JPS63218521A - カルコゲナイドガラスの製造法 - Google Patents
カルコゲナイドガラスの製造法Info
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- JPS63218521A JPS63218521A JP5013987A JP5013987A JPS63218521A JP S63218521 A JPS63218521 A JP S63218521A JP 5013987 A JP5013987 A JP 5013987A JP 5013987 A JP5013987 A JP 5013987A JP S63218521 A JPS63218521 A JP S63218521A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/32—Non-oxide glass compositions, e.g. binary or ternary halides, sulfides or nitrides of germanium, selenium or tellurium
- C03C3/321—Chalcogenide glasses, e.g. containing S, Se, Te
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は1〜16μ而領域に赤外透過性を有するカルコ
ゲナイドガラス、特にSi、 Teを成分として含有す
るガラスの製造方法に関するものである。
ゲナイドガラス、特にSi、 Teを成分として含有す
るガラスの製造方法に関するものである。
[従来の技術]
カルコゲナイドガラスに於いては、Teは安定でしかも
鼻外線を良く透過するガラスが得られるため、溶融温度
、化学的耐久性を向上させ得る点で有利であるが、溶解
が困難であるという欠点を有している。
鼻外線を良く透過するガラスが得られるため、溶融温度
、化学的耐久性を向上させ得る点で有利であるが、溶解
が困難であるという欠点を有している。
従来、波長1〜16μ雇領域の赤外透過性を有するカル
コゲナイドガラス製造方法はガラス組成原料に酸化物に
なり易い金属、例えばAN、Zr、Hgなどを1100
pp以下添加し、洗浄した石英アンプルに充填した後、
真空封入した石英アンプルを加熱溶融することにより得
ていた。
コゲナイドガラス製造方法はガラス組成原料に酸化物に
なり易い金属、例えばAN、Zr、Hgなどを1100
pp以下添加し、洗浄した石英アンプルに充填した後、
真空封入した石英アンプルを加熱溶融することにより得
ていた。
[発明が解決しようとする問題点■
ところがSiを含むカルコゲナイドガラスを上記の方法
を用いて、溶融すると、Siがガラス中に溶は込みにく
く、最後まで粒子として残留し、これが散乱の原因とな
り、赤外、特に2μm以上の波長域の透過損失を著しく
増大せしめていた。
を用いて、溶融すると、Siがガラス中に溶は込みにく
く、最後まで粒子として残留し、これが散乱の原因とな
り、赤外、特に2μm以上の波長域の透過損失を著しく
増大せしめていた。
さらにSi原料は、表面が酸化されやすく、この酸素が
カルコゲナイドガラス中に溶解し、透過損失と原因とな
っていた。又Teは酸素を含有しやすく、これも透過損
失の原因となっていた。
カルコゲナイドガラス中に溶解し、透過損失と原因とな
っていた。又Teは酸素を含有しやすく、これも透過損
失の原因となっていた。
従って、本発明の目的は第1にSi、丁eを含む力ルコ
ゲナイドガラスに於いて、ガラスを安定にし、溶融温度
、化学的耐久性を向上させ得るSlをガラス中に粒子と
して残留させることなく、溶解せしめる方法を提供する
ことにあり、第2には、酸素の含有率が極めて少ないS
l、Teを含むカルコゲナイドガラスの製造方法を提供
することにある。
ゲナイドガラスに於いて、ガラスを安定にし、溶融温度
、化学的耐久性を向上させ得るSlをガラス中に粒子と
して残留させることなく、溶解せしめる方法を提供する
ことにあり、第2には、酸素の含有率が極めて少ないS
l、Teを含むカルコゲナイドガラスの製造方法を提供
することにある。
[問題点を解決するための手段]
本発明はこれらの問題点は下記の手段を採用することに
より解決し得ることを見出してなったものである。すな
わち、本発明はSl、Teを含有するカルコゲナイドガ
ラスの製造方法に於いて、原料としてテルル化珪素化合
物を使用することからなるもので、このような手段によ
り、容易にSiをガラス中に溶解せしめることが可能と
なる。
より解決し得ることを見出してなったものである。すな
わち、本発明はSl、Teを含有するカルコゲナイドガ
ラスの製造方法に於いて、原料としてテルル化珪素化合
物を使用することからなるもので、このような手段によ
り、容易にSiをガラス中に溶解せしめることが可能と
なる。
また表面が酸化されたSi原料はフッ酸水溶液で処理す
