（３）に該装置（１）に膜形成面（３ａ
） ｉ対向させて走行するプラスチックフィルム等の帯
状物を示し、該薄膜形成面（６ａ）に−は薄膜物質発生
装置（１）から発生した薄膜形成物質が付着して薄膜が
連続的に形成をれる。
１０は真空室（２）内に設けた蒸発源からなる薄膜形成
物質発生装置、（３）に該装置（１）に膜形成面（３ａ
） ｉ対向させて走行するプラスチックフィルム等の帯
状物を示し、該薄膜形成面（６ａ）に−は薄膜物質発生
装置（１）から発生した薄膜形成物質が付着して薄膜が
連続的に形成をれる。
以上Ω構成は通常の連続薄膜形成装置と特に変わシがな
いが、本発明のものでは該膜形成面（６ａ）に該帯状物
（Ｘ３）の幅方向の縞模様を形成するために該帯状物（
３）と共に走行自在に角形等のパターン形成用透孔（４
）全備えた磁性材料のマスク（５）を設け、該帯状物（
３）の背面に該マスク（５）全吸引する電磁石等の磁石
（６）ヲ設けるようにしたもので、該磁石（６）の磁力
線（６ａ〕の力により該マスク＋５１が帯状物（３）の
膜形成面（３ａ）に密着し薄膜の縞模様特にその幅方向
の横縞がぼけることなく形成出来る。該マスク（５）は
第５図示の如くであシ、そのパターン形成用透孔（４）
の形状は角形に限らず縦方向のマスク部（５ａ）と斜め
或は横方向のマスク部（５ｂ）で形成される形状であっ
てもよい。（７）は帯状物（３）の背面に沿わせて設け
た１８−８ステンレス、 Ａ４０ｕ等の非磁性体の板状
体で磁石（６１に吸引されて帯状物（３）がたわむこと
を防止し、該板状体（７）も必要に応じて帯状物（３）
、マスク（５）と共に走行させることが可能である。（
８）は防着板、（９）は磁石（６）の鉄芯、αＱはコイ
ルである。
いが、本発明のものでは該膜形成面（６ａ）に該帯状物
（Ｘ３）の幅方向の縞模様を形成するために該帯状物（
３）と共に走行自在に角形等のパターン形成用透孔（４
）全備えた磁性材料のマスク（５）を設け、該帯状物（
３）の背面に該マスク（５）全吸引する電磁石等の磁石
（６）ヲ設けるようにしたもので、該磁石（６）の磁力
線（６ａ〕の力により該マスク＋５１が帯状物（３）の
膜形成面（３ａ）に密着し薄膜の縞模様特にその幅方向
の横縞がぼけることなく形成出来る。該マスク（５）は
第５図示の如くであシ、そのパターン形成用透孔（４）
の形状は角形に限らず縦方向のマスク部（５ａ）と斜め
或は横方向のマスク部（５ｂ）で形成される形状であっ
てもよい。（７）は帯状物（３）の背面に沿わせて設け
た１８−８ステンレス、 Ａ４０ｕ等の非磁性体の板状
体で磁石（６１に吸引されて帯状物（３）がたわむこと
を防止し、該板状体（７）も必要に応じて帯状物（３）
、マスク（５）と共に走行させることが可能である。（
８）は防着板、（９）は磁石（６）の鉄芯、αＱはコイ
ルである。
第６図は薄膜形成物質発生装置（１）全スパッタリング
のカソードで構成した例全示し、これに於ては帯状物（
３）は繰出しロールαυから繰出され、その背面の無端
状の非磁性体の板状体（７）及びその前面の無端状の磁
性材料のマスク（５）と重合して該発生装＠（１）の上
方を走行し、薄膜パターンが形成された帯状物（３１ｋ
巻取ロール（１２１に巻取るようにした。
のカソードで構成した例全示し、これに於ては帯状物（
３）は繰出しロールαυから繰出され、その背面の無端
状の非磁性体の板状体（７）及びその前面の無端状の磁
性材料のマスク（５）と重合して該発生装＠（１）の上
方を走行し、薄膜パターンが形成された帯状物（３１ｋ
巻取ロール（１２１に巻取るようにした。
その作動を説明するに、プラスチックフィルム。
鋼板等の帯状物（３）の膜形成面（３ａ）にパターン形
成用透孔（４）ヲ備えたマスクｔ５１ ”ｋ ｆｉ合し
、蒸発源等の薄膜物質発生装置ｉｌｌ上を走行させると
、帯状物（３）の背面に釦だ磁石（６）が該マスク（５
）を吸引して膜形成面（３ａ）に密着状態になる。
成用透孔（４）ヲ備えたマスクｔ５１ ”ｋ ｆｉ合し
、蒸発源等の薄膜物質発生装置ｉｌｌ上を走行させると
、帯状物（３）の背面に釦だ磁石（６）が該マスク（５
）を吸引して膜形成面（３ａ）に密着状態になる。
該発生装置［１１から飛来する薄膜物質はパターン形成
用透孔（４）を介して膜形成面（３＆）に薄膜状に付着
するが、これとマスク（５）は密着状態にあるので帯状
物（３）とマスク（５）との間に薄膜物質が侵入せず、
該マスク（５）ヲ外したとき帯状物（３）の縦方向のみ
ならず幅方向にも明瞭な輪郭の縞模様全形成出来る。
用透孔（４）を介して膜形成面（３＆）に薄膜状に付着
するが、これとマスク（５）は密着状態にあるので帯状
物（３）とマスク（５）との間に薄膜物質が侵入せず、
該マスク（５）ヲ外したとき帯状物（３）の縦方向のみ
ならず幅方向にも明瞭な輪郭の縞模様全形成出来る。
このように本発明によれば走行する帯状物の膜形成面に
沿ってパターン形成用透孔を備えた磁性材料のマスクを
走行させ、該マスク全帯状物にその背面の磁石で吸引し
て密着させるようにしたので、帯状物に連続的に形成さ
れる薄膜の横縞パターンを明瞭となし得、成膜時に電極
パターン等を同時に形成出来エツチング等の後処理工程
全省略出来る等の効果がある。
