JPS63218520A - カルコゲナイドガラスの製造法 - Google Patents
カルコゲナイドガラスの製造法Info
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- JPS63218520A JPS63218520A JP5013887A JP5013887A JPS63218520A JP S63218520 A JPS63218520 A JP S63218520A JP 5013887 A JP5013887 A JP 5013887A JP 5013887 A JP5013887 A JP 5013887A JP S63218520 A JPS63218520 A JP S63218520A
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Landscapes
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は波長１〜１６μｍ領域に赤外透過性を有するＧ
ｅ−（＾ｓ、 Ｔｅ）、 Ｇｅ −Ｓｅ −（Ａｓ、
Ｔｅ）系カルコゲナイドガラスなどで例示さる如く原料
に＾Ｓ及びＴｅを含有する赤外透過カルコゲナイドの製
造法に関する。この赤外透過カルコゲナイドガラスには
勿論ガラスファイバーも含まれる。
ｅ−（＾ｓ、 Ｔｅ）、 Ｇｅ −Ｓｅ −（Ａｓ、
Ｔｅ）系カルコゲナイドガラスなどで例示さる如く原料
に＾Ｓ及びＴｅを含有する赤外透過カルコゲナイドの製
造法に関する。この赤外透過カルコゲナイドガラスには
勿論ガラスファイバーも含まれる。
［従来の技術］
従来、波長１〜１６μ而領域の赤外透過性を有するカル
コゲナイドガラスの製造法は、ガラス組成原料に酸化物
になり易い金属（例えばＡｊ２ 、Ｚｒ、Ｈｇなど）を
１ｏｏｐｐ−以下添加し、洗浄した石英アンプルに充填
した後、真空封入した石英アンプルの加熱溶融を行って
、ガラスを得る方法であった。
コゲナイドガラスの製造法は、ガラス組成原料に酸化物
になり易い金属（例えばＡｊ２ 、Ｚｒ、Ｈｇなど）を
１ｏｏｐｐ−以下添加し、洗浄した石英アンプルに充填
した後、真空封入した石英アンプルの加熱溶融を行って
、ガラスを得る方法であった。
上記のように金属による原料中の酸素不純物の除去法で
は酸素と反応した金属（例えば、Ａｊ２ｚＯｓ 、 Ｈ
ｇｏ、 Ｚｒ０ｚなど）が、ガラスの中に残り結晶化を
招き易くガラスを紡糸する際に失透の要因となる。また
これらの金属を添加し作ったガラスを蒸留精製すること
により金属酸化物を取り除く方法もあるが、金属によっ
ては蒸留の効果が不充分であったり、組成のずれを招い
たりするという問題点があった。
は酸素と反応した金属（例えば、Ａｊ２ｚＯｓ 、 Ｈ
ｇｏ、 Ｚｒ０ｚなど）が、ガラスの中に残り結晶化を
招き易くガラスを紡糸する際に失透の要因となる。また
これらの金属を添加し作ったガラスを蒸留精製すること
により金属酸化物を取り除く方法もあるが、金属によっ
ては蒸留の効果が不充分であったり、組成のずれを招い
たりするという問題点があった。
［発明が解決しようとする問題点］
従来の製法では
１、ガラス中に不純物が残り易い
２、蒸留を行い不純物を取り除く方法もあるが蒸留効果
が不充分である。ま た組成のずれを招くことがある。
が不充分である。ま た組成のずれを招くことがある。
などの問題がある。
本発明の目的は、酸素と反応しやすい金属及び蒸留法を
用いることなくカルコゲナイドガラス中の酸素不純物を
取り除く方法を提供することである。
用いることなくカルコゲナイドガラス中の酸素不純物を
取り除く方法を提供することである。
［問題点を解決するための手段］
上記目的を達成するため、本発明は酸素不純物と比較し
、蒸気圧が低いテルル化ヒ素化合物を原料として使用し
、加熱排気処理をこのテルル化ヒ素化合物に施すことに
より、酸素不純物の含有量が少なく高純度で波長１〜１
６μｍ領域（遠赤外波長領域）まで光透過性に優れたカ
ルコゲナイドガラスを製造することを特徴とする。
、蒸気圧が低いテルル化ヒ素化合物を原料として使用し
、加熱排気処理をこのテルル化ヒ素化合物に施すことに
より、酸素不純物の含有量が少なく高純度で波長１〜１
６μｍ領域（遠赤外波長領域）まで光透過性に優れたカ
ルコゲナイドガラスを製造することを特徴とする。
［作 用］
本発明のテルル化ヒ素化合物は加熱排気で簡単に酸素不
純物を取り除くことが可能である。
純物を取り除くことが可能である。
［実施例］
実施例１
第１図に示した装置を用い、１０％のフッ酸水溶液で１
時間処理した純度９９．９９９９％のＧｅ１２５％の塩
酸水溶液で１時間処理した純度９９．９９９９％のＴｅ
