JPS6322845A

JPS6322845A - 耐光性の改善された高分子材料組成物

Info

Publication number: JPS6322845A
Application number: JP16636386A
Authority: JP
Inventors: Akihiro Ozawa; 小沢　昭博
Original assignee: MORISAWA SHOJI KK
Current assignee: MORISAWA SHOJI KK
Priority date: 1986-07-15
Filing date: 1986-07-15
Publication date: 1988-01-30

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、安定化された高分子材料組成物、詳しくは、
ヒンダードアミン系光安定剤及び特定の２−（２−ヒド
ロキシ−３−アリル−５−置換）工二ル）ベンゾトリア
ゾール化合物を含有し、光安定剤の改善された高分子材
料組成物に関する。

（従来の技術及び発明が解決しようとする問題点）ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ＡＢＳ樹脂。

ポリ塩化ビニル樹脂等の合成樹脂は紫外線に対して敏感
であり、その作用により色の悪化２機械的強度の低下等
を引き起こし、長期の使用に耐え１ｑないことが知られ
ている。

これらの害作用を防止するために、これまでにベンゾエ
ート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ピ
ペリジン系等の化合物が単独で用いられてきたが、これ
らの化合物は樹脂に着色を与えるものが多く、またその
効果も不十分であり、ざらに改良が望まれていた。

これらの化合物の中でもピペリジン系の化合物は非着色
剤あり、また光安定化効果も比較的大ぎいので近年特に
注目されている。

しかしながら、ピペリジン系化合物に代表されるヒンダ
ードアミン化合物は比較的優れた光安定剤であるが、単
独使用による効果は未だ不十分なものであった。このた
め、ピペリジン系化合物と紫外線吸収剤の中では比較的
源れた光安定剤でおるベンゾトリアゾール系化合物と併
用することが提案されているが、普通のベンゾトリアゾ
ール系化合物との併用による効果は相加的なものに過ぎ
ず、実用上は満足し１ｑるものではなかった。

（問題点を解決するための手段）本発明者らは、断る現状に鑑み、鋭意検討を重ねた結果
、ヒンダードアミン系光安定剤と特定の２−（２−ヒド
ロキシ−３−アリル−５置換）工二ル）ベンゾトリアゾ
ール化合物を併用して高分子材料に配合すると、それら
をそれぞれ単独使用した場合よりもその効果か著しく優
れていることを見出だし、本発明に到達した。本発明に
用いたベンゾトリアゾール化合物は、特公昭４１−１９
１７９号公報に記載されているごとく公知の化合物であ
るが、単独では光安定剤としての効果が小さく実用化さ
れていなかった。

しかし、このベンゾトリアゾール化合物は、−般に用い
られているベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤と異なり
、化合物中にアリル基を有してあり、この二重結合がヒ
ンダードアミン系光安定剤との相乗効果を高めているも
のと考えられる。

すなわち、本発明は、高分子材料１００重量部に、（ａ
＞ヒンダードアミン系光安定剤の少なくとも一種０．０
０１〜５重世部および（ｂ）次の一般式（Ｉ＞で表わさ
れる化合物のすくなくとね一種０．００１〜５重量部を
配合してなる、耐光性の改善された高分子材料組成物を
提供するものく式中、Ｒはアルキル基またはアラルキル
基を示し、Ｘは水素原子またはハロゲン原子を示す）以
下、本発明の高分子材料組成物について詳述する。