沿ってパターン形成用透孔を備えた磁性材料のマスクを
走行させ、該マスク全帯状物にその背面の磁石で吸引し
て密着させるようにしたので、帯状物に連続的に形成さ
れる薄膜の横縞パターンを明瞭となし得、成膜時に電極
パターン等を同時に形成出来エツチング等の後処理工程
全省略出来る等の効果がある。
第１図及び第２図は従来例の斜視図、第５図はマージン
テープの１例の平面図、第４図は本発明の実施例の截断
側面図、第５図はそのマスクの１例の平面図、第６図は
本発明の変形例の截断側面図である。 （１）・・・薄膜形成物質発生装置 （２）・・・真空室 （３）・・・帯状物 （５ａ）・・・膜形成面 （４）・・・パターン形成用透孔 （５）・・・マ ス り （６）・・・磁 石 外２名
テープの１例の平面図、第４図は本発明の実施例の截断
側面図、第５図はそのマスクの１例の平面図、第６図は
本発明の変形例の截断側面図である。 （１）・・・薄膜形成物質発生装置 （２）・・・真空室 （３）・・・帯状物 （５ａ）・・・膜形成面 （４）・・・パターン形成用透孔 （５）・・・マ ス り （６）・・・磁 石 外２名
Claims (1)
- 真空室内に設けた蒸発源等の薄膜形成物質発生装置に対
向させてプラスチックフィルム等の帯状物を走行させ、
該帯状物の前面の膜形成面に該発生装置ア・らの物質の
薄膜を形成する式のものに於て、該帯状物の膜形成面に
沿ってこれと共に走行自在にパターン形成用透孔を備え
た磁性材料のマスクを設け、該帯状物の背面に該マスク
を吸引して該帯状物に密接させる磁石を設けて成る連続
薄膜形成装置に於けるパターン形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5273783A JPS59179777A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 連続薄膜形成装置に於けるパタ−ン形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5273783A JPS59179777A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 連続薄膜形成装置に於けるパタ−ン形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59179777A true JPS59179777A (ja) | 1984-10-12 |
| JPS6324065B2 JPS6324065B2 (ja) | 1988-05-19 |
Family
ID=12923236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5273783A Granted JPS59179777A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 連続薄膜形成装置に於けるパタ−ン形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59179777A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1991006962A1 (en) * | 1989-10-26 | 1991-05-16 | Iomega Corporation | Method of manufacturing a magnetic recording head and mask used therefor |
| US5223038A (en) * | 1991-01-11 | 1993-06-29 | Leybold Ag | Apparatus for producing metal-free strips |
| EP2159303A2 (en) * | 2002-02-14 | 2010-03-03 | 3M Innovative Properties Company | Aperture masks for circuit fabrication |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5018974A (ja) * | 1973-06-22 | 1975-02-27 | ||
| JPS5170254U (ja) * | 1974-11-29 | 1976-06-03 | ||
| JPS5770273A (en) * | 1980-10-16 | 1982-04-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method for fixing mask for vapor deposition |
| JPS57126967A (en) * | 1981-01-29 | 1982-08-06 | Fujitsu Ltd | Method for holding mask for film formation |
-
1983
