JPS63230884A - リ−ドフレ−ム用析出強化型銅合金の表面処理方法 - Google Patents
リ−ドフレ−ム用析出強化型銅合金の表面処理方法Info
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- JPS63230884A JPS63230884A JP6512687A JP6512687A JPS63230884A JP S63230884 A JPS63230884 A JP S63230884A JP 6512687 A JP6512687 A JP 6512687A JP 6512687 A JP6512687 A JP 6512687A JP S63230884 A JPS63230884 A JP S63230884A
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-
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は主としてリードフレーム用析出強化型銅合金の
表面処理方法に関する。
表面処理方法に関する。
一般にトランジスタやICなどの電子部品の実装には、
リードフレームが用いられている。リードフレームは中
央部分にSiチップを搭載するタブ部、その周囲にイン
ナーリード部、更にその外周にアウターリード部が設け
られた金属成形体で、タブ部にはSiチップがろう材に
よりグイボンドされ、Siチップとインナーリード部と
が金属細線によりワイヤーボンドされ、次いでタブ部と
インナーリード部とがレジンによりモールド封止され、
封止部より露出されたアウターリード部は5n−10%
pb合金などの半田が予備的にホットディップなどによ
りコーティングされる。
リードフレームが用いられている。リードフレームは中
央部分にSiチップを搭載するタブ部、その周囲にイン
ナーリード部、更にその外周にアウターリード部が設け
られた金属成形体で、タブ部にはSiチップがろう材に
よりグイボンドされ、Siチップとインナーリード部と
が金属細線によりワイヤーボンドされ、次いでタブ部と
インナーリード部とがレジンによりモールド封止され、
封止部より露出されたアウターリード部は5n−10%
pb合金などの半田が予備的にホットディップなどによ
りコーティングされる。
上記において、S+チップのグイボンド、ワイヤーボン
ド、モールド封止などの工程は通常大気中で150〜3
00℃に加熱して行われるため、アウターリード部に厚
い酸化膜が形成される。この酸化膜は通常のフラックス
では除去し得す、半田ぬれ性を著しく害する。そこで半
田コーティングに際しては、予め半田ぬれ性を良好にす
るとともに、レジン封止のパリとりで生じる加工変質層
を除去する目的で、アウターリード部表面を酸などで1
〜10μ溶解し除去することが行われる。
ド、モールド封止などの工程は通常大気中で150〜3
00℃に加熱して行われるため、アウターリード部に厚
い酸化膜が形成される。この酸化膜は通常のフラックス
では除去し得す、半田ぬれ性を著しく害する。そこで半
田コーティングに際しては、予め半田ぬれ性を良好にす
るとともに、レジン封止のパリとりで生じる加工変質層
を除去する目的で、アウターリード部表面を酸などで1
〜10μ溶解し除去することが行われる。
従来、リードフレームにはSn、Ni、Feなどが配合
された固溶型のCu合金が多用され、その表面処理には
廃液の処理が容易で、廉価な硫酸−過酸化水素系処理液
が主に用いられている。
された固溶型のCu合金が多用され、その表面処理には
廃液の処理が容易で、廉価な硫酸−過酸化水素系処理液
が主に用いられている。
近年、半導体パッケージの高密度化、小型化に伴って、
高強度、高導電性のリードフレームが要求されるように
なり、これに対応してCuマトリックス中に合金元素を
微細に析出させて強度と導電率の向上を計った析出強化
型銅合金が種々開発されている。
高強度、高導電性のリードフレームが要求されるように
なり、これに対応してCuマトリックス中に合金元素を
微細に析出させて強度と導電率の向上を計った析出強化
型銅合金が種々開発されている。
上記の析出物は金属または金属間化合物などからなり、
これらは従来の硫酸−過酸化水素系処理液によっては溶
解されずに銅合金表面に残留して、外観が黒色を呈しま
た半田ぬれ性を阻害するため、析出強化型銅合金をリー
ドフレームに実用していく上で重大な支障を来たしてい
る。
これらは従来の硫酸−過酸化水素系処理液によっては溶
解されずに銅合金表面に残留して、外観が黒色を呈しま
た半田ぬれ性を阻害するため、析出強化型銅合金をリー
ドフレームに実用していく上で重大な支障を来たしてい
る。
本発明はかかる状況に鑑みなされたちの゛で、その要旨
とするところは、析出合金元素を0.1〜5wt%(以
下%と略記)含有するリードフレーム用析出強化型銅合
金を、水に酸を10〜500g/ l、過酸化物を1〜