ることにより、表面の酸化された部分を除去することが
可能であり、Te中の酸素は酸化物になり易い金属、例
えばAll、HQ、Zrを微量添加して蒸留精製するこ
とにより除去することができる。
ることにより、表面の酸化された部分を除去することが
可能であり、Te中の酸素は酸化物になり易い金属、例
えばAll、HQ、Zrを微量添加して蒸留精製するこ
とにより除去することができる。
テルル化珪素化合物は上記の方法によって得られたSi
、 Geを非酸化性の雰囲気中で所定の割合秤量、混合
し、洗浄、空焼きした石英アンプル中に充填後、真空封
入し、かつ溶@することにより得られる。
、 Geを非酸化性の雰囲気中で所定の割合秤量、混合
し、洗浄、空焼きした石英アンプル中に充填後、真空封
入し、かつ溶@することにより得られる。
[作 用]
上記のように本発明の方法によれば、Siの原料をSi
とTeの化合物の形で使用するため、Siにこの化合物
は、単味の融点よりも著しく低くなり、Siは完全にガ
ラス中に溶解し得る。Si原料の酸化された表面はフッ
酸水溶液で処理することにより溶解、除去されるため、
酸素はガラス中に混入することはない。又Te原料中の
酸素は、微量の酸化物になり易い金属結合し、蒸留によ
り除去される。
とTeの化合物の形で使用するため、Siにこの化合物
は、単味の融点よりも著しく低くなり、Siは完全にガ
ラス中に溶解し得る。Si原料の酸化された表面はフッ
酸水溶液で処理することにより溶解、除去されるため、
酸素はガラス中に混入することはない。又Te原料中の
酸素は、微量の酸化物になり易い金属結合し、蒸留によ
り除去される。
[実施例]
10%のフッ酸水溶液で1時間処理した純度99.99
99%のSiは加熱処理を行う。純度99.9999%
のTeは酸化物になり易い金属向を100DI)l加え
、蒸留精製を行う。
99%のSiは加熱処理を行う。純度99.9999%
のTeは酸化物になり易い金属向を100DI)l加え
、蒸留精製を行う。
各々処理を行ったSiとTeをアルゴン雰囲気中で1:
5の割合で秤量し、洗浄、空焼きした石英アンプルに充
填した後、真空封入した。電気炉にアンプルを入れ撹拌
しながら、550℃で2時開余熱した後、1000℃に
加熱し、50時間保持した。次に電気炉の電源を切り、
ただちに石英アンプルを取り出し、空気中で冷却した。
5の割合で秤量し、洗浄、空焼きした石英アンプルに充
填した後、真空封入した。電気炉にアンプルを入れ撹拌
しながら、550℃で2時開余熱した後、1000℃に
加熱し、50時間保持した。次に電気炉の電源を切り、
ただちに石英アンプルを取り出し、空気中で冷却した。
このように作製したテルル化珪素化合物50%、Ge
1G%1As 4G%、を再度アルゴンガス雰囲気中で
秤量し、洗浄、空焼きした石英アンプルに充填した後、
真空封入した。
1G%1As 4G%、を再度アルゴンガス雰囲気中で
秤量し、洗浄、空焼きした石英アンプルに充填した後、
真空封入した。
次にテルル化シリコン化合物を得た方法を用い、加熱溶
融及び冷却を行い、ガラスロンドを得た。
融及び冷却を行い、ガラスロンドを得た。
下表に本発明を実施して作製したSiλoTe8oのD
SC(示差走査熱醋計)の測定結果及びSiの融点(参
考文献:岩波理化学辞典)を比較したものを示す。
SC(示差走査熱醋計)の測定結果及びSiの融点(参
考文献:岩波理化学辞典)を比較したものを示す。
明らかにSiと比較するとSi2゜Te5y。は融点が
低い。図に本発明を実施して作製したSi、oGe、、
As t7.0Teaoの赤外透過性を本発明を実施
しないガラスサンプルと比較して示した。図から明らか
な通り、本発明を実施したガラスの赤外透過性Aは本発
明を実施しないガラスサンプルの赤外透過性Bと比較し
て短波長側の落ちこみは非常に少ない。故に同一条件で
製造したガラスでも本発明を実施だガラスは均一化に大
きな効果を有し、1〜16μ雇の赤外波長域の光学特性
の改善に役立つことがわかる。
低い。図に本発明を実施して作製したSi、oGe、、
As t7.0Teaoの赤外透過性を本発明を実施
しないガラスサンプルと比較して示した。図から明らか
な通り、本発明を実施したガラスの赤外透過性Aは本発
明を実施しないガラスサンプルの赤外透過性Bと比較し
て短波長側の落ちこみは非常に少ない。故に同一条件で
製造したガラスでも本発明を実施だガラスは均一化に大
きな効果を有し、1〜16μ雇の赤外波長域の光学特性
の改善に役立つことがわかる。
[発明の効果]
実施例で示したように本発明によれば、カルコゲナイド
ガラスの原料の調合に際し、溶解しにくいSi原料をよ
り融点の低いテルル化珪素化合物の形で使用するため、
Siはガラス中で粒子として残留することがないため、
散乱によって生ずる透過損失の少ない安定で、融点、化
学的耐久性の高いカルコゲナイドガラスを得ることがで
きる。又テルル化珪素化合物を得るに際し、Si原料は
その表面をフッ酸水溶液で処理することにより、表面の
酸化物を除去し、Te原料中の微量の酸化物にない注水
金属を加え、蒸留により除去するため、酸素の吸収の少
ないカルコゲナイドガラスが得られる。
ガラスの原料の調合に際し、溶解しにくいSi原料をよ
り融点の低いテルル化珪素化合物の形で使用するため、
Siはガラス中で粒子として残留することがないため、
散乱によって生ずる透過損失の少ない安定で、融点、化
学的耐久性の高いカルコゲナイドガラスを得ることがで
きる。又テルル化珪素化合物を得るに際し、Si原料は
その表面をフッ酸水溶液で処理することにより、表面の
酸化物を除去し、Te原料中の微量の酸化物にない注水
金属を加え、蒸留により除去するため、酸素の吸収の少
ないカルコゲナイドガラスが得られる。
図は本発明の製造方法によって得られたカルコゲナイド
ガラス5ito Gero AS4Io丁eψpの分光
透過率内と従来の製造方法によって得られたカルコゲナ
イドガラスSil、Ge7.^31゜Te、+□の分光
透過率6を比較して示したものである。
ガラス5ito Gero AS4Io丁eψpの分光
透過率内と従来の製造方法によって得られたカルコゲナ
イドガラスSil、Ge7.^31゜Te、+□の分光
透過率6を比較して示したものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 SiとTeを含有するカルコゲナイドガラスの製造
方法に於いて、原料としてテルル化珪素化合物を使用す
ることを特徴とするカルコゲナイドガラスの製造方法。 2 Siはフッ酸水溶液により、Teは酸化物になり易
い金属を加え蒸留することにより精製することを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載のカルコゲナイドガラス
の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5013987A JPS63218521A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | カルコゲナイドガラスの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5013987A JPS63218521A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | カルコゲナイドガラスの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63218521A true JPS63218521A (ja) | 1988-09-12 |
JPH0444619B2 JPH0444619B2 (ja) | 1992-07-22 |
Family
ID=12850814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5013987A Granted JPS63218521A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | カルコゲナイドガラスの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63218521A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1034494C (zh) * | 1992-07-11 | 1997-04-09 | 武汉工业大学 | 硫卤玻璃 |
EP1036343A1 (en) * | 1997-11-04 | 2000-09-20 | Corning Incorporated | Stable cladding glasses for sulphide fibres |
-
1987
- 1987-03-06 JP JP5013987A patent/JPS63218521A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1034494C (zh) * | 1992-07-11 | 1997-04-09 | 武汉工业大学 | 硫卤玻璃 |
EP1036343A1 (en) * | 1997-11-04 | 2000-09-20 | Corning Incorporated | Stable cladding glasses for sulphide fibres |
EP1036343A4 (en) * | 1997-11-04 | 2001-08-29 | Corning Inc | STABLE COATING GLASSES FOR SULFURATED FIBERS |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0444619B2 (ja) | 1992-07-22 |
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