- 1983-03-30 JP JP5273783A patent/JPS59179777A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5018974A (ja) * | 1973-06-22 | 1975-02-27 | ||
| JPS5170254U (ja) * | 1974-11-29 | 1976-06-03 | ||
| JPS5770273A (en) * | 1980-10-16 | 1982-04-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method for fixing mask for vapor deposition |
| JPS57126967A (en) * | 1981-01-29 | 1982-08-06 | Fujitsu Ltd | Method for holding mask for film formation |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1991006962A1 (en) * | 1989-10-26 | 1991-05-16 | Iomega Corporation | Method of manufacturing a magnetic recording head and mask used therefor |
| US5223038A (en) * | 1991-01-11 | 1993-06-29 | Leybold Ag | Apparatus for producing metal-free strips |
| EP2159303A2 (en) * | 2002-02-14 | 2010-03-03 | 3M Innovative Properties Company | Aperture masks for circuit fabrication |
| EP2159303A3 (en) * | 2002-02-14 | 2010-09-29 | 3M Innovative Properties Company | Aperture masks for circuit fabrication |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6324065B2 (ja) | 1988-05-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH07175979A (ja) | 監視マーカーおよびその製造法 | |
| HK1012462A1 (en) | A method of manufacturing a thin film magnetic transducer | |
| KR20190082238A (ko) | 증착 마스크 | |
| GB1489679A (en) | Processes and apparatus for depositing magnetic material | |
| JPS59179777A (ja) | 連続薄膜形成装置に於けるパタ−ン形成装置 | |
| JPS57126967A (en) | Method for holding mask for film formation | |
| JPS5758245A (en) | Magnetic field orientation device for manufacturing vertical magnetic recording medium | |
| KR960704308A (ko) | 접촉 복제 테이프 소자기(contact duplication tape degausser) | |
| JPS5956579A (ja) | 複合メタルマスク | |
| KR100468792B1 (ko) | 기판과 쉐도우 마스크 고정장치 | |
| JPS63114998A (ja) | 金属条の連続部分めつき装置 | |
| JPS61246367A (ja) | マグネトロン型スパツタリング装置 | |
| JPS6342033A (ja) | 磁気記録媒体の製造装置 | |
| JP2541339B2 (ja) | マグネットチャック式基板ホルダ― | |
| JPS5839811Y2 (ja) | 缶材用接着剤塗布装置 | |
| JPS6027981B2 (ja) | ノンインバクト記録方法 | |
| JP2000144382A (ja) | パタン形成素子の製造装置およびその方法 | |
| JPS6484406A (en) | Manufacture of thin film magnetic head | |
| JPS63122018A (ja) | 金属薄膜磁気記録媒体の製造装置 | |
| JPS63210264A (ja) | 成膜方法 | |
| JPS6146922B2 (ja) | ||
| JPS5687664A (en) | Sputtering method | |
| JPS61110342A (ja) | 磁気記録媒体の配向装置 | |
| JPH0223526A (ja) | 金属薄膜の製造方法 | |
| JPH0585903B2 (ja) |