200g/ l、可溶性フッ化物を1〜50g/12の
濃度で溶解した処理液を用いて表面処理することを特徴
とするリードフレーム用析出強化型銅合金の表面処理方
法にある。
とするところは、析出合金元素を0.1〜5wt%(以
下%と略記)含有するリードフレーム用析出強化型銅合
金を、水に酸を10〜500g/ l、過酸化物を1〜
200g/ l、可溶性フッ化物を1〜50g/12の
濃度で溶解した処理液を用いて表面処理することを特徴
とするリードフレーム用析出強化型銅合金の表面処理方
法にある。
上記において析出合金元素とは、Cuマトリックス中に
析出させて用いられる合金元素のことを言い、その析出
物は1種類の元素からなるものでも2種類以上の元素か
らなる金属間化合物でもよい、前者の代表例はCrであ
り、後者にはBe−Cu、Zr−Cu、Ti−Ni、T
i−Ni−5nSTi−Fe%Ti−Fe−5n、Ni
−3n、Ni−5t系の金属間化合物またはFe−P系
化合物などがある。析出合金元素の濃度は合計で0.1
〜5%が望ましいがその理由は、0.1%未満では析出
物量が少ないため、従来の処理液によっても良好な半田
ぬれ性が得られるためであり、また5%を超えると合金
の導電率ならびに加工性が著しく低下するためである。
析出させて用いられる合金元素のことを言い、その析出
物は1種類の元素からなるものでも2種類以上の元素か
らなる金属間化合物でもよい、前者の代表例はCrであ
り、後者にはBe−Cu、Zr−Cu、Ti−Ni、T
i−Ni−5nSTi−Fe%Ti−Fe−5n、Ni
−3n、Ni−5t系の金属間化合物またはFe−P系
化合物などがある。析出合金元素の濃度は合計で0.1
〜5%が望ましいがその理由は、0.1%未満では析出
物量が少ないため、従来の処理液によっても良好な半田
ぬれ性が得られるためであり、また5%を超えると合金
の導電率ならびに加工性が著しく低下するためである。
実用上更に望ましくは0.5〜5%の濃度である。
尚、本発明は、強度の向上を計るために、析出合金元素
に加えてSnなどの固溶合金元素を添加した銅合金に適
用しても同様の効果がある。
に加えてSnなどの固溶合金元素を添加した銅合金に適
用しても同様の効果がある。
本発明において、酸はCu合金表面の酸化膜を溶解する
作用を有する。酸としては、Cuの溶解度の高いものが
望ましく、硫酸、硝酸、塩酸、ホウフッ酸、スルファミ
ン酸などが用いられる。酸の濃度を10〜500g/
j!に限定した理由は、Log/ fl未滴ではその効
果が十分に発現されず、5QQg/ 1を超えると銅の
溶解度が著しく低下し、またコスト的にも不利になるた
めである。
作用を有する。酸としては、Cuの溶解度の高いものが
望ましく、硫酸、硝酸、塩酸、ホウフッ酸、スルファミ
ン酸などが用いられる。酸の濃度を10〜500g/
j!に限定した理由は、Log/ fl未滴ではその効
果が十分に発現されず、5QQg/ 1を超えると銅の
溶解度が著しく低下し、またコスト的にも不利になるた
めである。
過酸化物は、酸素イオンを遊離してCuを酸化させる作
用を有し、酸と共存してCuを溶解する。
用を有し、酸と共存してCuを溶解する。
過酸化物としては、過酸化水素(Lot)の他に過硫酸
アンモニウムなどの過硫酸塩が適用される。過酸化物の
濃度を1〜200g/ lに限定した理由は、1gノ2
未満ではその作用が十分に発現されず、200g/ l
を超えるとその作用が顕著となり反応熱により過酸化物
が自己分解して溶解速度がはやまり、制御が困難になる
ためである。
アンモニウムなどの過硫酸塩が適用される。過酸化物の
濃度を1〜200g/ lに限定した理由は、1gノ2
未満ではその作用が十分に発現されず、200g/ l
を超えるとその作用が顕著となり反応熱により過酸化物
が自己分解して溶解速度がはやまり、制御が困難になる
ためである。
可溶性フッ化物とは、酸−過酸化物系処理液に溶解する
フッ素化合物のことで、このような可溶性フッ化物とし
ては、フッ化水素水、酸性フッ化アンモニウム、中性フ
ッカアンモニウム、酸性フッ化ナトリウム、中性フッ化
ナトリウム、酸性フッ化カリウム、中性フッ化カリウム
、フッ化アルミニウム、フッ化物カドミウム、フッ化マ
ンガン、フッ化ニッケル、フッ化亜鉛などがある。これ
らの可溶性フッ化物はフッ素イオンを遊離して析出物を
分解し溶解する作用を有する。可溶性フッ化物の濃度を
1〜50g/ lに限定した理由は、1g/2未満では
その作用が十分に発現されず、50g/ eを超えると
その効果が飽和するばかりでなく、溶解速度を著しく低
下させるためである。実用上望ましい濃度は5〜20g
/ lである。
フッ素化合物のことで、このような可溶性フッ化物とし
ては、フッ化水素水、酸性フッ化アンモニウム、中性フ
ッカアンモニウム、酸性フッ化ナトリウム、中性フッ化
ナトリウム、酸性フッ化カリウム、中性フッ化カリウム
、フッ化アルミニウム、フッ化物カドミウム、フッ化マ