及び市販品の純度９９．９９９９９％のＡｓを加熱排気
処理をする。
時間処理した純度９９．９９９９％のＧｅ１２５％の塩
酸水溶液で１時間処理した純度９９．９９９９％のＴｅ
及び市販品の純度９９．９９９９９％のＡｓを加熱排気
処理をする。
第１図において試料室１に入れた試料は、発熱体２で加
熱されることにより、蒸気圧が高い水などが試料より貯
留室３にトラップされ、試料室１の試料が乾燥するよう
に構成されている。図中４は貯留室３にトラップされて
いるものがガスとして発生するのをおさえる冷却装置で
あり、５は排気装置である。
熱されることにより、蒸気圧が高い水などが試料より貯
留室３にトラップされ、試料室１の試料が乾燥するよう
に構成されている。図中４は貯留室３にトラップされて
いるものがガスとして発生するのをおさえる冷却装置で
あり、５は排気装置である。
加熱排気処理したＡｓとＴｅをアルゴン雰囲気中所定の
割合で秤量し、洗浄空焼きした石英アンプルに充填する
。このアンプルを真空封入した電気炉に入れ撹拌しなが
ら５５０℃で２時間予熱した後、１０００℃に加熱し、
４２時間保持した。次に電気炉の電源を切りただちに石
英アンプルを取り出し空気中で冷却した。このように作
製したテルル化ヒ素化合物を再度、第１図に示した装置
を用い、加熱排気処理する。この処理によってテルル化
ヒ素化合物中に残っている酸素不純物はテルル化ヒ素化
合物より蒸気圧が低いため、必然的に貯留室３にトラッ
プされる。この結果酸素不純物を含まないテルル化ヒ素
化合物が得られる。このテルル化ヒ素と先に加熱排気処
理したＧｅをアルゴン雰囲気中所定の割合で秤量し、洗
浄空焼きした石英アンプルに充填した後、真空封入した
。次にテルル化ヒ素化合物を作製と同様な方法で加熱溶
融及び冷却を行い、ガラスロッドを得た。第２図に本発
明を実施して作製したＧｅｚｒオ（Ａｓ２ 、Ｔｅ５）
汁の赤外透過性を本発明を実施しないガラスサンプルと
比較して示した。曲線ＡはＧｅを酸洗した後、加熱排気
したものとテルル化ヒ素化合物を加熱排気したものを原
料として加熱溶融炉したガラスの特性曲線であり、曲線
ＢはＧｅ、Ｔｅを各々酸洗した後、加熱排気したものと
市販品のＡｓを加熱排気したものを原料として加熱溶融
したガラスの特性曲線である。
割合で秤量し、洗浄空焼きした石英アンプルに充填する
。このアンプルを真空封入した電気炉に入れ撹拌しなが
ら５５０℃で２時間予熱した後、１０００℃に加熱し、
４２時間保持した。次に電気炉の電源を切りただちに石
英アンプルを取り出し空気中で冷却した。このように作
製したテルル化ヒ素化合物を再度、第１図に示した装置
を用い、加熱排気処理する。この処理によってテルル化
ヒ素化合物中に残っている酸素不純物はテルル化ヒ素化
合物より蒸気圧が低いため、必然的に貯留室３にトラッ
プされる。この結果酸素不純物を含まないテルル化ヒ素
化合物が得られる。このテルル化ヒ素と先に加熱排気処
理したＧｅをアルゴン雰囲気中所定の割合で秤量し、洗
浄空焼きした石英アンプルに充填した後、真空封入した
。次にテルル化ヒ素化合物を作製と同様な方法で加熱溶
融及び冷却を行い、ガラスロッドを得た。第２図に本発
明を実施して作製したＧｅｚｒオ（Ａｓ２ 、Ｔｅ５）
汁の赤外透過性を本発明を実施しないガラスサンプルと
比較して示した。曲線ＡはＧｅを酸洗した後、加熱排気
したものとテルル化ヒ素化合物を加熱排気したものを原
料として加熱溶融炉したガラスの特性曲線であり、曲線
ＢはＧｅ、Ｔｅを各々酸洗した後、加熱排気したものと
市販品のＡｓを加熱排気したものを原料として加熱溶融
したガラスの特性曲線である。
第２図から明らかのように波長１２，８μｍ付近のＧｅ
−０の基準撮動の吸収ピークの比較から本発明がガラス
中の酸素不純物の除去に大きな効果を有し、１〜１６μ
ｍの赤外波長域の光学特性の改善に役立つことがわかる
。
−０の基準撮動の吸収ピークの比較から本発明がガラス
中の酸素不純物の除去に大きな効果を有し、１〜１６μ
ｍの赤外波長域の光学特性の改善に役立つことがわかる
。
実施例２
実施例１でＧｅ −（Ａｓ、Ｔｅ）系のカルコゲナイド
ガラスを例示した実施例１と同様にして、Ｇｅ −Ｓｅ
−（Ａｓ、Ｔｅ）系のカルコゲナイドガラスを得た。
ガラスを例示した実施例１と同様にして、Ｇｅ −Ｓｅ
−（Ａｓ、Ｔｅ）系のカルコゲナイドガラスを得た。
なお、ｓｅは市販品で純度９９．９９９９％のものを用
い、第１図で示した装置により加熱排気したものを原料
とした。ｓｅ中の水、酸素不純物はｓｅより蒸気圧が高
いので、この処理により貯留室３にトラップされる。第
３図に本発明を実施して作製したＧｅｚｒ ｓｅ １ｔ
（Ａｓ、、 、Ｔｅ５）ユ。の赤外透過性を本発明を実
