JPS63201056A - 高じん性セラミックスの製造方法及びセラミックス用組成粉 - Google Patents
高じん性セラミックスの製造方法及びセラミックス用組成粉Info
- Publication number
- JPS63201056A JPS63201056A JP62032357A JP3235787A JPS63201056A JP S63201056 A JPS63201056 A JP S63201056A JP 62032357 A JP62032357 A JP 62032357A JP 3235787 A JP3235787 A JP 3235787A JP S63201056 A JPS63201056 A JP S63201056A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parts
- powder
- volume
- crystal
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 41
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 40
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 34
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 29
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 23
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 23
- -1 oxides Chemical class 0.000 claims description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 14
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 11
- 229920001558 organosilicon polymer Polymers 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 20
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 2
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000001272 pressureless sintering Methods 0.000 description 2
- QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N B#[Ti]#B Chemical compound B#[Ti]#B QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000208 Solanum incanum Nutrition 0.000 description 1
- 244000302301 Solanum incanum Species 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910033181 TiB2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- UTLVQENMPIUJSJ-QTARTGBFSA-N dT10 Chemical compound O=C1NC(=O)C(C)=CN1[C@@H]1O[C@H](COP(O)(=O)O[C@@H]2[C@H](O[C@H](C2)N2C(NC(=O)C(C)=C2)=O)COP(O)(=O)O[C@@H]2[C@H](O[C@H](C2)N2C(NC(=O)C(C)=C2)=O)COP(O)(=O)O[C@@H]2[C@H](O[C@H](C2)N2C(NC(=O)C(C)=C2)=O)COP(O)(=O)O[C@@H]2[C@H](O[C@H](C2)N2C(NC(=O)C(C)=C2)=O)COP(O)(=O)O[C@@H]2[C@H](O[C@H](C2)N2C(NC(=O)C(C)=C2)=O)COP(O)(=O)O[C@@H]2[C@H](O[C@H](C2)N2C(NC(=O)C(C)=C2)=O)COP(O)(=O)O[C@@H]2[C@H](O[C@H](C2)N2C(NC(=O)C(C)=C2)=O)COP(O)(=O)O[C@@H]2[C@H](O[C@H](C2)N2C(NC(=O)C(C)=C2)=O)COP(O)(=O)O[C@@H]2[C@H](O[C@H](C2)N2C(NC(=O)C(C)=C2)=O)CO)[C@@H](O)C1 UTLVQENMPIUJSJ-QTARTGBFSA-N 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002538 fungal effect Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- 239000011226 reinforced ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明°は、焼結助剤なしに高密度な焼結体を得るため
の組成物、及びその焼結体とその製造方法に係り、特に
焼結時の寸法変化率が小さく、高強度、高じん性の構造
用部品に適したセラミックスとその製造方法及びその原
料粉に関する。
の組成物、及びその焼結体とその製造方法に係り、特に
焼結時の寸法変化率が小さく、高強度、高じん性の構造
用部品に適したセラミックスとその製造方法及びその原
料粉に関する。
一般に、エンジンやタービンなどの構造材料に適するエ
ンジニアリングセラミックスとして窒化物、炭化物が開
発されている。その焼結技術として従来より%(1)反
応焼結法、(2)常圧焼結法、(3)ホットプレス法が
知られている。反応焼結法は、複雑形状でも焼結でき、
高温での強度劣化がほとんどないが、強度、じん性、耐
酸化性に劣る。常圧焼結法は、反応焼結法はどではない
が複雑な形状でも焼結でき、強度も大きいが、焼結時の
収縮によシ変形しやすく、焼結助剤が多く必要なので高
温下強度劣化が激しい。またホットプレス法は、強度、
耐酸化性、耐食性に最も優れているが、単純な形状しか
焼結できず、焼結助剤を使用するので高温下強度劣化が
起る。
ンジニアリングセラミックスとして窒化物、炭化物が開
発されている。その焼結技術として従来より%(1)反
応焼結法、(2)常圧焼結法、(3)ホットプレス法が
知られている。反応焼結法は、複雑形状でも焼結でき、
高温での強度劣化がほとんどないが、強度、じん性、耐
酸化性に劣る。常圧焼結法は、反応焼結法はどではない
が複雑な形状でも焼結でき、強度も大きいが、焼結時の
収縮によシ変形しやすく、焼結助剤が多く必要なので高
温下強度劣化が激しい。またホットプレス法は、強度、
耐酸化性、耐食性に最も優れているが、単純な形状しか
焼結できず、焼結助剤を使用するので高温下強度劣化が
起る。
これらの方法は、それぞれ一長一短がありエンジンやタ
ービン部品等の複雑形状の耐熱高温部材を製作するKは
いまだ充分な方法とは言えず、特に常圧焼結法やホット
プレス法は焼結助剤によシち密化するが、粒子間のガラ
ス相は高温において軟化するため、焼結体の強度が著し
く低下する。
ービン部品等の複雑形状の耐熱高温部材を製作するKは
いまだ充分な方法とは言えず、特に常圧焼結法やホット
プレス法は焼結助剤によシち密化するが、粒子間のガラ
ス相は高温において軟化するため、焼結体の強度が著し
く低下する。
この高温での強度低下を防止するため、焼結助剤の添加
険をできるだけ少なくしたυ、焼結助剤に起因する粒界
のガラス相を結晶化させるなどの検討がなされているが
、完全な解決に至っていない。
険をできるだけ少なくしたυ、焼結助剤に起因する粒界
のガラス相を結晶化させるなどの検討がなされているが
、完全な解決に至っていない。
そして、これらの方法に代る新しいセラミックス焼結法
が望まれている。
が望まれている。
例えば、特開昭56−22678号では、金属Si 粉
末と焼結助剤との混合物を成形し、反応焼結した後再焼
結することKより反応焼結法の欠点を解決しているが、
焼結助剤を使用するために高温下で強度が低下するとい
う問題があり、耐熱高温部材に適用するには充分とは言
えない。
末と焼結助剤との混合物を成形し、反応焼結した後再焼
結することKより反応焼結法の欠点を解決しているが、
焼結助剤を使用するために高温下で強度が低下するとい
う問題があり、耐熱高温部材に適用するには充分とは言
えない。
一方、焼結助剤とは別H,stc、日1.N4などの高
強度轡維混合による複合化によって高温強度、じん性を
高める繊維強化法も提案されている(特開昭58−10
4069号公報参照)。
強度轡維混合による複合化によって高温強度、じん性を
高める繊維強化法も提案されている(特開昭58−10
4069号公報参照)。
しかし、この様な繊維強化セラミックスは異方性や不均
一が生じ易く、効果的にじん性を上げるにはまだまだ問
題が多く、耐熱構造用部品に適用するKは充分とは言え
ない。
一が生じ易く、効果的にじん性を上げるにはまだまだ問
題が多く、耐熱構造用部品に適用するKは充分とは言え
ない。
前記従来技術は、焼結時の寸法収縮、高温強度、じん性
の点について配慮がされておらず、かつ収縮に伴う変形
が大きく複雑形状品の成形が困難なので高温強度、高じ
ん性を必要とする構造部品に適用するKは問題があった
。
の点について配慮がされておらず、かつ収縮に伴う変形
が大きく複雑形状品の成形が困難なので高温強度、高じ
ん性を必要とする構造部品に適用するKは問題があった
。
本発明の目的は、焼結時の寸法変化率が小さく、高強度
、高じん性に優れた複雑形状のセラミックスを焼結助剤
を用いることなく得ることができる用 ようにするためのセラミックス組成物及びセラミ△ ツクスとその製造方法を提供することにある。
、高じん性に優れた複雑形状のセラミックスを焼結助剤
を用いることなく得ることができる用 ようにするためのセラミックス組成物及びセラミ△ ツクスとその製造方法を提供することにある。
本発明を概説すれば、本発明の第1の発明は、高じん性
セラミックスに関する発明であって、無機化合物である
酸化物、炭化物、ホウ化物、窒化物及び酸窒化物、並び
に金属日1よりなる群から選択した少なくとも1種の結
晶粒子の複数個で構成式れた粒核の表面に、Ello
、 Si.N、及びSi.N!Qよりなる群から選択し
た少々くとも1種の結晶からなる被拶層を有する粒子が
、該被1層によって互いに緊密に焼結されていることを
特徴とする。
セラミックスに関する発明であって、無機化合物である
酸化物、炭化物、ホウ化物、窒化物及び酸窒化物、並び
に金属日1よりなる群から選択した少なくとも1種の結
晶粒子の複数個で構成式れた粒核の表面に、Ello
、 Si.N、及びSi.N!Qよりなる群から選択し
た少々くとも1種の結晶からなる被拶層を有する粒子が
、該被1層によって互いに緊密に焼結されていることを
特徴とする。
また、本発明の第2の発明け、セラミックス用組成粉に
関する発明であって、上記第1の発明における粒核の表
面が、Ello、Si.N4.Si0.、Si.ml、
0及びCよりなる群から選択した少なくとも1種から々
る非晶質膜で覆われていることを特徴とする。
関する発明であって、上記第1の発明における粒核の表
面が、Ello、Si.N4.Si0.、Si.ml、
0及びCよりなる群から選択した少なくとも1種から々
る非晶質膜で覆われていることを特徴とする。
そして、本発明の第5の発明は、セラミックスの製造方
法に関する発明であって、前記第1の発明における結晶
粒子の複数個で構成された粒核粉末100容量部に対し
て有機ケイ素高分子化合物を5〜40容量部添加した混
合物を、非晶質膜を形成することができる温度で加熱し
て、E710゜Eii、Nい5101、ElitN、O
及びCよりなる群から選択した少なくとも1種からなる
非晶質膜で種われた該結晶粉末粒子を形成させ、この粒
子100容量部に対して成形用バインダーを5〜40容
量部混合して成形体を作製し、該成形用バインダーを加
熱処理して除去し、その後、不活性雰囲気中で加熱、焼
結することを特徴とする。
法に関する発明であって、前記第1の発明における結晶
粒子の複数個で構成された粒核粉末100容量部に対し
て有機ケイ素高分子化合物を5〜40容量部添加した混
合物を、非晶質膜を形成することができる温度で加熱し
て、E710゜Eii、Nい5101、ElitN、O
及びCよりなる群から選択した少なくとも1種からなる
非晶質膜で種われた該結晶粉末粒子を形成させ、この粒
子100容量部に対して成形用バインダーを5〜40容
量部混合して成形体を作製し、該成形用バインダーを加
熱処理して除去し、その後、不活性雰囲気中で加熱、焼
結することを特徴とする。
本発明は、セラミックス。組成粉が、結晶粒子の複数個
によって構成された粒核の表面が非晶質膜で捷われてい
る粉末粒子からなることKあシ、この粒子を成形、焼結
して、非晶質膜を結晶化し、互いに緊密に焼結すること
Kより、焼結時の寸法変化率が小さく、高強度、高じん
性のセラミックスを得ることKある。
によって構成された粒核の表面が非晶質膜で捷われてい
る粉末粒子からなることKあシ、この粒子を成形、焼結
して、非晶質膜を結晶化し、互いに緊密に焼結すること
Kより、焼結時の寸法変化率が小さく、高強度、高じん
性のセラミックスを得ることKある。
本発明における無機化合物のうち、aiOlEliIN
、、TiO、Tie、 ZrOlZrM、 ZrO2、
Orgy@ 、0rlNはじん性に優れており特に好適
である。
、、TiO、Tie、 ZrOlZrM、 ZrO2、
Orgy@ 、0rlNはじん性に優れており特に好適
である。
更に、無機化合物結晶粒子と金属S1結晶粒子とを混合
することKよりじん性、強度、耐熱性などの特性を向上
することができる。
することKよりじん性、強度、耐熱性などの特性を向上
することができる。
特に1本発明において結晶粒子を無機化合物結晶粒子粉
末10〜60容量部、金属Si結晶粒子粉末90〜40
容量部とすることKより、従来にないじん性に優れたセ
ラミックス焼結体を得ることができる。
末10〜60容量部、金属Si結晶粒子粉末90〜40
容量部とすることKより、従来にないじん性に優れたセ
ラミックス焼結体を得ることができる。
本発明において、非晶質膜の厚さは5μ偽以下であるの
が好適であり、その理由は、非晶質膜が5μ慣より厚く
なるに従い、非晶質膜にクラックが入り易くなると共に
、非晶質膜が結晶化する際に収縮が大きくなり、焼結体
中の気孔も大きく強度、じん性の低下が起るからである
。
が好適であり、その理由は、非晶質膜が5μ慣より厚く
なるに従い、非晶質膜にクラックが入り易くなると共に
、非晶質膜が結晶化する際に収縮が大きくなり、焼結体
中の気孔も大きく強度、じん性の低下が起るからである
。
本発明において、非晶質膜をSi0、Eii、NイEl
iO,、Si、N、OlOに限定する理由は、これらの
非晶質膜は結晶化すると、Bib、 SisN4あるい
はSi!N、Oのいずれかの結晶相になり、これらの結
晶は耐熱性、耐熱衝撃性、耐摩耗性、耐酸化性に優れて
おり安価に作ることが可能であるからである。
iO,、Si、N、OlOに限定する理由は、これらの
非晶質膜は結晶化すると、Bib、 SisN4あるい
はSi!N、Oのいずれかの結晶相になり、これらの結
晶は耐熱性、耐熱衝撃性、耐摩耗性、耐酸化性に優れて
おり安価に作ることが可能であるからである。
非晶質膜を形成するための手段は、cvn。
PVD、有機ケイ素高分子化合物を用いる方法などいろ
いろあるが、この中で本発明による有機ケイ素高分子化
合物を用いる方法が安価で容易である。例えば、有機ケ
イ素高分子化合物は次のような構造を持つ。山ポリシラ
ン化合物、(■)ポリシル化合物、(至)ポリオキシシ
ロキサン化合物、(■)ポリシルシロキサン化合物、菌
シリコンイミド化合物、(■)前記+11〜閑の骨格成
分を少なくとも1つ含むもの、などからなる。そして熱
分解によシ、SiO、日i、NいB108、B t、N
、 OlCのうち少なくとも1種からなる非晶質膜を生
成する。
いろあるが、この中で本発明による有機ケイ素高分子化
合物を用いる方法が安価で容易である。例えば、有機ケ
イ素高分子化合物は次のような構造を持つ。山ポリシラ
ン化合物、(■)ポリシル化合物、(至)ポリオキシシ
ロキサン化合物、(■)ポリシルシロキサン化合物、菌
シリコンイミド化合物、(■)前記+11〜閑の骨格成
分を少なくとも1つ含むもの、などからなる。そして熱
分解によシ、SiO、日i、NいB108、B t、N
、 OlCのうち少なくとも1種からなる非晶質膜を生
成する。
本発明において、金属s1粉末を含む成形体は窒素及び
/又はアンモニア(必要に応じて水素、アルゴン、ヘリ
ウムなどを加える)の窒化性ガス雰囲気で加熱する。ま
た、金属B1を含まない成形体は、窒素やアルゴンなど
の不活性ガス中で加熱する。これらは、最低でも155
0℃まで加熱する。
/又はアンモニア(必要に応じて水素、アルゴン、ヘリ
ウムなどを加える)の窒化性ガス雰囲気で加熱する。ま
た、金属B1を含まない成形体は、窒素やアルゴンなど
の不活性ガス中で加熱する。これらは、最低でも155
0℃まで加熱する。
本発明において、金属B1の平均粒径は5μ惰以下とす
るのが好ましい。なぜなら平均粒径が5μ割より大きく
なると窒化時間が長くなると共に残留S1が存在するよ
うになる。
るのが好ましい。なぜなら平均粒径が5μ割より大きく
なると窒化時間が長くなると共に残留S1が存在するよ
うになる。
前記、金属S1及び無機化合物は市販のものをそのまま
用いることができる。
用いることができる。
本発明において、成形用バインダーは非晶質膜で覆われ