本発明で用いられるヒンダードアミン爪光安定具体的に
は次に示すようなものがあげられる。

Ｎｏ、１　４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テ
トラメチルピベリジンＮｏ、２　１−（３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニルオキシエチル）−４−（３，
５−シー第３ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオ
ニルオキシ）−２，２，６，６−チトラメチルピペリジ
ンＮｏ、３　４−（β−３−，５′−ジー第３ブチル−４
−−オキシフェニル−プロピオニルオキシ）−２，２，
６，６−テトラメチピペリジンＮｏ、４　　ヒス（２，２，６，６−テ１〜ラメチル−
４−ピペリジル〉セバセー１〜Ｎ００５　ビス（１，２，２，６，６−ベンタメチルー
４−ピペリジル）セパセードＮＯ，６ビス（１，２，２，６，６−ベンタメチルー４
−ピペリジル）−２−ブチル−２−＝（３，５−ジー第
３ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネートＮＯ，７ビス（１−アクリロイル〜２．２，６゜６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）−２，２−ビス（３，５
−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネー
トＮｏ、８　　ビス（９−アザ−８，８，１０，１０−
テｌ〜ラメチルー３−エチル−１，５−ジオキサスピロ
［５，５］−３−ウンデシルメチル）メチルイミノジア
セテートＮｏ、９　　ビス（２，２，６，６−テ１〜ラメチル−
４−ピペリジル−１−オキシル）セパセードＮｏ、１０　　トリス（２，２，６，６−テトラメヂル
ー４−ピペリジル）シトレートＮｏ、１１　１〜リス（２，２，６，６−テトラメヂル
ー４ピペリジル）ニトリロトリアレテートＮｏ、１２　　トリス（２，２，６，６−テ１〜ラメヂ
ルー４−ピペリジＪし）ブタントリカルボキシレートＮｏ、１３　１”リス（２，２，６，６−チトラメヂル
ー４−ピペリジル）！・リメリテートＮＯ，１４テトラ
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピ
ロメリテートＮＯ，１５テトラ（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）−１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサンテ１〜ラアセテートＮｏ、１６　　テトラ（２，２，６，６−テトラメチ−
４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカル
ボキシレートＮＯ，１７トリス（２，２，６，６−テトラメチ−４−
ピペリジル）・モノ（イソトリデシル１１，２．３．４
−ブタンテトラカルボキシレートＮＯ，１８テトラ（１，２，２，６，６−ベンタメチル
ー４−ピペリジル）−１，２，３゜４−ブタンテトラカ
ルボキシレートＮＯ，１９トリス（１，２，２，６，６−ベンタメチル
ー４−ピペリジル）・モノ（イソトリデシル）−１，２
，３，４−ブタンテトラカルボキシレートＮＯ，２０ビス（１，２，２，６，６−ベンタメチルー
４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４
−ブタンテトラカルホキシレー１〜Ｎｏ、２１　　ビス（２，２，６，６−ブトラメチル−
４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４
−ブタンテトラカルボキシレートＮｏ、２２　　ビス（２，２，６，６−テトラメヂルー
１−オキシルー４−ピペリジル）・ジトリデシル）−１
，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレートＮＯ，２３モノ（１，２，２，６，６−ベンタメチルー
４−ピペリジル）・モノメチルセバケートＮＯ，２４３，９−ビス［１，１−ジメヂルー２［トリ
ス（２，２，６，６−テトラメチ−４−ピペリジルオキ
シカルボニルチルカルボニルオキシ］エヂル］−２。

４、８．１０−テトラオキサスピロ［５。

５］ウンデカンＮｏ．２５　　３．９−ビス［１，１−ジメチル−２−
［トリス（１．２．２，６．６−ベンタメチルー４−ピ
ペリジルオキシカルボニル）ブチルカルボニルオキシ］
エチル］−２．４，８，１０−テトラオキサスピロ［５
．５］ウンデカンＮＯ．２６　　２，４，６−トリス（２，２，６．６−
テトラメチル−４−ピペリジルオキシ）−Ｓ−トリアジ
ンＮｏ．２７　　２−ジブチルアミノ−４，６ービス（９
−アザ−８．８，１０，１０−テトラメチル−３−エチ
ル−１，５−ジオキリスピロ［５．５］−３−ウンデシ
ルメトキシ）−ｓ−トリアジンＮｏ、２８Ｎ．Ｎ−−ビス［４，６ービス（９−アザ−
８．８，１０．１０−テトラメチル−３−エチル−１．
５−ジオキサスピロ［５．５］−３−ウンデシルメトキ
シ）−Ｓ−トリアジン−２−イルコピペラジンＮｏ．２９　　１．５，８．１２−テトラキス［４，、
６ービス［Ｎ−　（２，２．６．６−テトラメチル−４
−ピペリジル）ブチルアミノ］−１．３．５−トリアジ
ン−２−イル］ー１．５，８．１２ーテトラアザドデカ
ンＮｏ．３０　　ビス（９−アＩアー８．８，１０．１０
−テトラメチル−３−エチル−１，５−ジオキサスピロ
［５，５］−３−ウンデシルメチルＮＯ．３１　　ビス（９−アザ−８．８，１０．１０−
テトラメチル−３−エチル−１，５−ジオキサスピロ［
５．５］−３−ウンデシルメチル）・水添ビスフェノー
ルＡ・ジカーボネートＮｏ、３２　　ビス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）・ペンタエリスリトール令ジホスファ
イトＮｏ、３３　　ビス（９−アザ−８，８，１０，１０−
テトラメチル−３−エチル−１，５−ジオキサスピロ［
５，５］−３−ウンデシルメチル）・ペンタエリスリト
ール・ジホスファイトＮＯ，３４テトラ（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）・ビスフェノールＡ・ジホスファイトＮＯ，３５３，５−ジー第３ブチル−４−じドロキシベ
ンジル−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）ホスホネートＮｏ、３６　１−（２−ヒドロキシエチル−２，２゜６
．６−テトラメチル−４−ピペリジツール／コハク酸ジ
メチル重縮合物Ｎｏ、３７　２−第３オクチルアミノ−４，６−ジクロ
ロ−５−トリアジン／Ｎ、Ｎ−−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）へキリ−メチレンジ
アミン重縮合物Ｎｏ、３８　１．６−ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／ジグロムエタ
ン重縮合物Ｎｏ、３９　　ビス（９−アザ−８，８，１０，１０−
テトラメチル−３−ヒドロキシメチル−１，５−ジオキ
サスピロ［５，５］−３−ウンデシルメチル）エーテルＮｏ、４０　３−グリシジル−８−メチル−７，７゜９
．９−テトラメチル−１，３，８−１−ジアザスピロ［
４，５］デカン−２，４−シオンＮｏ、４１　３−ドデシル−８−アセチル−７，７゜９
．９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４
，５］デカン−２，４−ジオンＮｏ、４２３−オクチル−７，７，９，９−テトラメチ
ル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］デカン−２
，４−ジオンＮ０．４３　２，２，４．４−テトラメチル−７＝オキ
サ−３，２０−ジアザジスピロ［５゜１．１１．２］ヘ
ンエイコサン−２１−オンまた、本発明で用いられる前記一般式（Ｉ）で表わされ
る２−（２−ヒドロキシ−３−アリル−５置換）、エニ
ル）ベンゾトリアゾール化合物において、Ｒで示される
アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、第２ブチル、第３ブチ
ル、アミル、第３７ミル、ヘキシル、オクチル、２−エ
チルヘキシル、イソオクチル、１，１，３．３−テトラ
メチルブチル、ノニル、デシル、ドデシル等が挙げられ
、アラキル基としては、ベンジル、α−メヂルベンジル
、クミル等があげられる。