施しないガラスサンプルと比較して示した。曲線りは酸
洗したＧｅ、市販品のＳｅ及びテルル化ヒ素化合物を加
熱排気したものを原料として用い、加熱溶融したガラス
の特性曲線であり、曲線Ｍ Ｇ、ｔ ｆｆｉ洗したＧｅ
１Ｔｅ及び市販品のＡｓ、 Ｓｅを加熱排気処理したも
のを原料として用い、加熱溶融したガラスの特性曲線で
ある。第３図からも実施例１と同様なことがいえる。
い、第１図で示した装置により加熱排気したものを原料
とした。ｓｅ中の水、酸素不純物はｓｅより蒸気圧が高
いので、この処理により貯留室３にトラップされる。第
３図に本発明を実施して作製したＧｅｚｒ ｓｅ １ｔ
（Ａｓ、、 、Ｔｅ５）ユ。の赤外透過性を本発明を実
施しないガラスサンプルと比較して示した。曲線りは酸
洗したＧｅ、市販品のＳｅ及びテルル化ヒ素化合物を加
熱排気したものを原料として用い、加熱溶融したガラス
の特性曲線であり、曲線Ｍ Ｇ、ｔ ｆｆｉ洗したＧｅ
１Ｔｅ及び市販品のＡｓ、 Ｓｅを加熱排気処理したも
のを原料として用い、加熱溶融したガラスの特性曲線で
ある。第３図からも実施例１と同様なことがいえる。
［発明の効果Ｊ
以上の通り、本発明による赤外透過カルコゲナイドガラ
スは酸化物になり易い金属を入れることなく、加熱排気
処理により精製したテルル化ヒ素化合物を使用すること
により酸素不純物を取り除くことが可能である。また本
発明により金属を入れるために起る結晶化及び蒸留法に
おける組成のずれ等の問題点は心配ない。
スは酸化物になり易い金属を入れることなく、加熱排気
処理により精製したテルル化ヒ素化合物を使用すること
により酸素不純物を取り除くことが可能である。また本
発明により金属を入れるために起る結晶化及び蒸留法に
おける組成のずれ等の問題点は心配ない。
第１図は原料の加熱排気装置の側面図、第２図および第
３図は実施例１．２において本発明にかかるガラスと他
のガラスとの赤外透過性の比較をそれぞれ示す線図であ
る。 １・・・試料室、２・・・発熱体、３・・・貯留室、４
・・・冷却装置。
３図は実施例１．２において本発明にかかるガラスと他
のガラスとの赤外透過性の比較をそれぞれ示す線図であ
る。 １・・・試料室、２・・・発熱体、３・・・貯留室、４
・・・冷却装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ テルルとヒ素を含有するカルコゲナイドの製造方法
において、テルル化ヒ素化合物を原料とすることにより
、ガラス中への酸素不純物混入を防止することを特徴と
するカルコゲナイドガラスの製造法。 ２ テルル化ヒ素化合物に加熱排気処理を施し、精製す
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のカルコ
ゲナイドガラスの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5013887A JPS63218520A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | カルコゲナイドガラスの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5013887A JPS63218520A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | カルコゲナイドガラスの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63218520A true JPS63218520A (ja) | 1988-09-12 |
| JPH0472780B2 JPH0472780B2 (ja) | 1992-11-19 |
Family
ID=12850784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5013887A Granted JPS63218520A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | カルコゲナイドガラスの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63218520A (ja) |
-
1987
- 1987-03-06 JP JP5013887A patent/JPS63218520A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0472780B2 (ja) | 1992-11-19 |
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