ンガン、フッ化ニッケル、フッ化亜鉛などがある。これ
らの可溶性フッ化物はフッ素イオンを遊離して析出物を
分解し溶解する作用を有する。可溶性フッ化物の濃度を
1〜50g/ lに限定した理由は、1g/2未満では
その作用が十分に発現されず、50g/ eを超えると
その効果が飽和するばかりでなく、溶解速度を著しく低
下させるためである。実用上望ましい濃度は5〜20g
/ lである。
フッ化ホウ素酸やフッ化珪素には上記のような効果がな
く、これはフッ素が処理液中で錯イオンとして存在する
ためと考えられる。
く、これはフッ素が処理液中で錯イオンとして存在する
ためと考えられる。
以下に本発明を実施例により詳細に説明する。
N1xSiの金属間化合物が析出した高強度コルソン合
金(Cu−3,0%N i −0,6%5i−0,5%
Zn)および5n−Ti−Ni系の金属間化合物が析出
したEFTEC−200合金(Cu−2,0%S n
−0,25%T i −1,5%N i −0,5%Z
n)の条(0,25mm’)を70 X 30mの短冊
状に切り出し、これを電解脱脂後、HZ S O410
0g/ l、H,0□ 30g/ lを含有する酸溶解
液に第1表に示す各種可溶性フッ化物を添加した処理液
に浸漬して表面を約10μ溶解してのち、外観および半
田ぬれ性を調べた。尚、上記酸性液には、H,O□の安
定化剤として通常用いられるn−プロピルアルコールを
10g/ j!添加した。
金(Cu−3,0%N i −0,6%5i−0,5%
Zn)および5n−Ti−Ni系の金属間化合物が析出
したEFTEC−200合金(Cu−2,0%S n
−0,25%T i −1,5%N i −0,5%Z
n)の条(0,25mm’)を70 X 30mの短冊
状に切り出し、これを電解脱脂後、HZ S O410
0g/ l、H,0□ 30g/ lを含有する酸溶解
液に第1表に示す各種可溶性フッ化物を添加した処理液
に浸漬して表面を約10μ溶解してのち、外観および半
田ぬれ性を調べた。尚、上記酸性液には、H,O□の安
定化剤として通常用いられるn−プロピルアルコールを
10g/ j!添加した。
半田ぬれ性はRAM型フラックス(ムラタ製作所ソルダ
ーライトL−35)を用い、235°Cの共晶半田浴に
3秒間ディップして半田付着面積を測定し、百分率であ
られした。
ーライトL−35)を用い、235°Cの共晶半田浴に
3秒間ディップして半田付着面積を測定し、百分率であ
られした。
第1表より明らかなようにコルソン合金およびEFTE
C−200合金ともに、本発明法により処理したもの(
1〜16)は表面に析出物が残留しないため外観が美麗
で、半田ぬれ性が極めて優れている。これに対し従来法
により処理したもの(25,26)は、表面に析出物が
残留しているため外観が真黒色を呈し、半田ぬれ性は1
0%と低い値を示している。
C−200合金ともに、本発明法により処理したもの(
1〜16)は表面に析出物が残留しないため外観が美麗
で、半田ぬれ性が極めて優れている。これに対し従来法
により処理したもの(25,26)は、表面に析出物が
残留しているため外観が真黒色を呈し、半田ぬれ性は1
0%と低い値を示している。
比較法のうち、可溶性フッ化物の添加量が限定範囲を下
履るもの(17〜20.22〜24)は表面の析出物を
十分に除去できないため外観が黒褐色または真黒色を呈
し、半田ぬれ性も15〜30%と低い値である。またフ
ッ素が錯イオンとして存在するフッ化ホウ素酸(21)
は外観、半田ぬれ性ともに劣る。
履るもの(17〜20.22〜24)は表面の析出物を
十分に除去できないため外観が黒褐色または真黒色を呈
し、半田ぬれ性も15〜30%と低い値である。またフ
ッ素が錯イオンとして存在するフッ化ホウ素酸(21)
は外観、半田ぬれ性ともに劣る。
可溶性フッ化物の濃度が限定範囲を超えるものは溶解速
度が速すぎて、実用的でないので特性調査から除外した
。
度が速すぎて、実用的でないので特性調査から除外した
。
本発明によれば、従来の処理液に可溶性フッ化物を添加
するだけで、析出合金元素を含有するり一ドフレーム用
析出強化型銅合金の表面を、析出物が残留しない美麗な
半田ぬれ性に優れた面に処理できるので、電子部品の製
造などにおいて顕著な効果を奏する。
するだけで、析出合金元素を含有するり一ドフレーム用
析出強化型銅合金の表面を、析出物が残留しない美麗な
半田ぬれ性に優れた面に処理できるので、電子部品の製
造などにおいて顕著な効果を奏する。
Claims (1)
- 析出合金元素を0.1〜5wt%含有するリードフレー
ム用析出強化型銅合金を、水に酸を10〜500g/l
、過酸化物を1〜200g/l、可溶性フッ化物を1〜
50g/lの濃度で溶解した処理液を用いて表面処理す
ることを特徴とするリードフレーム用析出強化型銅合金