Ｘで示されるハロゲンとしては、塩素、臭素、ヨウ素、
フッ素があげられる。

従って、本発明で用いられる前記一般式（Ｉ）で示され
る２−（２−ヒドロキシ−３−アリル−５−置換フェニ
ル）ベンゾトリアゾール化合物としては、例えば次に示
す化合物があげられる。

ＡＢＴ−１２−（２−ヒドロキシ−３−アリル−５−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾールＡ５Ｔ−２２−（２−ヒドロキシ−３−アリル−５−第
３ブチルフエニル）ベンゾトリアゾールＡＢＴ−３２−（２−ヒドロキシ−３−アリル−５−第
３オクヂルフ工二ル）ベンゾトリアゾールＡＢＴ−４２−（２−ヒドロキシ−３−アリル−５−７
ミルフエニル）ベンゾトリアゾール本発明は、前記一般式（Ｉ）で表される化合物および前
記ヒンダードアミン系光安定剤を高分子材料に添加して
その安定性を改善するものであり、その添加母は、通常
、高分子材料１００重辺部に対し各々０．００１〜５重
母部、好ましくはＯ９０１〜３重量部である。

本発明における安定性改善の対象となる高分子材料とし
ては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリ−３−メチルブテン等のα−オレフィン重合
体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プ
ロピレン共重合体などのポリオレフィンおよびこれらの
共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、
塩素化ポリプロピレン、ポリフッ化ビニルデン、臭素化
ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プ
ロピレン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩
化ビニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビ
ニリデン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイ
ン酸三元共ｍ合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニ
トリル共重合体、塩化ビニル−ブタジェン共重合体、塩
化ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プ
ロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸
ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル
共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、
塩化ビニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニ
ル−アクリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビ
ニル等の含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂
、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリ
アクリロニトリル、スチレンと他の単但体（例えば無水
マレイン酸、ブタジェン、アクリロニトリル等）との共
重合体、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共重
合体、アクリル酸エステル−ブタジェン−スチレン共重
合体、メタクリル酸エステル−ブタジェン−スチレン共
重合体、ポリメチルメタクリレート等のメタクリレート
樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、
ポリニルブチラール、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リブチレンテレフタレート等の直鎖ポリエステル、ポリ
フェニレンオキシド、ポリアミド、ポリカーボネート、
ポリアセタール、ポリウレタン、ｌｌｉ維素系樹脂、あ
るいはフェノール樹脂、ユリア樹脂、メラニン樹脂、エ
ポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコン樹脂な
どをあげることができる。ざらに、イソプレンゴム、ブ
タジェンゴム、アクリロニトリル−ブタジェン共重合ゴ
ム、スチレン−ブタジェン共重合ゴム等のゴム類やこれ
らの樹脂のブレンド品であってもよい。

