JPH0416546B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0416546B2 JPH0416546B2 JP59041843A JP4184384A JPH0416546B2 JP H0416546 B2 JPH0416546 B2 JP H0416546B2 JP 59041843 A JP59041843 A JP 59041843A JP 4184384 A JP4184384 A JP 4184384A JP H0416546 B2 JPH0416546 B2 JP H0416546B2
- Authority
- JP
- Japan
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- belt
- base film
- roller
- film
- concave surface
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Links
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- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 7
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 7
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の分野〕
この発明は、磁気記録テープを製造するため
に、長尺なベースフイルムに磁性材料を蒸着する
場合等に、同フイルムを所定の曲面に沿つて走行
させる方法に関する。
に、長尺なベースフイルムに磁性材料を蒸着する
場合等に、同フイルムを所定の曲面に沿つて走行
させる方法に関する。
従来における磁気記録テープの製造装置は、第
1図に示すようなもので、アンワインダーロール
3側から繰り出された高分子フイルム等のベース
フイルム2が冷却ドラム4に密着状態で添えられ
た後、ワインダーロール5側に巻き取られるよう
になつている。他方冷却ドラム4の下位には、強
磁性材料からなる蒸発源1が配置され、電子線の
照射等により、同蒸発源1から蒸発した蒸気の
内、ベースフイルム2に対して所定の成分(図示
の場合は垂直成分)の蒸気のみが入射角規制用の
マスク6に開設されたスリツト7を介して同フイ
ルム2に入射し、磁性膜を形成するようになつて
いる。
1図に示すようなもので、アンワインダーロール
3側から繰り出された高分子フイルム等のベース
フイルム2が冷却ドラム4に密着状態で添えられ
た後、ワインダーロール5側に巻き取られるよう
になつている。他方冷却ドラム4の下位には、強
磁性材料からなる蒸発源1が配置され、電子線の
照射等により、同蒸発源1から蒸発した蒸気の
内、ベースフイルム2に対して所定の成分(図示
の場合は垂直成分)の蒸気のみが入射角規制用の
マスク6に開設されたスリツト7を介して同フイ
ルム2に入射し、磁性膜を形成するようになつて
いる。
しかしながら、この従来の装置では、発生した
蒸気の内、狭いスリツト7を通過した僅かな蒸気
しか磁性膜の作製に寄与しないため、蒸着効率が
極めて低い。また、仮にスリツト7を相当狭くし
ても、これが有限の幅を持つていることから、ベ
ースフイルム2に対する蒸気の入射角も目的とす
る成分を中心として或る程度の幅を持つており、
厳密に或る一定の入射角成分を得ることが不可能
である。さらに、ベースフイルム2を冷却ドラム
4に密着状態で添えるためには、その間でベース
フイルム2にテンシヨンを与えなければならず、
蒸着中に同フイルム2に歪が生じるという欠点も
ある。
蒸気の内、狭いスリツト7を通過した僅かな蒸気
しか磁性膜の作製に寄与しないため、蒸着効率が
極めて低い。また、仮にスリツト7を相当狭くし
ても、これが有限の幅を持つていることから、ベ
ースフイルム2に対する蒸気の入射角も目的とす
る成分を中心として或る程度の幅を持つており、
厳密に或る一定の入射角成分を得ることが不可能
である。さらに、ベースフイルム2を冷却ドラム
4に密着状態で添えるためには、その間でベース
フイルム2にテンシヨンを与えなければならず、
蒸着中に同フイルム2に歪が生じるという欠点も
ある。
そこで本件発明者らは、上記のような問題を解
決するため、凹状の曲面に沿つて走行するベルト
とベースフイルムの間に電磁気的な吸引力を帯有
させ、ベースフイルムにベルトと同じ速度の送り
を与えながらこれをベルトに密着させて走行させ
るといつた方法を提案した。これによれば、例え
ば上記曲面の曲率中心上に蒸発源を配置すること
により、蒸気の入射角をマスクで規制することな
く、放射状に発射される蒸気のほゞ全てを垂直成
分としてベースフイルムに入射させることがで
き、また走行中に同フイルムが変形を受けること
もない。
決するため、凹状の曲面に沿つて走行するベルト
とベースフイルムの間に電磁気的な吸引力を帯有
させ、ベースフイルムにベルトと同じ速度の送り
を与えながらこれをベルトに密着させて走行させ
るといつた方法を提案した。これによれば、例え
ば上記曲面の曲率中心上に蒸発源を配置すること
により、蒸気の入射角をマスクで規制することな
く、放射状に発射される蒸気のほゞ全てを垂直成
分としてベースフイルムに入射させることがで
き、また走行中に同フイルムが変形を受けること
もない。
この方法において重要な点は、ベルトをどのう
ようにして所定の曲面に沿つて正確に走行させる
か、といつた点である。
ようにして所定の曲面に沿つて正確に走行させる
か、といつた点である。
この発明は、上記の点に鑑みてなされたもので
あつて、ベースフイルム走行用のベルトを所定の
凹面に沿つて正確に、かつ確実に走行させること
を目的とするものである。
あつて、ベースフイルム走行用のベルトを所定の
凹面に沿つて正確に、かつ確実に走行させること
を目的とするものである。
この発明による走行方法は、第2図で示すよう
に、平滑な凹面24にベルト14を添えて、同ベ
ルト14が同凹面24を滑りながら走行するよう
になし、かつこのとき上記凹面24の始点側でベ
ルト14に与えられる送りを、終点側において制
動しながら同ベルト14を送るようにしたもので
ある。
に、平滑な凹面24にベルト14を添えて、同ベ
ルト14が同凹面24を滑りながら走行するよう
になし、かつこのとき上記凹面24の始点側でベ
ルト14に与えられる送りを、終点側において制
動しながら同ベルト14を送るようにしたもので
ある。
この方法を図示の装置と共にさらに詳しく説明
すると、真空槽(図示せず、以下同じ)の中にジ
ヤケツト22が配置されており、このジヤケツト
22は、所定の曲率を持つた平滑な曲面状の凹面
24が形成されている。この凹面24の始点と終
点には、それぞれ駆動ローラ18と制動ローラ1
9とが配置され、さらにサブローラ20,21が
これら駆動ローラ18と制動ローラ19とにそれ
ぞれ転がり接触するよう配置されている。さら
に、上記駆動ローラ18と19との間にあつて、
前記凹面24の背後側に弛緩ローラ23が配置さ
れている。
すると、真空槽(図示せず、以下同じ)の中にジ
ヤケツト22が配置されており、このジヤケツト
22は、所定の曲率を持つた平滑な曲面状の凹面
24が形成されている。この凹面24の始点と終
点には、それぞれ駆動ローラ18と制動ローラ1
9とが配置され、さらにサブローラ20,21が
これら駆動ローラ18と制動ローラ19とにそれ
ぞれ転がり接触するよう配置されている。さら
に、上記駆動ローラ18と19との間にあつて、
前記凹面24の背後側に弛緩ローラ23が配置さ
れている。
ベルト14は、ステンレス等で作られた可撓性
を有するループ状の薄板帯状体からなる。そし
て、このベルト14は、まず前記駆動ローラ18
とサブローラ20とに挟まれて、駆動ローラ18
で送りが与えられる。他方、制動ローラ19側で
は、制動ローラ19とサブローラ21の間に挟ま
れ、制動ローラ19で制動(ブレーキング)され
る。このため、ベルト14は、この駆動ローラ1
8と制動ローラ19の間で長手方向に圧縮力を受
ける。従つて、この間のベルト14を凹面24側
に湾曲させると、上記圧縮力がベルト14を凹面
24に均一な力で押しつけるように働くため、ベ
ルト14は凹面24に張り付いた状態で、同凹面
24に沿つて滑りながら駆動ローラ18から制動
ローラ19に向けて走行する。
を有するループ状の薄板帯状体からなる。そし
て、このベルト14は、まず前記駆動ローラ18
とサブローラ20とに挟まれて、駆動ローラ18
で送りが与えられる。他方、制動ローラ19側で
は、制動ローラ19とサブローラ21の間に挟ま
れ、制動ローラ19で制動(ブレーキング)され
る。このため、ベルト14は、この駆動ローラ1
8と制動ローラ19の間で長手方向に圧縮力を受
ける。従つて、この間のベルト14を凹面24側
に湾曲させると、上記圧縮力がベルト14を凹面
24に均一な力で押しつけるように働くため、ベ
ルト14は凹面24に張り付いた状態で、同凹面
24に沿つて滑りながら駆動ローラ18から制動
ローラ19に向けて走行する。
さらに、ベルト14は、上記制動ローラ19か
ら凹面24に沿つて駆動ローラ18に至り、さら
に弛緩ローラ23を通つて駆動ローラ18に戻る
走行経路を循環する。ここで、ベルト14は上記
走行経路の全長より或る程度長くなつているた
め、弛緩ローラ23側の戻りの経路では、ベルト
14が長い分だけ緩んだ状態で走行する。
ら凹面24に沿つて駆動ローラ18に至り、さら
に弛緩ローラ23を通つて駆動ローラ18に戻る
走行経路を循環する。ここで、ベルト14は上記
走行経路の全長より或る程度長くなつているた
め、弛緩ローラ23側の戻りの経路では、ベルト
14が長い分だけ緩んだ状態で走行する。
この状態でアンワインダーロール13側から高
分子フイルム等の予め帯電したベースフイルム1
2を駆動ローラ18とサブローラ20との間に送
り、これを静電気による吸着力で上記ベルト14
に密着させて、同フイルム12をベルト14と共
に走行させる。さらにこのベースフイルム12
は、ベルト14に密着した状態で制動ローラ19
とサブローラ21の間を通過した後、ワインダー
ロール15に巻き取られる。
分子フイルム等の予め帯電したベースフイルム1
2を駆動ローラ18とサブローラ20との間に送
り、これを静電気による吸着力で上記ベルト14
に密着させて、同フイルム12をベルト14と共
に走行させる。さらにこのベースフイルム12
は、ベルト14に密着した状態で制動ローラ19
とサブローラ21の間を通過した後、ワインダー
ロール15に巻き取られる。
なお、第2図の装置では、この走行装置を磁気
記録媒体用の真空蒸着装置に適用している。すな
わち、ほぼ円筒面からなる上記凹面24の曲率中
心上に強磁性材料からなる蒸発源11が配置され
ている。そして、この蒸発源11から上記凹面2
4に張り付いて走行するベルト14部分のベース
フイルム12に同材料の蒸気が入射する。蒸発源
11から上記凹面24にあるベースフイルム12
の表面に引いた直線は何れも点でもほぼ垂直であ
り、従つて、蒸発源11から上記部分のベースフ
イルム12へは、蒸気がほぼ垂直に入射する。な
おここで、ジヤケツト22を冷却することによつ
て、ベルト14を介してベースフイルム12を冷
却することができる。
記録媒体用の真空蒸着装置に適用している。すな
わち、ほぼ円筒面からなる上記凹面24の曲率中
心上に強磁性材料からなる蒸発源11が配置され
ている。そして、この蒸発源11から上記凹面2
4に張り付いて走行するベルト14部分のベース
フイルム12に同材料の蒸気が入射する。蒸発源
11から上記凹面24にあるベースフイルム12
の表面に引いた直線は何れも点でもほぼ垂直であ
り、従つて、蒸発源11から上記部分のベースフ
イルム12へは、蒸気がほぼ垂直に入射する。な
おここで、ジヤケツト22を冷却することによつ
て、ベルト14を介してベースフイルム12を冷
却することができる。
以上のようにしてこの発明によれば、ベルト1
4を所定の凹面24に均一な力で密着させながら
走行させることができることから、これに吸着さ
せたベースフイルム12を上記凹面24に沿つて
正確、かつ確実に走行させることができる。
4を所定の凹面24に均一な力で密着させながら
走行させることができることから、これに吸着さ
せたベースフイルム12を上記凹面24に沿つて
正確、かつ確実に走行させることができる。
第1図は、従来のベースフイルムの走行装置を
示す説明図、第2図は、この発明の実施例を示す
説明図である。 12……ベースフイルム、14……ベルト、2
4……凹面。
示す説明図、第2図は、この発明の実施例を示す
説明図である。 12……ベースフイルム、14……ベルト、2
4……凹面。
Claims (1)
- 1 所定の曲面に沿つて走行するベルトと、ベー
スフイルムに、電磁気的吸引力を帯有させ、かつ
同ベルトの走行速度と等しい速度の送りをベース
フイルムに与えながら、同フイルムをベルトの凹
面側に密着させ、当該密着状態で同フイルムを上
記曲面に沿つて走行させるようにしたベースフイ
ルムの曲面走行方法において、平滑な凹面にベル
トを当て、同凹面の始点でベルトに凹面側への送
りを与え、同凹面の終点で同ベルトの送りを制動
するようにしたことを特徴とするベースフイルム
の曲面走行方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4184384A JPS60187676A (ja) | 1984-03-05 | 1984-03-05 | ベ−スフイルムの曲面走行方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4184384A JPS60187676A (ja) | 1984-03-05 | 1984-03-05 | ベ−スフイルムの曲面走行方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60187676A JPS60187676A (ja) | 1985-09-25 |
JPH0416546B2 true JPH0416546B2 (ja) | 1992-03-24 |
Family
ID=12619533
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4184384A Granted JPS60187676A (ja) | 1984-03-05 | 1984-03-05 | ベ−スフイルムの曲面走行方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60187676A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2806442B2 (ja) * | 1990-11-30 | 1998-09-30 | 豊田紡織株式会社 | 繊維集積体の製造方法 |
CH692000A5 (de) * | 1995-11-13 | 2001-12-31 | Unaxis Balzers Ag | Beschichtungskammer, Substratträger hierfür, Verfahren zum Vakuumbedampfen sowie Beschichtungsverfahren. |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4716621U (ja) * | 1971-03-27 | 1972-10-26 | ||
JPS5798142A (en) * | 1980-12-08 | 1982-06-18 | Ricoh Co Ltd | Optical recording disk |
-
1984
- 1984-03-05 JP JP4184384A patent/JPS60187676A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4716621U (ja) * | 1971-03-27 | 1972-10-26 | ||
JPS5798142A (en) * | 1980-12-08 | 1982-06-18 | Ricoh Co Ltd | Optical recording disk |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60187676A (ja) | 1985-09-25 |
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