JPS63239666A - 回転円板形記憶装置 - Google Patents
回転円板形記憶装置Info
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- JPS63239666A JPS63239666A JP62279259A JP27925987A JPS63239666A JP S63239666 A JPS63239666 A JP S63239666A JP 62279259 A JP62279259 A JP 62279259A JP 27925987 A JP27925987 A JP 27925987A JP S63239666 A JPS63239666 A JP S63239666A
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B17/00—Guiding record carriers not specifically of filamentary or web form, or of supports therefor
-
- G—PHYSICS
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- G11B17/02—Details
- G11B17/038—Centering or locking of a plurality of discs in a single cartridge
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B25/00—Apparatus characterised by the shape of record carrier employed but not specific to the method of recording or reproducing, e.g. dictating apparatus; Combinations of such apparatus
- G11B25/04—Apparatus characterised by the shape of record carrier employed but not specific to the method of recording or reproducing, e.g. dictating apparatus; Combinations of such apparatus using flat record carriers, e.g. disc, card
- G11B25/043—Apparatus characterised by the shape of record carrier employed but not specific to the method of recording or reproducing, e.g. dictating apparatus; Combinations of such apparatus using flat record carriers, e.g. disc, card using rotating discs
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- G11B33/00—Constructional parts, details or accessories not provided for in the other groups of this subclass
- G11B33/14—Reducing influence of physical parameters, e.g. temperature change, moisture, dust
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B33/14—Reducing influence of physical parameters, e.g. temperature change, moisture, dust
- G11B33/1406—Reducing the influence of the temperature
- G11B33/1413—Reducing the influence of the temperature by fluid cooling
- G11B33/142—Reducing the influence of the temperature by fluid cooling by air cooling
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は回転円板形記憶装置に関し、特に、装置内部の
塵埃除去及び冷却に好適な空気循環路構造を有する密閉
形の回転円板形記憶装置に関するものである。
塵埃除去及び冷却に好適な空気循環路構造を有する密閉
形の回転円板形記憶装置に関するものである。
従来の磁気ディスク装置などの回転円板形記憶装置では
、装置内部の塵埃の除去及び駆動系の冷却を行う構造と
して例えば特開昭５５−８６９２号公報に開示されてい
るように、磁気ディスクなどの回転円板をシュラウドで
囲み回転円板のアクセス機構を含む全体をカバーで密閉
し、外部から清浄空気を供給する強制給気方式がある。
、装置内部の塵埃の除去及び駆動系の冷却を行う構造と
して例えば特開昭５５−８６９２号公報に開示されてい
るように、磁気ディスクなどの回転円板をシュラウドで
囲み回転円板のアクセス機構を含む全体をカバーで密閉
し、外部から清浄空気を供給する強制給気方式がある。
また１例えば特開昭５８−２００４８０号公報に開示さ
れているように、回転円板の回転によって生じる装置内
部の空気循環流を利用する内部循環方式がある。
れているように、回転円板の回転によって生じる装置内
部の空気循環流を利用する内部循環方式がある。
上記従来技術のうち、強制給気方式の構造のものは、外
部からの塵埃及び湿気の侵入の危険性やブロワ設置のた
めの費用と空間が必要でコストの上昇と空間記憶密度の
低下を招く欠点がある。そこで、全体を密閉手段内に収
め、外部からの給気を中止して密閉形の内部循環方式の
構造とすると円板間に挿入されたトランスデユーサ支持
手段の上流側から密閉手段の駆動機構設置部側に流出し
た流れが、トランスデユーサ支持手段の下流側から再び
密閉手段の回転円板設置部側に逆流し、このために駆動
手段、特にガイド手段及びコイルから発生した塵埃が円
転円板設置部内に侵入し、トランスデユーサと回転円板
の間に流入してクラッシュ事故の原因となっていた、特
に、駆動機構設置部内に気体の濾過手段を設け、清浄に
した気体を回転円板設置部内に回流させる場合、濾過手
段における圧力損失のために駆動機構設置部の圧力が高
まり、前記逆流がますます強まる問題点があった。
部からの塵埃及び湿気の侵入の危険性やブロワ設置のた
めの費用と空間が必要でコストの上昇と空間記憶密度の
低下を招く欠点がある。そこで、全体を密閉手段内に収
め、外部からの給気を中止して密閉形の内部循環方式の
構造とすると円板間に挿入されたトランスデユーサ支持
手段の上流側から密閉手段の駆動機構設置部側に流出し
た流れが、トランスデユーサ支持手段の下流側から再び
密閉手段の回転円板設置部側に逆流し、このために駆動
手段、特にガイド手段及びコイルから発生した塵埃が円
転円板設置部内に侵入し、トランスデユーサと回転円板
の間に流入してクラッシュ事故の原因となっていた、特
に、駆動機構設置部内に気体の濾過手段を設け、清浄に
した気体を回転円板設置部内に回流させる場合、濾過手
段における圧力損失のために駆動機構設置部の圧力が高
まり、前記逆流がますます強まる問題点があった。
本発明の目的は、密閉手段内に回転円板と駆動機構が！
２置されている構造において、密閉手段の回転円板設置
部に汚染気体が侵入することのない信頼性の高い回転円
板形記憶装置を提供することにある。
２置されている構造において、密閉手段の回転円板設置
部に汚染気体が侵入することのない信頼性の高い回転円
板形記憶装置を提供することにある。
上記目的は、密閉手段を回転円板設置部と駆動機構設置
部に隔離する隔離手段と、回転円板設置部から駆動機構
設置部へ取気し、また、トランスデユーサ支持手段の移
動を許容する第１の開口部と、前記駆動機構設置部から
ろ過手段を備える排気手段を経て前記回転円板設置部へ
排気する第２の開口部と、回転円板設置部側において第
１の開口部側から第２の開口部側への流れを阻害するた
めの阻流手段とを備えることにより達成される。
部に隔離する隔離手段と、回転円板設置部から駆動機構
設置部へ取気し、また、トランスデユーサ支持手段の移
動を許容する第１の開口部と、前記駆動機構設置部から
ろ過手段を備える排気手段を経て前記回転円板設置部へ
排気する第２の開口部と、回転円板設置部側において第
１の開口部側から第２の開口部側への流れを阻害するた
めの阻流手段とを備えることにより達成される。
このような構成において、気密手段の駆動機構設置部側
の圧力は、回転円板設置部側におけるトランスデユーサ
支持手段の上流側の圧力の影響を受けにくくなり、第１
の開口部を通って回転円板設置部側から駆動機・構設置
部側へ流入する気体の大部分が、トランスデユーサ支持
手段の下流側から流入し、この流入した気体は、駆動機
構系を冷却したのち、排気手段のろ過手段を通ってろ過
された後、第２の開口部を通って回転円板設置部側に排
気される。
の圧力は、回転円板設置部側におけるトランスデユーサ
支持手段の上流側の圧力の影響を受けにくくなり、第１
の開口部を通って回転円板設置部側から駆動機・構設置
部側へ流入する気体の大部分が、トランスデユーサ支持
手段の下流側から流入し、この流入した気体は、駆動機
構系を冷却したのち、排気手段のろ過手段を通ってろ過
された後、第２の開口部を通って回転円板設置部側に排
気される。
以下、本発明の一実施例として、密閉形磁気ディスク装
置について説明する。この実施例では。
置について説明する。この実施例では。
複数の磁気ディスクが水平軸に立位状態で設けられてお
り、トランスデユーサが磁気ディスク面を半径方向に移
動する構造のものである。
り、トランスデユーサが磁気ディスク面を半径方向に移
動する構造のものである。
以下、本発明の一実施例を第１図乃至第３図により説明
する。第１図は断面側面図で、第２図の１−１’線矢視
断面を示している。第２図は第１図のｎ−ｎ’Ｈ矢視断
面図を示している。また第３図は第２図のｍ −ｉｔ’
線矢視断面の要部を示す図である。
する。第１図は断面側面図で、第２図の１−１’線矢視
断面を示している。第２図は第１図のｎ−ｎ’Ｈ矢視断
面図を示している。また第３図は第２図のｍ −ｉｔ’
線矢視断面の要部を示す図である。
回転軸］に装置された複数枚の円板である磁気ディスク
２は１図の矢印へ方向に回転する。トランスデユーサ３
はスライダ４に搭載され、さらに支持手段５によって、
搭載手段６に連接している。
２は１図の矢印へ方向に回転する。トランスデユーサ３
はスライダ４に搭載され、さらに支持手段５によって、
搭載手段６に連接している。
搭載手段６はボールベアリング７並びにガイドレール８
から成るガイド手段９に導かれて、トランスデユーサ３
の移動方向を磁気ディスク２の半径方向に規定する。こ
の搭載手段６はコイル１０及び磁石１１から成る駆動手
段１２によって磁気ディスク２の半径方向に移動する。
から成るガイド手段９に導かれて、トランスデユーサ３
の移動方向を磁気ディスク２の半径方向に規定する。こ
の搭載手段６はコイル１０及び磁石１１から成る駆動手
段１２によって磁気ディスク２の半径方向に移動する。
これらの全体は密閉手段１３によって囲まれている。磁
気ディスク２が設置されている回転円板設置部１４とガ
イド手段９＃、びに駆動手段１２とを設置した駆動機構
設置部１５とは、第１の隔離手段１６によって分られて
いる。前述の密閉手段１３は、円板設置部１４と駆動機
構設置部１５が別体で形成され、これらの設置部１４．
１５には例えばボルトにより一体的に結合するためのフ
ランジ１４Ａ、１５Ａが形成されている。前述の第１の
隔離手段１Ｇの外周縁は、前述の設置部１４，１５のフ
ランジ１４Ａ、１５Ａ間にシール部材３１を介在して位
置しており、設置部１４．１５の結合時に、シール性を
もたせて一体的に結合される。
気ディスク２が設置されている回転円板設置部１４とガ
イド手段９＃、びに駆動手段１２とを設置した駆動機構
設置部１５とは、第１の隔離手段１６によって分られて
いる。前述の密閉手段１３は、円板設置部１４と駆動機
構設置部１５が別体で形成され、これらの設置部１４．
１５には例えばボルトにより一体的に結合するためのフ
ランジ１４Ａ、１５Ａが形成されている。前述の第１の
隔離手段１Ｇの外周縁は、前述の設置部１４，１５のフ
ランジ１４Ａ、１５Ａ間にシール部材３１を介在して位
置しており、設置部１４．１５の結合時に、シール性を
もたせて一体的に結合される。
前述の第１の隔離手段１６には、第１の開口部１７が設
けられている。この第１の開口部１７は、トランスデユ
ーサ支持手段５の貫逍と半径方向の移動を許容すると共
に、回転円板設置部１４から駆動機構設置部１５へ取気
する開口でもある。この第１の開口部１７の開口位置は
、トランスデユーサ支持手段５よりも上流側の開口面積
（第２図のＤの範囲の部分の面積）が下流側の開口面精
（第２図のＥの範囲の部分の面積）の開口面積よりも小
さくなるように設定している。駆動Ｉ１％構設置部１５
内には搭載手段６の移動方式に沿って第２の隔離手段２
１が設けられている。そして、この第２の隔離手段２１
と駆動機構設置部１５とで形成される流路１９には気体
の濾過手段１８が設置され、その出口１８／ｌは第１の
隔渭手段１６に設けられた第２の開口部２０に連通して
いる。なお、この第２の隔離手段２１は、第１の隔離手
段１６、及び駆動機構設置部１５の内壁との結合面部に
シール部材３１を介在して結合され、流路１９を気密に
保っている。この濾過手段１８の出口１８ａから第２開
口部２０までは、第２の隔離手段２１によって駆動機構
設置部１５の他の部分とは隔離されている。これによっ
て、濾過手段１８と第２の開口部２０と第２の隔離手段
２１によって、排気手段２２を形成している。濾過手段
１８の入口１８ｂは、気流路２４によって駆動手段１２
の背面と連通している。第１の阻流手段２６は、密閉手
段１３の回転円板設置部１４側において第１の開口部１
７の下流側端縁２５と第２の開口部２０との間に位置す
るように設けている。
けられている。この第１の開口部１７は、トランスデユ
ーサ支持手段５の貫逍と半径方向の移動を許容すると共
に、回転円板設置部１４から駆動機構設置部１５へ取気
する開口でもある。この第１の開口部１７の開口位置は
、トランスデユーサ支持手段５よりも上流側の開口面積
（第２図のＤの範囲の部分の面積）が下流側の開口面精
（第２図のＥの範囲の部分の面積）の開口面積よりも小
さくなるように設定している。駆動Ｉ１％構設置部１５
内には搭載手段６の移動方式に沿って第２の隔離手段２
１が設けられている。そして、この第２の隔離手段２１
と駆動機構設置部１５とで形成される流路１９には気体
の濾過手段１８が設置され、その出口１８／ｌは第１の
隔渭手段１６に設けられた第２の開口部２０に連通して
いる。なお、この第２の隔離手段２１は、第１の隔離手
段１６、及び駆動機構設置部１５の内壁との結合面部に
シール部材３１を介在して結合され、流路１９を気密に
保っている。この濾過手段１８の出口１８ａから第２開
口部２０までは、第２の隔離手段２１によって駆動機構
設置部１５の他の部分とは隔離されている。これによっ
て、濾過手段１８と第２の開口部２０と第２の隔離手段
２１によって、排気手段２２を形成している。濾過手段
１８の入口１８ｂは、気流路２４によって駆動手段１２
の背面と連通している。第１の阻流手段２６は、密閉手
段１３の回転円板設置部１４側において第１の開口部１
７の下流側端縁２５と第２の開口部２０との間に位置す
るように設けている。
該第１の阻流手段２６は、磁気ディスク２の外周とわず
かの隙間を介して接近している。第１の阻流手段２６の
回転軸１に沿う方向の長さは、複数枚の磁気ディスク２
の両端側の磁気ディスク２ａ及び２ｂ間の長さが少なく
とも必要であって５本実施例では回転円板設置部１４の
両壁面間の長さとしている。
かの隙間を介して接近している。第１の阻流手段２６の
回転軸１に沿う方向の長さは、複数枚の磁気ディスク２
の両端側の磁気ディスク２ａ及び２ｂ間の長さが少なく
とも必要であって５本実施例では回転円板設置部１４の
両壁面間の長さとしている。
さらに第２図と第３図に示しているように前記両端側の
磁気ディスク２ａ及び２ｂと密閉手段１３の回転円板設
置部１４のそれらと対向する側壁２７ａ及び２７ｂとの
間には、第２の阻流手段２８が設けられている。第２の
阻流手段２８は、第１の阻流手段２６と同じように、第
１の開口部１７の下流側端縁２５と、第２の開口部２０
の間に位置するように設けられているにの第２の阻流手
段２８は、その磁気ディスク内径側の先端が、第１の阻
流手段２６の先端よりも内径側にあり、回転軸１の方向
には両端面側の磁気ディスク２ａ及び２ｂとの間に隙間
を有している。
磁気ディスク２ａ及び２ｂと密閉手段１３の回転円板設
置部１４のそれらと対向する側壁２７ａ及び２７ｂとの
間には、第２の阻流手段２８が設けられている。第２の
阻流手段２８は、第１の阻流手段２６と同じように、第
１の開口部１７の下流側端縁２５と、第２の開口部２０
の間に位置するように設けられているにの第２の阻流手
段２８は、その磁気ディスク内径側の先端が、第１の阻
流手段２６の先端よりも内径側にあり、回転軸１の方向
には両端面側の磁気ディスク２ａ及び２ｂとの間に隙間
を有している。
この第２の阻流手段２８は、前述の第１の阻流手段２６
と別体構造とし、前述の位置に配設されるように、回転
円板設置部１４の側壁２７ａ及び２７ｂに固定している
。またこれに代わり、第２の阻流手段２８は第１の阻流
手段２６と一体構造にしてもよい。
と別体構造とし、前述の位置に配設されるように、回転
円板設置部１４の側壁２７ａ及び２７ｂに固定している
。またこれに代わり、第２の阻流手段２８は第１の阻流
手段２６と一体構造にしてもよい。
このような構成において、複数枚の磁気ディスク２が第
１図における矢印５１方向に回転すると。
１図における矢印５１方向に回転すると。
磁気ディスク間の気体は磁気ディスクと同じ方向に回転
し、また回転円板設置部１４側における第１の隔離手段
１６近傍の流れも第４図の流線５２に示すように磁気デ
ィスク２の回転方向に流れる。
し、また回転円板設置部１４側における第１の隔離手段
１６近傍の流れも第４図の流線５２に示すように磁気デ
ィスク２の回転方向に流れる。
この流れに誘起されて、駆動機構設置部１５側における
第１の隔離手段１６近傍の流れも第４図の流線５３に示
すように流路５２に示す流れに沿うように流れる。この
流線５２と５３で示す流れは、第１の開口部１７に位置
する混合域５４で混合流となり、この混合流は、第１及
び第２の阻流手段２６及び２８にその流れが阻害される
。
第１の隔離手段１６近傍の流れも第４図の流線５３に示
すように流路５２に示す流れに沿うように流れる。この
流線５２と５３で示す流れは、第１の開口部１７に位置
する混合域５４で混合流となり、この混合流は、第１及
び第２の阻流手段２６及び２８にその流れが阻害される
。
このように、密閉手段１３の駆動機構設置部１５内の圧
力は、トランスデユーサ支持手段５の上流側の圧力の影
響を受けにくくなり、密閉手段１３の回転円板設置部１
４からの取気の大部分は、第１の開口部１７のトランス
デユーサ支持手段５の下流側から流入するようになる。
力は、トランスデユーサ支持手段５の上流側の圧力の影
響を受けにくくなり、密閉手段１３の回転円板設置部１
４からの取気の大部分は、第１の開口部１７のトランス
デユーサ支持手段５の下流側から流入するようになる。
また、排気手段２２を構成する第２の開口部２０の圧力
は、取気のための第１の開口部１７の圧力よりも十分に
低くなり、前記取気のための第１の開口部１７から駆動
機構設置部１５へ流入する流れを増やし、逆流が防止さ
れる。
は、取気のための第１の開口部１７の圧力よりも十分に
低くなり、前記取気のための第１の開口部１７から駆動
機構設置部１５へ流入する流れを増やし、逆流が防止さ
れる。
また、第２の阻流手段２８は、第１の阻流手段２６より
も磁気ディスク２の内径側まで延伸しているため、静止
壁面と磁気ディスク２間の流路において前記取気口であ
る第１の開口部１７に対向する部分の圧力が高まる。こ
れによって、磁気ディスク２にはさまれた流路の圧力の
高い気流が静止壁面と磁気ディスク２との間の流路に逆
流することがなくなる。
も磁気ディスク２の内径側まで延伸しているため、静止
壁面と磁気ディスク２間の流路において前記取気口であ
る第１の開口部１７に対向する部分の圧力が高まる。こ
れによって、磁気ディスク２にはさまれた流路の圧力の
高い気流が静止壁面と磁気ディスク２との間の流路に逆
流することがなくなる。
以上によって、濾過手段１８を通過しないで気密手段１
３の駆動機構部１５から回転円板設置部１４に逆流する
流れがなくなる６ 本実施例によれば、回転円板設置部１４から駆動機構設
置部１５に第１の開口部１７を通して取気した流れを、
すべて濾過手段１８を通過させて排気手段２２を経て回
転円板設置部１４に戻すことができる。したがって、塵
埃を含む汚染気体が回転円板設置部１４に挿入してクラ
ッシュ事故が発生することが防止でき、信頼性の高い密
閉形磁気ディスク装置を得ることができる。このことに
よって、外部給気手段の節約によるコスト低減効果と空
間記憶密度の向上効果が得られる。
３の駆動機構部１５から回転円板設置部１４に逆流する
流れがなくなる６ 本実施例によれば、回転円板設置部１４から駆動機構設
置部１５に第１の開口部１７を通して取気した流れを、
すべて濾過手段１８を通過させて排気手段２２を経て回
転円板設置部１４に戻すことができる。したがって、塵
埃を含む汚染気体が回転円板設置部１４に挿入してクラ
ッシュ事故が発生することが防止でき、信頼性の高い密
閉形磁気ディスク装置を得ることができる。このことに
よって、外部給気手段の節約によるコスト低減効果と空
間記憶密度の向上効果が得られる。
なお、本発明の技術手段は外部給気形磁気ディスクにお
いても１回転円板部から駆動機構部への流れを確実にし
、わずかの逆流も起させない効果を有することは勿論で
ある。
いても１回転円板部から駆動機構部への流れを確実にし
、わずかの逆流も起させない効果を有することは勿論で
ある。
第６図、第７図及び第８図は、本発明における第１の阻
流手段２６及び第２の阻流手段２８の他の例を示す斜視
図である。
流手段２６及び第２の阻流手段２８の他の例を示す斜視
図である。
これら各実施例は、いずれも、第１の阻流手段２６と第
２の阻流手段２８が一体構造となっている。そして、第
１の同流手段２６は、その磁気ディスク内径方向の長さ
が両端側から中央部側に向うに従って長くなるように構
成されている。
２の阻流手段２８が一体構造となっている。そして、第
１の同流手段２６は、その磁気ディスク内径方向の長さ
が両端側から中央部側に向うに従って長くなるように構
成されている。
本実施例の場合においては、トランスデユーサ支持手段
のうち、特に位置決めをつかさどるトランスデユーサの
支持手段は、その位置決めという役割の特殊性から、他
のデータを読み書きするためのトランスデユーサの支持
手段と多少形状が大きめになっている。このため、この
部分の下流側の圧力低下は、他の部分よりも大きくなっ
ている。
のうち、特に位置決めをつかさどるトランスデユーサの
支持手段は、その位置決めという役割の特殊性から、他
のデータを読み書きするためのトランスデユーサの支持
手段と多少形状が大きめになっている。このため、この
部分の下流側の圧力低下は、他の部分よりも大きくなっ
ている。
一般に、この様な位置決めをつかさどるトランスデユー
サは、装置の熱変形によるオフトラックをきらうため、
磁気ディスク２の積層方向に関して中央付近に配賄さ才
しる傾向にあり５本実施例の場合もその様になっている
。
サは、装置の熱変形によるオフトラックをきらうため、
磁気ディスク２の積層方向に関して中央付近に配賄さ才
しる傾向にあり５本実施例の場合もその様になっている
。
この様な磁気ディスク積層方向に関する阻流手段位置で
の圧力アンバランスは、他にも色々な原因で発生する。
の圧力アンバランスは、他にも色々な原因で発生する。
例えば、静止壁面と磁気ディスクの間の圧力は他の部分
に比べて低い。また、前述のような特別に形状の異なる
トランスデユーサ支持手段を使用することがなく、全て
同一形状のトランスデユーサ支持手段を用いた場合にも
、圧力のアンバランスが生じる。静止壁面と磁気ディス
クとの間の圧力低下を補うための第２の阻流手段２８の
阻流効果を十分なまでにするには、第１の開口部１７下
流端における第２の阻流手段２８の設置されている場所
での圧力分布は、逆に第１のμ■流手段２６設置場所よ
りも高いものとならざるを得ない。このため、この部分
には、第５図に示すような２次流れ５６が駆動機構設置
部１５側から誘起され、圧力のアンバランスを助長する
結果となる。他にも組み立て上の問題から第２図では回
転軸１と直交する中心線に対して左右対象の様に見える
回転円板設置部も、わずかに非対称になっているため、
圧力アンバランスも左右対称ですらない。ただし本例の
場合ではこの左右の非対称性は無視し得る程度であるた
め、第６図から第８図の例は左右対称となつ”Ｃいるが
、装置の設計上、非対称の大きなアンバランスがある場
合には、その状況に応じた非対称の阻流効果を有する阻
流板の形状にしなくてはならないことは、もちろんであ
る。
に比べて低い。また、前述のような特別に形状の異なる
トランスデユーサ支持手段を使用することがなく、全て
同一形状のトランスデユーサ支持手段を用いた場合にも
、圧力のアンバランスが生じる。静止壁面と磁気ディス
クとの間の圧力低下を補うための第２の阻流手段２８の
阻流効果を十分なまでにするには、第１の開口部１７下
流端における第２の阻流手段２８の設置されている場所
での圧力分布は、逆に第１のμ■流手段２６設置場所よ
りも高いものとならざるを得ない。このため、この部分
には、第５図に示すような２次流れ５６が駆動機構設置
部１５側から誘起され、圧力のアンバランスを助長する
結果となる。他にも組み立て上の問題から第２図では回
転軸１と直交する中心線に対して左右対象の様に見える
回転円板設置部も、わずかに非対称になっているため、
圧力アンバランスも左右対称ですらない。ただし本例の
場合ではこの左右の非対称性は無視し得る程度であるた
め、第６図から第８図の例は左右対称となつ”Ｃいるが
、装置の設計上、非対称の大きなアンバランスがある場
合には、その状況に応じた非対称の阻流効果を有する阻
流板の形状にしなくてはならないことは、もちろんであ
る。
第６図に示す実施例において、第１の阻流手段２６は多
数の歯２６Ａを有している。この歯２６Ａは両端側から
中央部に向って長く構成している。
数の歯２６Ａを有している。この歯２６Ａは両端側から
中央部に向って長く構成している。
また、特に中央部の１２６Ａは、磁気ディスク間に挿入
できるように、幅寸法を決めている。
できるように、幅寸法を決めている。
本実施例において、第１の阻流手段２６の構成は、磁気
ディスクの積層方向に対する圧力バランスを調整するこ
とが歯２６Ａの主要な目的であるから、あまり多くの循
環流量が必要でない場合には、第７図に示すように一部
分だけに歯２６Ａを配したり、第８図の様に中央部が磁
気ディスク側に突出する弧状にすることでも効果が得ら
れる。
ディスクの積層方向に対する圧力バランスを調整するこ
とが歯２６Ａの主要な目的であるから、あまり多くの循
環流量が必要でない場合には、第７図に示すように一部
分だけに歯２６Ａを配したり、第８図の様に中央部が磁
気ディスク側に突出する弧状にすることでも効果が得ら
れる。
第９図は本発明の他の実施例を示す断面側面図である。
この例において、第１図と同一符号は同一部分を示して
いる。回転円板設置部１４と駆動機構設置部を隔離する
第１の隔離手段１６は、トランスデユーサ支持手段５の
移動方向に垂直な複数の平面で構成されている。即ち、
第１０図に示すように、第１の開口部１７に対して上流
側の平面部１６ａが下流側の平面部１６ｂに対して駆動
機構設置部１５側に一定距離（第１０図では距離Ｄ）ず
れているように配設されている。さらに、第１の隔離手
段１６は、その上流側の平面部１６ａの下端部を、わず
かに駆動機構設置部】５側に曲げた傾斜部４１を設けて
いる。
いる。回転円板設置部１４と駆動機構設置部を隔離する
第１の隔離手段１６は、トランスデユーサ支持手段５の
移動方向に垂直な複数の平面で構成されている。即ち、
第１０図に示すように、第１の開口部１７に対して上流
側の平面部１６ａが下流側の平面部１６ｂに対して駆動
機構設置部１５側に一定距離（第１０図では距離Ｄ）ず
れているように配設されている。さらに、第１の隔離手
段１６は、その上流側の平面部１６ａの下端部を、わず
かに駆動機構設置部】５側に曲げた傾斜部４１を設けて
いる。
また、第１の隔離手段１６には、その下流側の平面部１
６ｂの上端部に第１の阻流手段２６及び第２の阻流手段
２８が設けられている。第１１図は、第１０図に示す構
造における気体の流れを示したものである、磁気ディス
ク２が矢印５１の方向に回転すると、回転円板設置部１
４側には、流線５２で示す磁気ディスク２の回転方向の
流れが生じる。また、駆動機構設置部１５側には、この
流れにより誘起される流線５３で示す流れが生じる。こ
れら流線５２及び５３で示す流れは第１の開口部１７に
位置する混合域５４で混合流となる。
６ｂの上端部に第１の阻流手段２６及び第２の阻流手段
２８が設けられている。第１１図は、第１０図に示す構
造における気体の流れを示したものである、磁気ディス
ク２が矢印５１の方向に回転すると、回転円板設置部１
４側には、流線５２で示す磁気ディスク２の回転方向の
流れが生じる。また、駆動機構設置部１５側には、この
流れにより誘起される流線５３で示す流れが生じる。こ
れら流線５２及び５３で示す流れは第１の開口部１７に
位置する混合域５４で混合流となる。
この混合域５４を通過する流れは、第１の隔ｇ２手段１
６の上流側変面部１６ａと下流側平面部１６ｂとの間に
距離りのずれが設けであるため、殆んど全て駆動機構設
置部１５側へと流れる。
６の上流側変面部１６ａと下流側平面部１６ｂとの間に
距離りのずれが設けであるため、殆んど全て駆動機構設
置部１５側へと流れる。
更に、上流側平面部１６ａの下端側に設けた傾斜部４１
の作用により、前述の混合域５４は上流側平面部１６ａ
の面よりは駆動機構設置部１５側に移行するため、前述
の流入効果は更に確実なものとなり、駆動機構設置部１
５から第１の開口部１７を経て回転円板設置部１４八逆
流することがなくなる。
の作用により、前述の混合域５４は上流側平面部１６ａ
の面よりは駆動機構設置部１５側に移行するため、前述
の流入効果は更に確実なものとなり、駆動機構設置部１
５から第１の開口部１７を経て回転円板設置部１４八逆
流することがなくなる。
第１２図及び第１３図は第１０図に示した取気促進構造
の変形例である。第１２図に示した構造は、第１の隔離
手段１６の上流側平面部１６ａと下流側平面部１６ｂと
の間に距離りのずれをもたせたものである。また、第１
３図に示す構造は。
の変形例である。第１２図に示した構造は、第１の隔離
手段１６の上流側平面部１６ａと下流側平面部１６ｂと
の間に距離りのずれをもたせたものである。また、第１
３図に示す構造は。
第１の隔離手段１６の上流側平面部１６ａと下流側平面
部１６ｂを同一平面とし、上流側平面部１６ａの下端側
に傾斜部４１を設けたものである。
部１６ｂを同一平面とし、上流側平面部１６ａの下端側
に傾斜部４１を設けたものである。
第１１図のような構造にするとトランスデユーサ支持手
段の下流側の流れを殆んど全て駆動機橋設置部１５側へ
流入させることができる。また、第１３図のような構造
にすると、回転円板設置部１４側からの気体を、トラン
スデユーサ支持手段の上流側から第１の隔離手段１６の
上流側平面部１６ａに沿わせて駆動機構設置部１５側に
流入させることができる。
段の下流側の流れを殆んど全て駆動機橋設置部１５側へ
流入させることができる。また、第１３図のような構造
にすると、回転円板設置部１４側からの気体を、トラン
スデユーサ支持手段の上流側から第１の隔離手段１６の
上流側平面部１６ａに沿わせて駆動機構設置部１５側に
流入させることができる。
以上述べてきたような阻流手段を第１の開口部下流端に
配することにより、磁気ディスク側の流れを限流すると
ともに、この阻流手段に沿う圧力バランスを整え逆流を
防止することは達成される。
配することにより、磁気ディスク側の流れを限流すると
ともに、この阻流手段に沿う圧力バランスを整え逆流を
防止することは達成される。
しかし、このとき形成される流れは、阻流手段のすこし
上流側では、はぼ磁気ディスクと平行になっていおり、
磁気ディスクの外周部にごく近い部分が駆動機構設置部
側からの流れとの混合流になっている。したがって、こ
の混合流を回転円板設置部側に返さないためには、この
阻流手段の設置角度が重要になる。阻流手段の磁気ディ
スク内径方向に伸長する部分のより先端に近い部分の流
れを、駆動機構設置部側に引き込むためには、主流に対
して、より急な角度に設計すれば良い。少なくとも阻流
手段はその設置場所と磁気ディスクの回転中心を結ぶ線
上よりは上流側へ傾斜していることが有効である。
上流側では、はぼ磁気ディスクと平行になっていおり、
磁気ディスクの外周部にごく近い部分が駆動機構設置部
側からの流れとの混合流になっている。したがって、こ
の混合流を回転円板設置部側に返さないためには、この
阻流手段の設置角度が重要になる。阻流手段の磁気ディ
スク内径方向に伸長する部分のより先端に近い部分の流
れを、駆動機構設置部側に引き込むためには、主流に対
して、より急な角度に設計すれば良い。少なくとも阻流
手段はその設置場所と磁気ディスクの回転中心を結ぶ線
上よりは上流側へ傾斜していることが有効である。
第１４図は、さらに本発明の他の実施例における第１の
隔離手段１６を示す。今までの説明からすでに明らかな
ように、これまでの例における第１の隔離手段１６の第
１の開口部１７から駆動機構設置部１５への気体の流出
は、その大部分が第１の開口部１７の下流端よりのわず
かな部分から行われる。
隔離手段１６を示す。今までの説明からすでに明らかな
ように、これまでの例における第１の隔離手段１６の第
１の開口部１７から駆動機構設置部１５への気体の流出
は、その大部分が第１の開口部１７の下流端よりのわず
かな部分から行われる。
従って、第１４図に示すように、前記の実施例における
第１の開口部１７をトランスデユーサ支持手段の移動を
許容する第３の開口部３５と１回転円板設置部１４から
駆動機構設置部１５へ地気するための第４の開口部３６
とに分けた第１の隔離手段１６も有効である。
第１の開口部１７をトランスデユーサ支持手段の移動を
許容する第３の開口部３５と１回転円板設置部１４から
駆動機構設置部１５へ地気するための第４の開口部３６
とに分けた第１の隔離手段１６も有効である。
この場合、第３の開口部３５と第４の開口部３６の間の
部分である中間壁３７の働きにより、前述の混合現象並
びにそれに伴う塵埃の回転円板設置部１４へのわずかな
侵入も発生しなくなる。
部分である中間壁３７の働きにより、前述の混合現象並
びにそれに伴う塵埃の回転円板設置部１４へのわずかな
侵入も発生しなくなる。
このため、より完全に塵埃の回転円板設置部１４への流
入が防止される。
入が防止される。
本実施例では、さらに第３の開口部３８の下流端部にそ
って、第１の隔離手段１６を切り分けて構成することに
より１組立を容易にすることができる。
って、第１の隔離手段１６を切り分けて構成することに
より１組立を容易にすることができる。
第１５図はさらに本発明の他の実施例における第１の隔
離手段１６を示す１本実施例においては。
離手段１６を示す１本実施例においては。
第３の開口部３５を複数個の貫通窓により構成すること
で、各窓間に形成される柱３８により、第４の開口部３
６より上流での気体の流出による回転円板設置部１４側
の圧力の低下及び、駆動機構設置部１５内の圧力の上昇
を防止することができる。これにより、第１の阻流手段
２６及び第２の阻流手段２８がより効果的に作用し、第
４の開口部３６を介してより多くの気体を流出させるこ
とが可能になる６ 第１６図はさらに本発明の他の実施例における第１の隔
離手段１６を示す０本実施例においては。
で、各窓間に形成される柱３８により、第４の開口部３
６より上流での気体の流出による回転円板設置部１４側
の圧力の低下及び、駆動機構設置部１５内の圧力の上昇
を防止することができる。これにより、第１の阻流手段
２６及び第２の阻流手段２８がより効果的に作用し、第
４の開口部３６を介してより多くの気体を流出させるこ
とが可能になる６ 第１６図はさらに本発明の他の実施例における第１の隔
離手段１６を示す０本実施例においては。
第４の開口部３６と第２の開口部２０をきわめて接近さ
せその境界に第１の阻流手段２６を設けた構造をとるこ
とによって、第１の阻流手段２６及び第２の阻流手段２
８の下流側の減圧効果をより有効に利用した。
せその境界に第１の阻流手段２６を設けた構造をとるこ
とによって、第１の阻流手段２６及び第２の阻流手段２
８の下流側の減圧効果をより有効に利用した。
第１７図はさらに本発明の他の実施例における第１の隔
離手段１６を示す０本実施例においては、第２図で示し
た実施例において第１の隔離手段１６の第１の開口部１
７に、前記第１５図の実施例と同様に複数の柱３８によ
りトランスデユーサ支持手段が貫通移動するための複数
の貫通窓を形成し、各窓間に形成される柱３８の効果の
みを利用する構成をした。この場合も先と同様の理由で
。
離手段１６を示す０本実施例においては、第２図で示し
た実施例において第１の隔離手段１６の第１の開口部１
７に、前記第１５図の実施例と同様に複数の柱３８によ
りトランスデユーサ支持手段が貫通移動するための複数
の貫通窓を形成し、各窓間に形成される柱３８の効果の
みを利用する構成をした。この場合も先と同様の理由で
。
流量増加が得られる。
以上説明したように１本発明によれば密閉手段の回転円
板設置部側に塵埃を含む汚染気体が侵入することがなく
、信頼性の高い記憶装置を得ることができる。
板設置部側に塵埃を含む汚染気体が侵入することがなく
、信頼性の高い記憶装置を得ることができる。
第１図は本発明の一実施例の断面側面図、第２図は第１
図のＩＴ −ＴＩ ’線矢視断面図、第３図は第２図の
ｍ−ｍ’線矢視断面の要部を示す図、第４図は第１図〜
第３図に示す構造における気体の流れを説明する図、第
５図は阻流手段中央付近における圧力分布発生原因の説
明図、第６図、第７図及び第８図は本発明における阻流
手段の他の例を示す斜視図、第９図は本発明の他の実施
例の断面側面図、第１０図は第９図における第１の隔離
手段を詳細に説明する斜視図、第１１図は第９図及び第
１０図に示す構造における気体の流れを説明する図、第
１２図及び第１３図は本発明における第１の隔離手段の
他の例を示す斜視図、第１４図から第１７図は本発明に
おける第１の隔離手段の更に他の例を示す斜視図である
。 ２・・・磁気ディスク、１４・・・回転円板設置部、１
５・・・駆動機構設置部、１６・・・第１の隔離手段、
１７・・・第１の開口部、２０・・・第２の開口部、２
１・・・第２の隔離手段、２２・・・排気手段、２６・
・・第１の阻流手段、２８・・・第２の阻流手段、４１
・・・傾斜部、／・１♂
図のＩＴ −ＴＩ ’線矢視断面図、第３図は第２図の
ｍ−ｍ’線矢視断面の要部を示す図、第４図は第１図〜
第３図に示す構造における気体の流れを説明する図、第
５図は阻流手段中央付近における圧力分布発生原因の説
明図、第６図、第７図及び第８図は本発明における阻流
手段の他の例を示す斜視図、第９図は本発明の他の実施
例の断面側面図、第１０図は第９図における第１の隔離
手段を詳細に説明する斜視図、第１１図は第９図及び第
１０図に示す構造における気体の流れを説明する図、第
１２図及び第１３図は本発明における第１の隔離手段の
他の例を示す斜視図、第１４図から第１７図は本発明に
おける第１の隔離手段の更に他の例を示す斜視図である
。 ２・・・磁気ディスク、１４・・・回転円板設置部、１
５・・・駆動機構設置部、１６・・・第１の隔離手段、
１７・・・第１の開口部、２０・・・第２の開口部、２
１・・・第２の隔離手段、２２・・・排気手段、２６・
・・第１の阻流手段、２８・・・第２の阻流手段、４１
・・・傾斜部、／・１♂
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、回転軸に装着された複数の円板と、この円板に対向
して移動可能に支持されたトランスデューサと、このト
ランスデューサを支持する支持手段と、このトランスデ
ューサ支持手段を所定の方向に移動させる駆動手段と、
これらを囲む密閉手段とを備えた回転円板形記憶装置で
あつて、 前記密閉手段を回転円板設置部と駆動機構設置部に隔離
する隔離手段と、 回転円板設置部から駆動機構設置部へ取気し、またトラ
ンスデューサ支持手段の移動を許容する第１の開口部と
、 前記駆動機構設置部に流入した気体をろ過手段を備える
排気手段を経て前記回転円板設置部へ排気する第２の開
口部と、 前記回転円板設置部側において、前記第１の開口部から
第２の開口部への流れを阻害する阻流手段と を備えたことを特徴とする回転円板形記憶装置。 ２、第１の開口部と第２の開口部は、回転円板設置部と
駆動機構設置を隔離する隔離手段に設けられていること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の回転円板形記
憶装置。 ３、第１の開口部は、前記トランスデューサ支持手段よ
りも上流側の開口面積が下流側の開口面積よりも小さく
なるように配設されていることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の回転円板形記憶装置。 ４、排気手段は、駆動機構設置部に設けられた隔離手段
により形成された流路と、この流路内に設けられたろ過
手段を備え、 前記流路のろ過手段入口側は駆動機構を経て第１の開口
部に連通し、流路のろ過手段出口側は第２の開口部に連
通していることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の回転円板形記憶装置。 ５、回転軸に装着された複数の円板と、この円板に対向
して移動可能に支持されたトランスデューサと、このト
ランスデューサを支持する支持手段と、このトランスデ
ューサ支持手段を所定の方向に移動させる駆動手段と、
これらを囲む密閉手段とを備えた回転円板形記憶装置で
あつて、 前記密閉手段を回転円板設置部と駆動機構設置部に隔離
する第１の隔離手段と、 回転円板設置部から駆動機構設置部へ取気し、またトラ
ンスデューサ支持手段の移動を許容する第１の開口部と
、 駆動機構設置部に、ろ過手段を備える排気手段を構成す
るための第２の隔離手段と、 前記駆動機構設置部に流入した気体を、前記排気手段を
経て前記回転円板設置部へ排気する第２の開口部と、 前記回転円板設置部側において、前記第１の開口部から
第２の開口部への流れを阻害する阻流手段であつて、複
数の円板からなる円板群の外周面側に位置する第１の阻
流手段と、円板群の両端面側とそれに対向する密閉手段
の側壁の間に位置する第２の阻流手段とを有するものと
、を備えたことを特徴とする回転円板形記憶装置。 ６、第１の開口部と第２の開口部は、第１の隔離手段に
設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第５項
記載の回転円板形記憶装置。 ７、第１の開口部は、前記トランスデューサ支持手段の
上流側の開口面積が下流側の開口面積より小さくなるよ
うに配設されていることを特徴とする特許請求の範囲第
５項記載の回転円板形記憶装置。 ８、第１の阻流手段と第２の阻流手段は一体的に構成さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第５項記載の
回転円板形記憶装置。 ９、回転軸に装着された複数の円板と、この円板に対向
して移動可能に支持されたトランスデューサと、このト
ランスデューサを支持する支持手段と、このトランスデ
ューサ支持手段を所定の方向に移動させる駆動手段と、
これらを囲む密閉手段とを備えた回転円板形記憶装置で
あつて、 前記密閉手段を回転円板設置部と駆動機構設置部に隔離
する第１の隔離手段と、 回転円板設置部から駆動機構設置部へ取気し、また、ト
ランスデューサ支持手段の移動を許容する第１の開口部
と、 駆動機構設置部に、ろ過手段を備える排気手段を構成す
るための第２の隔離手段と、 前記駆動機構設置部に流入した気体を、前記排気手段を
経て前記回転円板設置部へ排気する第２の開口部と、 前記回転円板設置部側において、前記第１の開口部から
第２の開口部への流れを阻害する阻流手段であつて、複
数の円板からなる円板群の外周側に位置し、阻流効果が
円板群の中央付近で大きく両端寄りで小さい圧力バラン
ス構造の第１の阻流手段と、回転円板群の両端面側とそ