また、過酸化物あるいは放射線などによって架橋させた
架橋ポリエチレン等の架橋重合体および発泡剤によって
発泡させた発泡ポリスチレン等の発泡手合体も包含され
る。

本発明の組成物にざらに周知のフェノール系の抗酸化剤
を添加することによってその酸化安定匹を一層改善する
ことかできる。このフェノール系抗酸化剤としては例え
ば、２，６−ジー第３ブチル−ｐ−クレゾール、２，６
−ジフェニル−４−オクトキシフェノール、ステアリル
−（３，５−ジ−メチル−４−ヒドロキシベンジル）ヂ
オグリコレート、ステアリル−β−（４−ヒドロキシ＝
３．５−ジー第３ブチルフエニル）プロピオネート、ジ
ステアリル−３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、２．４．６−トリス（３′、５
−−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベンジルチオ）１
．３．５−トリアジン、ジステアリル（４−ヒドロキシ
−３−メチル−５−第３ブチル）ベンジルマロネート、
２．２＝−メチレンビス（４−メチル−６−第３ブチル
フエノール）、＝１．４”−メチレンビス（２，６−ジ
ー第３ブチルフエノール）、２．２−−メチレンヒス［
６−（１−メチルシクロヘキシル）ｐ−クレゾール］、
ビス［３，５−ビス（４−ヒドロキシ−３−第３ブチル
フエニル）ブチリックアシドコグリコールエステル、４
，４−プチルデンビス（６−第３ブチル−ｍ−クレゾー
ル）、２．２−−エチリデンビスく４，６−ジー第３ブ
ヂルフエノール）、２．２’″−エチリデンビス（４−
第２ブチル−６−第３ブヂルフエノール＞、１，１゜３
−１へリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第３ブ
ヂルフエニル）ブタン、ビス［２−第３ブチル−４−メ
チル−６−（２−ヒドロキシ−３−第３ブヂルー５メチ
ルベンジル〉フェニル］テレフタレート、１，３．５−
トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−第３
ブチル）ベンジルイソシアヌレ−１〜、１，３．５−ト
リス（３゜５−ジー第３ブヂルー４−ヒドロキシベンジ
ル）−２，４，６−ドリメチルベンセン、テトラキス［
メチレン−３−（３，５−シー第３ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネートコメタン、１．３．５−
トリス（３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）イソシアヌレート、１゜３．５−１〜リス［（３
，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオニルオキシエチル］イソシアヌレート、２−オクチ
ルチオ−４゜６−ジー（４〜ヒドロキシ−３，５−ジー
第３ブチル）フェノキシ−’ｌ、３．５−トリアジン、
４゜４′−チオビス（６−第３ブヂルーｍ−クレゾール
）等のフェノール類および４，４−−ブチリデンビス（
２−第３ブチル−５−メチルフェノール）の炭酸オリゴ
エステル（例えば重合度２．３，４゜５．６，７，８，
９．１０など）の高フェノール炭酸オリゴエステル類が
あげられる。

本発明の組成物にざらに硫黄系の抗酸化剤をカロえてそ
の酸化安定性の改善を図ることもできる。

これら硫黄系抗酸化剤としては、例えば、ジラウリル−
、シミリスチル−、ジステアリル−等のジアルキルチオ
ジプロピオネートおよびブチル−、オクチル−、ラウリ
ル−、ステアリル−等のアルキルヂオプロピオン参の高
アルコール（例えばグリセリン、トリメチロールエタン
、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ト
リスヒドロキシエチルイソシアヌレート）のエステル（
例えばペンタエリスリ１−一ルテトララウリルチオプロ
ピオネート）があげられる。

その仙必要に応じて、本発明の組成物には重金属不活性
化剤、造核剤、金属石鹸、有機錫化合物、可塑剤、エポ
キシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯電防止剤、難熱
剤、滑剤、加工助剤等を包含ざＵることができる。

本発明によって安定化された高分子材料は極めて多様な
形で、例えばフィルム、繊維、テープ、シート、各種成
形品として使用でき、また、塗料、ラッカー用結合剤、
接着剤、パテおよびす真材料における基材としても用い
ることができる。

次に本発明を実施例によって具体的に説明する。

しかしながら、本発明はこれらの実施例によって限定さ
れるものではない。

実施例１く配合〉ポリプロピレン　　　　　　　　１００重量部ステアリ
ン酸カルシウム　　　　　　０．２ペンタエリスリトー
ルテトラキス（３，５−ジー第３ブチル−４− ヒドロキシフェニルプロピオネ−１〜　０．１２−（２
−ヒドロキシ−３−アリル −５メチルフエニル）ベンゾＩ・リアゾール（ＡＢＴ−
１化合物）０．１ヒンダードアミン系光安定剤　　　　０．１（表−１参
照）上記配合にて厚さ０．３ｍｍのプレスシートを作成し、
このシートについて高圧水銀ランプを用いての耐光性試
験を行なった。その結果を表−１に示す。

表−１Ｎｏ、　　　ヒンダードアミン系光安定剤　耐光性比較
例１−１　なしく但し、ＡＴＳ−１１３０化合物０．２部
使用）１−２　　Ｎｏ、１化合物０．２部使用　１５０（、但
し、ＡＲＴ−１化合物なし）１−３　　Ｎｏ、１化合物０．１部及び　１７０２−（
２−ヒドロキシ−５− メチルフェニル）ベンゾトリアゾール０．１部使用（但し、ＡＲＴ−１化合物なし）実施例１−１　　Ｎｏ、１化合物　　　　　　２７０１−２　
　Ｎｏ、４化合物　　　　　　３７０１−３　　Ｎｏ、
５化合物　　　　　　３５０１−３　　Ｎｏ、３６化合
物　　　　　３４０１−４　　Ｎｏ、３７化合物　　　
　　３２０実施例２く配合〉ポリエチレン　　　　　　　　　１００重量部Ｃａ−−
ステアレート　　　　　　　　　１．０テトラキス［メ
チレン−３− （３，５−ジー第３ブチル− ４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン　　　　　　　０．１ジステアリ
ルチオジブロピネート　　０．３ビス（２，２，６，６
−チトラメチルー４−ピペリジル）セパチー１〜（ＮＯ，４化合物）　　　　　　　　、０．０５２
−（２−ヒドロキシ−３−アリル−５−置換フェニル）ベンゾトリアゾール化合物　　　　　　　　　０．１（表−２参
照）上記配合物を混練後プレスして厚さＱ、５ｍｍのシート
を作成した。このシートを用いてウエザオス−ター中で
耐光性を測定し、脆化するまでの時間を測定した。その
結果を表−２に示す。

表−２Ｎｏ、　　　２−（２−ヒドロキシ−３−アリ　耐光性
ルー５−置換フェニル）ベンジトリアゾール化合物比較例２−１　なしく但し、Ｎ００４化合物　　５２００．１
５部使用）２−２　　ＡＢＴ−１化合物０．１５部使用　　４３０
（但し、Ｎｏ、　４化合物なし）２−３　２−（２−ヒドロキシ−３−４００メチルフエ
ニル）ベンゾトリアゾール２−４　同上（０，１５部使用）　　　　３５０（但し
、Ｎｏ、４化合物なし）実施例２−１　　ＡＢＴ−１化合物　　　　　８５０２−２　
　ＡＢＴ−２化合物　　　　　９００２−３　　ＡＢＴ
−３化合物　　　　　９１０２−４　　ＡＢＴ−４化合
物　　　　　８９０実施例３く配合〉　　　　　　　　　　　　　　重Ｍ部アクリル
樹脂溶液（樹脂固形分５０％）４８ブトキシ化メチロー
ルメラミン　　　　　１０キシレン　　　　　　　　　
　　　　　　　８ブチルグリコールアセテート　　　　
　　　４ＡＢＴ−１化合物　　　　　　　　　　０．２
ヒンダードアミン系光安定剤　　　　　０．１（表−３
参照）アルミ板に上記配合の塗料を、厚さ３０μになるように
塗布し、５分間放置後１４０’Ｃで３０分間焼付し試験
片とした。

上記試験片をウエザオメータにいれ１１のワレの発生ず
るまでに時間を測定した。その結果を表−３に示す。

表３Ｎｏ、　　ヒンダードアミン系　　ワレ発生時間安定剤比較例３−１　なしく但し、ＡＲＴ−１化合物　２００００．
１５部使用）３−２　　Ｎｏ、５化合物０．１５部使用　　１８００
（但し、へＢＴ−１化合物なし）３−３　なしく＾ＢＴ−１化合物なし）　　１１００実
施例

Claims

【特許請求の範囲】

（１）高分子材料１００重量部に、（ａ）ヒンダードア
ミン系光安定剤の少なくとも一種０．００１〜５重量部
及び（ｂ）次の一般式（ I ）で表わ差れる化合物の少
なくとも一種０．００１〜５重量部を配合してなり、耐
光性の改善された高分子材料組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）（式中、Ｒはアルキル基またはアラルキル基を示し、Ｘ
は水素原子またはハロゲン原子を示す）