の表面処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62065126A JPH0692637B2 (ja) | 1987-03-19 | 1987-03-19 | リ−ドフレ−ム用析出強化型銅合金の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62065126A JPH0692637B2 (ja) | 1987-03-19 | 1987-03-19 | リ−ドフレ−ム用析出強化型銅合金の表面処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63230884A true JPS63230884A (ja) | 1988-09-27 |
JPH0692637B2 JPH0692637B2 (ja) | 1994-11-16 |
Family
ID=13277868
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62065126A Expired - Fee Related JPH0692637B2 (ja) | 1987-03-19 | 1987-03-19 | リ−ドフレ−ム用析出強化型銅合金の表面処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0692637B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02232384A (ja) * | 1989-03-07 | 1990-09-14 | Kobe Steel Ltd | 銅基合金の酸化皮膜除去方法 |
WO2007004645A1 (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-11 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | 電子機器用銅合金及びその製造方法 |
WO2007105800A1 (ja) * | 2006-03-15 | 2007-09-20 | Nihon Parkerizing Co., Ltd. | 銅材料用表面処理液、銅材料の表面処理方法、表面処理皮膜付き銅材料、および積層部材 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4893542A (ja) * | 1972-03-13 | 1973-12-04 | ||
JPS5240291A (en) * | 1975-09-27 | 1977-03-29 | Mitsubishi Electric Corp | Tension controller |
JPS6231059A (ja) * | 1985-08-02 | 1987-02-10 | Hitachi Ltd | デイスク插入装置のリンク機構 |
JPS6250425A (ja) * | 1985-08-29 | 1987-03-05 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 電子機器用銅合金 |
-
1987
- 1987-03-19 JP JP62065126A patent/JPH0692637B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS4893542A (ja) * | 1972-03-13 | 1973-12-04 | ||
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US7946022B2 (en) | 2005-07-05 | 2011-05-24 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Copper alloy for electronic machinery and tools and method of producing the same |
WO2007105800A1 (ja) * | 2006-03-15 | 2007-09-20 | Nihon Parkerizing Co., Ltd. | 銅材料用表面処理液、銅材料の表面処理方法、表面処理皮膜付き銅材料、および積層部材 |
KR101067993B1 (ko) | 2006-03-15 | 2011-09-26 | 니혼 파커라이징 가부시키가이샤 | 구리재료용 표면처리액, 구리재료의 표면처리방법, 표면처리 피막 부착 구리재료, 및 적층부재 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0692637B2 (ja) | 1994-11-16 |
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Legal Events
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |