JPS63230884A - リ−ドフレ−ム用析出強化型銅合金の表面処理方法 - Google Patents

リ−ドフレ−ム用析出強化型銅合金の表面処理方法

Info

Publication number
JPS63230884A
JPS63230884A JP6512687A JP6512687A JPS63230884A JP S63230884 A JPS63230884 A JP S63230884A JP 6512687 A JP6512687 A JP 6512687A JP 6512687 A JP6512687 A JP 6512687A JP S63230884 A JPS63230884 A JP S63230884A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
peroxide
fluoride
alloy
soluble fluoride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP6512687A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0692637B2 (ja
Inventor
Toru Tanigawa
徹 谷川
Masuo Fukuda
福田 益雄
Shoji Shiga
志賀 章二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Furukawa Electric Co Ltd filed Critical Furukawa Electric Co Ltd
Priority to JP62065126A priority Critical patent/JPH0692637B2/ja
Publication of JPS63230884A publication Critical patent/JPS63230884A/ja
Publication of JPH0692637B2 publication Critical patent/JPH0692637B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49579Lead-frames or other flat leads characterised by the materials of the lead frames or layers thereon
    • H01L23/49582Metallic layers on lead frames
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は主としてリードフレーム用析出強化型銅合金の
表面処理方法に関する。
〔従来の技術〕
一般にトランジスタやICなどの電子部品の実装には、
リードフレームが用いられている。リードフレームは中
央部分にSiチップを搭載するタブ部、その周囲にイン
ナーリード部、更にその外周にアウターリード部が設け
られた金属成形体で、タブ部にはSiチップがろう材に
よりグイボンドされ、Siチップとインナーリード部と
が金属細線によりワイヤーボンドされ、次いでタブ部と
インナーリード部とがレジンによりモールド封止され、
封止部より露出されたアウターリード部は5n−10%
pb合金などの半田が予備的にホットディップなどによ
りコーティングされる。
上記において、S+チップのグイボンド、ワイヤーボン
ド、モールド封止などの工程は通常大気中で150〜3
00℃に加熱して行われるため、アウターリード部に厚
い酸化膜が形成される。この酸化膜は通常のフラックス
では除去し得す、半田ぬれ性を著しく害する。そこで半
田コーティングに際しては、予め半田ぬれ性を良好にす
るとともに、レジン封止のパリとりで生じる加工変質層
を除去する目的で、アウターリード部表面を酸などで1
〜10μ溶解し除去することが行われる。
従来、リードフレームにはSn、Ni、Feなどが配合
された固溶型のCu合金が多用され、その表面処理には
廃液の処理が容易で、廉価な硫酸−過酸化水素系処理液
が主に用いられている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
近年、半導体パッケージの高密度化、小型化に伴って、
高強度、高導電性のリードフレームが要求されるように
なり、これに対応してCuマトリックス中に合金元素を
微細に析出させて強度と導電率の向上を計った析出強化
型銅合金が種々開発されている。
上記の析出物は金属または金属間化合物などからなり、
これらは従来の硫酸−過酸化水素系処理液によっては溶
解されずに銅合金表面に残留して、外観が黒色を呈しま
た半田ぬれ性を阻害するため、析出強化型銅合金をリー
ドフレームに実用していく上で重大な支障を来たしてい
る。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明はかかる状況に鑑みなされたちの゛で、その要旨
とするところは、析出合金元素を0.1〜5wt%(以
下%と略記)含有するリードフレーム用析出強化型銅合
金を、水に酸を10〜500g/ l、過酸化物を1〜
200g/ l、可溶性フッ化物を1〜50g/12の
濃度で溶解した処理液を用いて表面処理することを特徴
とするリードフレーム用析出強化型銅合金の表面処理方
法にある。
〔作用〕
上記において析出合金元素とは、Cuマトリックス中に
析出させて用いられる合金元素のことを言い、その析出
物は1種類の元素からなるものでも2種類以上の元素か
らなる金属間化合物でもよい、前者の代表例はCrであ
り、後者にはBe−Cu、Zr−Cu、Ti−Ni、T
i−Ni−5nSTi−Fe%Ti−Fe−5n、Ni
−3n、Ni−5t系の金属間化合物またはFe−P系
化合物などがある。析出合金元素の濃度は合計で0.1
〜5%が望ましいがその理由は、0.1%未満では析出
物量が少ないため、従来の処理液によっても良好な半田
ぬれ性が得られるためであり、また5%を超えると合金
の導電率ならびに加工性が著しく低下するためである。
実用上更に望ましくは0.5〜5%の濃度である。
尚、本発明は、強度の向上を計るために、析出合金元素
に加えてSnなどの固溶合金元素を添加した銅合金に適
用しても同様の効果がある。
本発明において、酸はCu合金表面の酸化膜を溶解する
作用を有する。酸としては、Cuの溶解度の高いものが
望ましく、硫酸、硝酸、塩酸、ホウフッ酸、スルファミ
ン酸などが用いられる。酸の濃度を10〜500g/ 
j!に限定した理由は、Log/ fl未滴ではその効
果が十分に発現されず、5QQg/ 1を超えると銅の
溶解度が著しく低下し、またコスト的にも不利になるた
めである。
過酸化物は、酸素イオンを遊離してCuを酸化させる作
用を有し、酸と共存してCuを溶解する。
過酸化物としては、過酸化水素(Lot)の他に過硫酸
アンモニウムなどの過硫酸塩が適用される。過酸化物の
濃度を1〜200g/ lに限定した理由は、1gノ2
未満ではその作用が十分に発現されず、200g/ l
を超えるとその作用が顕著となり反応熱により過酸化物
が自己分解して溶解速度がはやまり、制御が困難になる
ためである。
可溶性フッ化物とは、酸−過酸化物系処理液に溶解する
フッ素化合物のことで、このような可溶性フッ化物とし
ては、フッ化水素水、酸性フッ化アンモニウム、中性フ
ッカアンモニウム、酸性フッ化ナトリウム、中性フッ化
ナトリウム、酸性フッ化カリウム、中性フッ化カリウム
、フッ化アルミニウム、フッ化物カドミウム、フッ化マ
ンガン、フッ化ニッケル、フッ化亜鉛などがある。これ
らの可溶性フッ化物はフッ素イオンを遊離して析出物を
分解し溶解する作用を有する。可溶性フッ化物の濃度を
1〜50g/ lに限定した理由は、1g/2未満では
その作用が十分に発現されず、50g/ eを超えると
その効果が飽和するばかりでなく、溶解速度を著しく低
下させるためである。実用上望ましい濃度は5〜20g
/ lである。
フッ化ホウ素酸やフッ化珪素には上記のような効果がな
く、これはフッ素が処理液中で錯イオンとして存在する
ためと考えられる。
〔実施例〕
以下に本発明を実施例により詳細に説明する。
N1xSiの金属間化合物が析出した高強度コルソン合
金(Cu−3,0%N i −0,6%5i−0,5%
Zn)および5n−Ti−Ni系の金属間化合物が析出
したEFTEC−200合金(Cu−2,0%S n 
−0,25%T i −1,5%N i −0,5%Z
n)の条(0,25mm’)を70 X 30mの短冊
状に切り出し、これを電解脱脂後、HZ S O410
0g/ l、H,0□ 30g/ lを含有する酸溶解
液に第1表に示す各種可溶性フッ化物を添加した処理液
に浸漬して表面を約10μ溶解してのち、外観および半
田ぬれ性を調べた。尚、上記酸性液には、H,O□の安
定化剤として通常用いられるn−プロピルアルコールを
10g/ j!添加した。
半田ぬれ性はRAM型フラックス(ムラタ製作所ソルダ
ーライトL−35)を用い、235°Cの共晶半田浴に
3秒間ディップして半田付着面積を測定し、百分率であ
られした。
第1表より明らかなようにコルソン合金およびEFTE
C−200合金ともに、本発明法により処理したもの(
1〜16)は表面に析出物が残留しないため外観が美麗
で、半田ぬれ性が極めて優れている。これに対し従来法
により処理したもの(25,26)は、表面に析出物が
残留しているため外観が真黒色を呈し、半田ぬれ性は1
0%と低い値を示している。
比較法のうち、可溶性フッ化物の添加量が限定範囲を下
履るもの(17〜20.22〜24)は表面の析出物を
十分に除去できないため外観が黒褐色または真黒色を呈
し、半田ぬれ性も15〜30%と低い値である。またフ
ッ素が錯イオンとして存在するフッ化ホウ素酸(21)
は外観、半田ぬれ性ともに劣る。
可溶性フッ化物の濃度が限定範囲を超えるものは溶解速
度が速すぎて、実用的でないので特性調査から除外した
〔発明の効果〕
本発明によれば、従来の処理液に可溶性フッ化物を添加
するだけで、析出合金元素を含有するり一ドフレーム用
析出強化型銅合金の表面を、析出物が残留しない美麗な
半田ぬれ性に優れた面に処理できるので、電子部品の製
造などにおいて顕著な効果を奏する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 析出合金元素を0.1〜5wt%含有するリードフレー
    ム用析出強化型銅合金を、水に酸を10〜500g/l
    、過酸化物を1〜200g/l、可溶性フッ化物を1〜
    50g/lの濃度で溶解した処理液を用いて表面処理す
    ることを特徴とするリードフレーム用析出強化型銅合金
    の表面処理方法。
JP62065126A 1987-03-19 1987-03-19 リ−ドフレ−ム用析出強化型銅合金の表面処理方法 Expired - Fee Related JPH0692637B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62065126A JPH0692637B2 (ja) 1987-03-19 1987-03-19 リ−ドフレ−ム用析出強化型銅合金の表面処理方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62065126A JPH0692637B2 (ja) 1987-03-19 1987-03-19 リ−ドフレ−ム用析出強化型銅合金の表面処理方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63230884A true JPS63230884A (ja) 1988-09-27
JPH0692637B2 JPH0692637B2 (ja) 1994-11-16

Family

ID=13277868

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62065126A Expired - Fee Related JPH0692637B2 (ja) 1987-03-19 1987-03-19 リ−ドフレ−ム用析出強化型銅合金の表面処理方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0692637B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02232384A (ja) * 1989-03-07 1990-09-14 Kobe Steel Ltd 銅基合金の酸化皮膜除去方法
WO2007004645A1 (ja) * 2005-07-05 2007-01-11 The Furukawa Electric Co., Ltd. 電子機器用銅合金及びその製造方法
WO2007105800A1 (ja) * 2006-03-15 2007-09-20 Nihon Parkerizing Co., Ltd. 銅材料用表面処理液、銅材料の表面処理方法、表面処理皮膜付き銅材料、および積層部材

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4893542A (ja) * 1972-03-13 1973-12-04
JPS5240291A (en) * 1975-09-27 1977-03-29 Mitsubishi Electric Corp Tension controller
JPS6231059A (ja) * 1985-08-02 1987-02-10 Hitachi Ltd デイスク插入装置のリンク機構
JPS6250425A (ja) * 1985-08-29 1987-03-05 Furukawa Electric Co Ltd:The 電子機器用銅合金

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4893542A (ja) * 1972-03-13 1973-12-04
JPS5240291A (en) * 1975-09-27 1977-03-29 Mitsubishi Electric Corp Tension controller
JPS6231059A (ja) * 1985-08-02 1987-02-10 Hitachi Ltd デイスク插入装置のリンク機構
JPS6250425A (ja) * 1985-08-29 1987-03-05 Furukawa Electric Co Ltd:The 電子機器用銅合金

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02232384A (ja) * 1989-03-07 1990-09-14 Kobe Steel Ltd 銅基合金の酸化皮膜除去方法
WO2007004645A1 (ja) * 2005-07-05 2007-01-11 The Furukawa Electric Co., Ltd. 電子機器用銅合金及びその製造方法
US7946022B2 (en) 2005-07-05 2011-05-24 The Furukawa Electric Co., Ltd. Copper alloy for electronic machinery and tools and method of producing the same
WO2007105800A1 (ja) * 2006-03-15 2007-09-20 Nihon Parkerizing Co., Ltd. 銅材料用表面処理液、銅材料の表面処理方法、表面処理皮膜付き銅材料、および積層部材
KR101067993B1 (ko) 2006-03-15 2011-09-26 니혼 파커라이징 가부시키가이샤 구리재료용 표면처리액, 구리재료의 표면처리방법, 표면처리 피막 부착 구리재료, 및 적층부재

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0692637B2 (ja) 1994-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4559200A (en) High strength and high conductivity copper alloy
TWI286164B (en) Titanium stripping solution
JPS61183426A (ja) 高力高導電性耐熱銅合金
JPS63230884A (ja) リ−ドフレ−ム用析出強化型銅合金の表面処理方法
JPS6345338A (ja) 電子電気機器用銅合金とその製造法
JPS6215622B2 (ja)
JPS6215621B2 (ja)
JPH0440417B2 (ja)
JP2766605B2 (ja) ベアボンディング用銅合金リードフレーム
JPS62248596A (ja) 水溶性ハンダフラツクス及びそれを用いたハンダ付け方法
JPH02122035A (ja) 酸化膜密着性に優れた高力高導電銅合金
US5631091A (en) Bismuth coating protection for copper
JPH0575812B2 (ja)
JP3500239B2 (ja) 析出強化型銅合金製品の電解エッチング液および電解エッチング方法
JPS6214452A (ja) 半導体用リ−ドフレ−ム
JP2534917B2 (ja) 高強度高導電性銅基合金
JPH0480103B2 (ja)
JPH046101B2 (ja)
JPH0542488B2 (ja)
JPH03229835A (ja) 半田密着性に優れる電子部品用材料
JP2537301B2 (ja) 電子部品の製造方法
JPS62204558A (ja) リ−ドフレ−ム
JP3273193B2 (ja) 半田耐熱剥離性に優れた高強度高導電性銅基合金
JPH0512858B2 (ja)
JPS63219540A (ja) 端子・コネクタ−用高強度銅合金およびその製造法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees