JPS63216325A - エレクトレツト材 - Google Patents

エレクトレツト材

Info

Publication number
JPS63216325A
JPS63216325A JP5054187A JP5054187A JPS63216325A JP S63216325 A JPS63216325 A JP S63216325A JP 5054187 A JP5054187 A JP 5054187A JP 5054187 A JP5054187 A JP 5054187A JP S63216325 A JPS63216325 A JP S63216325A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal plate
metal
polymer film
plating
present
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5054187A
Other languages
English (en)
Inventor
馬場 啓之
功修 安野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP5054187A priority Critical patent/JPS63216325A/ja
Publication of JPS63216325A publication Critical patent/JPS63216325A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electrostatic, Electromagnetic, Magneto- Strictive, And Variable-Resistance Transducers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はエレクトレットコンデンサマイクロホン等に使
用するエレクトレット材に関する。
従来の技術 従来、この種のエレクトレット材は第4図に示す部分拡
大断面図の如く、金属板1の表面にテフロン系等のディ
スパージョン液2を塗布後焼成するとともに、かつこの
表面上にテフロン系等の高分子フィルム3をローラー等
による熱融着により形成している。(特開51−877
98号公報による)次に上記従来例の詳細な製造工程に
ついて説明を行なう。第5図はこの工程図である。まず
、金属板1の表面の油脂分、汚れ等を除去するため、ト
リクレンもしくはアルカリ脱脂等により洗浄後、温風等
により表面の乾燥を行なう。次にこの金属板1の表面上
にテフロン系等のディスパージョン液2を2〜4μm程
度塗布し、このディスパージョン液2の融点付近以上で
ある300〜350℃程度の高温炉により、水分等を除
去し、金属板1の表面上に融着させるために焼成を行な
う。次にこの表面上に10〜20μm程度のテフロン系
等の高分子フィルム3をローラー等により、融点付近の
300℃程度の高温を印加しなからディスパージョン層
2に熱融着することにより完成する。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、上記従来例のエレクトレット材は高分子
フィルム3とディスパージョン層2の融着強度は充分で
あるが金属板1との融着強度か弱(剥れ等が発生しエレ
クトレット材としては不充分である。この原因としては
洗浄工程におげろ金属板表面の脱脂等が不完全であった
り、洗浄材が残留するので長時間の高温印加により表面
に酸化膜等を生じ融着強度を劣化させるものと考えられ
る。
この対策として金属板表面にNi等の金属メッキを施す
ことも考えられ多少の改善は望めるが、低価格で高温に
耐え得るメッキは数少ないため、又金属メッキを施すと
厚くなればなるほど金属板表面の小さな凹凸が少なくな
り高分子フィルム3の融着強度は悪(なるので同様な結
果となってし、まう。一般に金属板1としては黄銅系が
持ちいられ、エレクトレットコンデンサマイクロホンを
して使用する場合表面の酸化膜1トのためある程度の厚
さの金属メッキは必要条件となる。
又、従来例では工程が複雑でありコストアップも免れな
い。
本発明はこの様な従来の問題を解決するものであり、高
分子フィルム3の剥れ等が発生しに(く安価で優れたエ
レクトレット材を提供することを目的とするものである
問題点を解決するための手段 本発明は上記目的を達成するために、Niメッキ等を有
しない金属板1の表面に高分子フィルム3を短時間に熱
ローラー等により熱圧着するとともに、その後この金属
にNi等の金属メッキを施す様にしたものである。
作    用 本発明は上記の様な構成により次の様な効果を有する。
すなわち、高分子フィルム3を短時間に熱圧着している
ので金属板の表面に高温酸化が発生しにくい。又黄銅等
の金属板にNiメッキ等を施すことな(直接熱圧着する
ので表面の凹凸に密着しやすいため充分実用的な融着強
度を得ることができる。
熱圧着後に金属板の酸化防止のための金属メッキを施す
ことができ、メッキ厚も任意の厚さにできる。
又、工程が簡略化できるとともに簡単な設備により、従
来よりも大きな金属板に融着できるため安価なコストに
できる効果を有する。
実施例 第1図は本発明の一実施例を示す部分拡大断面図である
。同図かられかる様に金属板1の表面に高分子フィルム
3が融着され、対面にはNi等の金属メッキ4が飾され
ている。第2図は本実施例の工程図を示す。まず金属板
1の表面の油脂分、汚れ等を除去するためにトリクレン
、アルカリ脱脂等により洗浄を行ない、その後温風等に
より乾燥を行なう。次にこの金属板1の表面に高分子フ
ィルム3を第3図に示す如く融点付近程度の温度を有す
る熱ローラ−5a、5b等により強制的に力を加え熱圧
着を行なう。金属板1の表面は金属メッキ等が施されて
おらず、金属素材表面そのものの小さな凹凸を有するの
で高分子フィルム3が剥れにくい強度を有する融着が可
能である。
次にこの高分子フィルム3が熱圧着された金属板1にN
i等の金属メッキ4を施す。この金属メッキ4は一般的
金属メツキと同様であるが片面に高分子フィルム3が熱
圧着されているので対面にのみ金属メッキが施され完成
となる。
本発明の場合、簡単な設備により融着が行なえるので、
従来よりも大きな金属板1の状態で加工できるので金属
メッキの回数等が減少でき非常に効率的といえる。
又、金属板1にあらかじめ金属メッキを施こすと厚さK
もよるが表面状態が高分子フィルム3の融着に適さない
状態となるが本発明の場合後で金属メッキ4を施してい
るのでこの様なことはない。
発明の効果 本発明は上記実施例から明らかな様に金属板そのものに
熱ローラー等により強制的に熱圧着した後、Ni等の金
属メッキ4を施しているので簡単な設備、製造工程によ
り強い融着強度を有し安価なエレクトレット材が得られ
る効果を有する。
尚、本発明の場合でも従来同様のエレクトレットとして
の物理的性能が得られることを確認法である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例におけるエレクトレット材の
部分拡大断面図、第2図は第1図の工程図、第3図は金
属板に高分子フィルム3の熱圧着を示す側面図、第4図
は従来の部分拡大断面図、第5図は従来の工程図である
。 ■・・・金属板、3・・・高分子フィルム、4・・・金
属メッキ、5a、5b ・・・熱ローラ−。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 第3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 金属素材の表面にテフロン系等の高分子フィルムを熱ロ
    ーラー等により熱圧着するとともに、前記金属素材にN
    i等の金属メッキを施したエレクトレット材。
JP5054187A 1987-03-05 1987-03-05 エレクトレツト材 Pending JPS63216325A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5054187A JPS63216325A (ja) 1987-03-05 1987-03-05 エレクトレツト材

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5054187A JPS63216325A (ja) 1987-03-05 1987-03-05 エレクトレツト材

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63216325A true JPS63216325A (ja) 1988-09-08

Family

ID=12861871

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5054187A Pending JPS63216325A (ja) 1987-03-05 1987-03-05 エレクトレツト材

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63216325A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH03230533A (ja) バンプ電極の形成方法
US3593412A (en) Bonding system for semiconductor device
JPS63216325A (ja) エレクトレツト材
US4061263A (en) Method of bonding a dielectric substrate to a metallic carrier in a printed circuit assembly
US3483610A (en) Thermocompression bonding of foil leads
US4754913A (en) Method of joining zinc coated aluminum members and uncoated aluminum members
KR930006111B1 (ko) 스테인레스 크래드강의 제조방법
JPS63216326A (ja) エレクトレツト材
US4863090A (en) Room temperature attachment method employing a mercury-gold amalgam
JP3157520B2 (ja) 窒化アルミニウム基板の製造方法
JP2816218B2 (ja) ろう付け方法
JPH11150795A (ja) 薄膜エレクトレットコンデンサマイクロホン及びその製造方法
JPH04328814A (ja) 積層磁器コンデンサの電極形成方法
JPS58100414A (ja) アルミニウム電極を有するチタン酸バリウムの製造方法
JP2723589B2 (ja) Pt複合線の製造方法
JPS6041860B2 (ja) 気密端子の製造方法
JPS5947851B2 (ja) ろう付き電気接店の製造法
JPS62128553A (ja) 半導体パツケ−ジの製造法
JPS63317667A (ja) スパッタリング用タ−ゲットの接合法
JPH0512077B2 (ja)
JPS59111290A (ja) 半導体ヒ−タの電極形成方法
JPS6396930A (ja) 半導体装置の製造方法
JPS6011628Y2 (ja) コンデンサの電極構造
JPS60124382A (ja) スパ−クプラグ
JPS60221368A (ja) セラミツク部材の接合法