れに対向する密閉手段の側壁の間に位置し、前記第１の
阻流手段の阻流効果より大きい阻流効果をもつ構造の第
２の阻流手段とを有するものと、 を備えたことを特徴とする回転円板形記憶装置。 １０、第１の阻流手段の前記円板群の外周と対向する縁
は、複数の歯をもつ櫛状とし、これらの歯は円板間の空
間部に対向していることを特徴とする特許請求の範囲第
９項記載の回転円板形記憶装置。 １１、第１の阻流手段の前記円板群の外周と対向する縁
は、中央付近で円板の回転中心に近く、両端寄りで回転
中心から遠い弧状をなしていることを特徴とする特許請
求の範囲第９項記載の回転円板形記憶装置。 １２、第１の阻流手段と第２の阻流手段は一体的に構成
されていることを特徴とする特許請求の範囲第９項記載
の回転円板形記憶装置。 １３、第１の開口部と第２の開口部は、第１の隔離手段
に設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第９
項に記載の回転円板形記憶装置。 手段の上流側の開口面積が下流側の開口面積より小さく
なるように配設されていることを特徴とする特許請求の
範囲第９項記載の回転円板形記憶装置。 １５、回転軸に装着された複数の円板と、この円板に対
向して移動可能に支持されたトランスデューサと、この
トランスデューサを支持する支持手段と、このトランス
デューサ支持手段を所定の方向に移動させる駆動手段と
、これらを囲む密閉手段とを備えた回転円板形記憶装置
であつて、 前記密閉手段を回転円板設置部と駆動機構設置部に隔離
する隔離手段と、 回転円板設置部から駆動機構設置部へ取気し、またトラ
ンスデューサ支持手段の移動を許容する第１の開口部と
、 前記駆動機構設置部に流入した気体を、ろ過手段を備え
る排気手段を経て前記回転円板設置部へ排気する第２の
開口部と、 を備え、 前記隔離手段は、第１の開口部を経て前記回転円板設置
部から前記駆動機構設置への流れを促進させる取気促進
構造に形成されていることを特徴とする回転円板形記憶
装置。 １６、回転円板設置部と駆動機構設置部を隔離する隔離
手段は、トランスデューサ支持手段の移動方向に垂直な
複数の平面で構成され、前記第１の開口部の上流側平面
部が下流側平面部よりも駆動機構側に位置していること
を特徴とする特許請求の範囲第１５項記載の回転円板形
記憶装置。 １７、隔離手段の上流側平面部には、その第１の開口部
側端に駆動機構側に曲げた傾斜部を設けたことを特徴と
する特許請求の範囲第１６項記載の回転円板形記憶装置
。 １８、回転円板設置部と駆動機構設置部を隔離する隔離
手段は、トランスデューサ支持手段の移動方向に垂直な
一つの平面で構成され、第１の開口部の上流側平面部に
は、その第１の開口部側端に、駆動機構側に曲げた傾斜
部を設けたことを特徴とする特許請求の範囲第１５項記
載の回転円板形記憶装置。 １９、トランスデューサを支持する支持手段と、このト
ランスデューサ支持手段を所定の方向に移動させる駆動
手段と、これらを囲む枠体手段と、この枠体手段に連な
る冷却気体の給排気手段とを備えたものであつて、 前記枠体手段に設けられ、駆動機構を冷却するための気
体を流入し、またトランスデューサの移動を許容する第
１の開口部と、 前記枠体手段内に設けられ、駆動機構を冷却した気体の
排気を行うためのろ過手段を備える排気手段と、 前記枠体手段に設けられ、前記排気手段からの気体を前
記給排気手段側に排気する第２の開口部と、 前記給排気手段側において、前記第１の開口部から第２
の開口部への流れを阻害する阻害手段と、 を備えたことを特徴とするトランスデューサの駆動機構
冷却構造。 ２０、回転軸に装着された複数の円板と、この円板に対
向して移動可能に支持されたトランスデューサと、この
トランスデューサを支持する支持手段と、このトランス
デューサ支持手段を所定の方向に移動させる駆動手段と
、これらを囲む密閉手段とを備えた回転円板形記憶装置
であつて、 前記密閉手段を回転円板設置部と駆動機構設置部に隔離
する隔離手段と、 回転円板設置部から駆動機構設置部へ取気し、またトラ
ンスデューサ支持手段の移動を許容する第１の開口部と
、 前記駆動機構設置部に流入した気体をろ過手段を備える
排気手段を経て前記回転円板設置部へ排気する第２の開
口部と、 前記回転円板設置部側において、前記第１の開口部から
第２の開口部への流れを阻害する阻流手段を備え、 前記阻流手段は、円板群の外周面側に位置する第１の阻
流手段と、円板群の両端面側とそれに対向する密閉手段
の側壁の間に位置する第２の阻流手段とを有し、第１の
阻流手段及び／又は第２の阻流手段の伸長方向は、円板
の回転中心方向もしくはそれよりも円板回転方向の上流
側に向いているものであること、 を特徴とする回転円板形記憶装置。 ２１、第１の阻流手段と第２の阻流手段は一体的に構成
されていることを特徴とする特許請求の範囲第２０項記
載の回転円板形記憶装置。 ２２、第１の開口部と第２の開口部は、第１の隔離手段
に設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第２
０項記載の回転円板形記憶装置。 ２３、第１の開口部は、トランスデューサ支持手段の上
流側の開口面積が下流側の開口面積より小さくなるよう
に配設されていることを特徴とする特許請求の範囲第２
０項記載の回転円板形記憶装置。 ２４、回転軸に装着された複数の円板と、この円板に対
向して移動可能に支持されたトランスデューサと、この
トランスデューサを支持する支持手段と、このトランス
デューサ支持手段を所定の方向に移動させる駆動手段と
、これらを囲む密閉手段とを備えた回転円板形記憶装置
であつて、 前記密閉手段を回転円板設置部と駆動機構設置部に隔離
する隔離手段と、 トランスデューサ支持手段の移動を許容する第３の開口
部と、 回転円板設置部から駆動機構設置部へ取気するための第
４の開口部と、 前記駆動機構設置部に流入した気体を、ろ過手段を備え
る排気手段を経て前記回転円板設置部へ排気する第２の
開口部と、 前記回転円板設置部側において、前記第１の開口部から
第２の開口部への流れを阻害する阻流手段と を備えたことを特徴とする回転円板形記憶装置。 ２５、第３の開口部は、複数のトランデューサ支持手段
を複数のグループに分けた各々の貫通と移動を許容する
複数の貫通窓から構成されていることを特徴とする特許
請求の範囲第２４項記載の回転円板形記憶装置。
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