た該粒子100容量部に熱可塑性樹脂、可塑剤、潤滑剤
など5〜40容量部添加し、成形体の相対密度を60L
4以上にするのが好ましい。
た該粒子100容量部に熱可塑性樹脂、可塑剤、潤滑剤
など5〜40容量部添加し、成形体の相対密度を60L
4以上にするのが好ましい。
本発明において、結晶粒子表面に非晶質膜を生成した粉
末を作製した後、成形用バインダーを添加し成形する理
由は、無機化合物の結晶粒子のみでは共有結合性の強い
化合物であり、単独では焼結困難である。それに対し、
本発明品は原料の結晶粒子表面全体に非晶質膜を生成し
、その非晶質膜で覆われた粒子を用いて成形、焼結する
と粒子間の非晶質膜が結晶化することにより粒子が強固
に結合されると共に粒子形状が複軸になり強度及びじん
性を向上することが可能なためである。
末を作製した後、成形用バインダーを添加し成形する理
由は、無機化合物の結晶粒子のみでは共有結合性の強い
化合物であり、単独では焼結困難である。それに対し、
本発明品は原料の結晶粒子表面全体に非晶質膜を生成し
、その非晶質膜で覆われた粒子を用いて成形、焼結する
と粒子間の非晶質膜が結晶化することにより粒子が強固
に結合されると共に粒子形状が複軸になり強度及びじん
性を向上することが可能なためである。
これに対して、原料に成形用バインダーと非晶質膜生成
用の有機ケイ素高分子化合物を同時に混合し、成形、焼
結を行うと結晶粒子表面に均一に非晶質膜ができないた
めに、原料の結晶粒子と非晶質から生成した結晶粒子と
の結合が弱いため強度、じん性を大きく向上することが
できない。
用の有機ケイ素高分子化合物を同時に混合し、成形、焼
結を行うと結晶粒子表面に均一に非晶質膜ができないた
めに、原料の結晶粒子と非晶質から生成した結晶粒子と
の結合が弱いため強度、じん性を大きく向上することが
できない。
用
本発明の特徴は、セラミックス組成粉の個々のΔ
粒核の表面が非晶質膜で秒われていることにあり、この
粉末粒子を成形、焼結して非晶質膜を結晶化し粒子を強
固に結合させることにより、焼結時の寸法変化率が小さ
く、高強度、高じん性のセラミックスが得られる。
粉末粒子を成形、焼結して非晶質膜を結晶化し粒子を強
固に結合させることにより、焼結時の寸法変化率が小さ
く、高強度、高じん性のセラミックスが得られる。
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されない。
本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例1
平均粒径1μ惰のSi0粉末100容量部に対して、ポ
リシラン化合物(分子512000)を20容量部添加
し、キシレンと一緒に24時間混合した。そして混合粉
を乾燥し、アルゴン中1100℃で2時間加熱処理し、
sio粉末表面にSi0..01Si0の非晶質膜を形
成させた。得られた粉末を電子顕微鏡で観察すると、第
1図に示すようにsi。
リシラン化合物(分子512000)を20容量部添加
し、キシレンと一緒に24時間混合した。そして混合粉
を乾燥し、アルゴン中1100℃で2時間加熱処理し、
sio粉末表面にSi0..01Si0の非晶質膜を形
成させた。得られた粉末を電子顕微鏡で観察すると、第
1図に示すようにsi。
粒核の表面は5μ惰以下の非晶質膜で覆われていること
が判る。第1図は、本発明の粒核表面が非晶質膜で覆わ
れている粒子の断面図であり、符号1は粒核、2は非晶
質膜を意味する。
が判る。第1図は、本発明の粒核表面が非晶質膜で覆わ
れている粒子の断面図であり、符号1は粒核、2は非晶
質膜を意味する。
この粉末100容量部に成形用バインダーとしてポリビ
ニルアルコール粉末を5容量部添加しメタノールと一緒
1c10時間混合、乾燥、成形しφ50X10−の成形
体を得た。
ニルアルコール粉末を5容量部添加しメタノールと一緒
1c10時間混合、乾燥、成形しφ50X10−の成形
体を得た。
これを加熱処理してバインダーを除去し、次いで成形体
は窒素雰囲気中5℃/ winで1100℃まで加熱し
、1100℃から1750℃まで4℃/hで加熱し、非
晶質膜を結晶化させ焼結体を得た。
は窒素雰囲気中5℃/ winで1100℃まで加熱し
、1100℃から1750℃まで4℃/hで加熱し、非
晶質膜を結晶化させ焼結体を得た。
得られた焼結体の特性を第1表に示す。
比較のために、平均粒径1μ鴨のsiO粉末単味を同様
に焼結して得た焼結体特性を第1表の比較例1、に示す
。また、非晶質膜を形成するポリシラ/化合物と成形用
バインダーのポリビニルアルコールを始めから同時に添
加し成形したものを実施例1と同様に加熱処理して得た
焼結体の特性を比較例2に示す。
に焼結して得た焼結体特性を第1表の比較例1、に示す
。また、非晶質膜を形成するポリシラ/化合物と成形用
バインダーのポリビニルアルコールを始めから同時に添
加し成形したものを実施例1と同様に加熱処理して得た
焼結体の特性を比較例2に示す。
ここで、破壊じん性値KIOはjX 4 X 40 。
(X ハフ S O−)の試験片にダイヤモンドホイー
ルで05■の切り欠きを入れたノッチドビーム法で測定
した。熱衝撃値は、焼結体を1000℃で50分間保持
した後、水中に投入して急冷し、き裂を発生するまで反
復し、その回数をもって比較した。
ルで05■の切り欠きを入れたノッチドビーム法で測定
した。熱衝撃値は、焼結体を1000℃で50分間保持
した後、水中に投入して急冷し、き裂を発生するまで反
復し、その回数をもって比較した。
以上より、本発明品は、強度、じん性、耐熱衝撃性に優
れていることが判る。
れていることが判る。
実施例2〜11、比較例3及び4
平均粒径[L9μ惰のEi i、 N、粉末と平均粒径
α9μ惰の金属Si粉末を第2表に示す割合で混合し、
その混合物100容量部に対し、シリコンイミド化合物
(分子量1SOO)を15容量部添加し、キシレンと一
緒に24時間混合した。そして混合粉を乾燥し、窒素中
、1000℃で5時間加熱処理し、Si01金属Si粒
子表面にsio、、a、Si0 、 Eli、N、、B
i、N、Oの非晶質膜を形成させた。得られた粉末は、
らいかい機により細かく粉砕し、この粉末100容量部
に成形用バインダーとしてポリエチレン系ワックスを2
5容量部添加し、加圧ニーダで150℃、10時間加熱
混練した後、混合物を破砕し160℃、1000 kg
/iの条件で射出成形を用いて成形体を得た。そして成
形体中のワックス分を除くためにアルゴン中z5℃/h
で450℃まで加熱した。そして、窒素ガス中、110
0℃から1400℃まで4℃/hで加熱処理し焼結体を
得た。
α9μ惰の金属Si粉末を第2表に示す割合で混合し、
その混合物100容量部に対し、シリコンイミド化合物
(分子量1SOO)を15容量部添加し、キシレンと一
緒に24時間混合した。そして混合粉を乾燥し、窒素中
、1000℃で5時間加熱処理し、Si01金属Si粒
子表面にsio、、a、Si0 、 Eli、N、、B
i、N、Oの非晶質膜を形成させた。得られた粉末は、
らいかい機により細かく粉砕し、この粉末100容量部
に成形用バインダーとしてポリエチレン系ワックスを2
5容量部添加し、加圧ニーダで150℃、10時間加熱
混練した後、混合物を破砕し160℃、1000 kg
/iの条件で射出成形を用いて成形体を得た。そして成
形体中のワックス分を除くためにアルゴン中z5℃/h
で450℃まで加熱した。そして、窒素ガス中、110
0℃から1400℃まで4℃/hで加熱処理し焼結体を
得た。
得られた焼結体の特性を第2表に示す。また第2図に金
属Si配合量(容量部、横軸)と曲げ強さく MN/惰
へ縦軸)及び破壊しん性値(Ml/mψ、縦軸)との関
係をグラフとして示す。
属Si配合量(容量部、横軸)と曲げ強さく MN/惰
へ縦軸)及び破壊しん性値(Ml/mψ、縦軸)との関
係をグラフとして示す。
比較のために1平均粒径(L9μ情のSi−4粉末に焼
結助剤としてY、O,を5容量部、ム/、 Osを5容
量部添加した混合粉末100容量部に同様にしてポリエ
チレン系ワックスを添加、混合、成形した成形体を窒素
中1750℃で2時間加熱処理し焼結体を得た。得られ
た焼結体の特性を第2表に併せて示す。また、比較例と
してSi.N、粉末70容量部にSi0ウイスカを20
容量部添加し、焼結助剤としてム’*01、y、o、
を各々5容量部添加し、混合、成形した成形体を窒素中
1750℃で2時間加熱処理し焼結体を得た。得られた
焼結体の特性を第2表に併せて示す。
結助剤としてY、O,を5容量部、ム/、 Osを5容
量部添加した混合粉末100容量部に同様にしてポリエ
チレン系ワックスを添加、混合、成形した成形体を窒素
中1750℃で2時間加熱処理し焼結体を得た。得られ
た焼結体の特性を第2表に併せて示す。また、比較例と
してSi.N、粉末70容量部にSi0ウイスカを20
容量部添加し、焼結助剤としてム’*01、y、o、
を各々5容量部添加し、混合、成形した成形体を窒素中
1750℃で2時間加熱処理し焼結体を得た。得られた
焼結体の特性を第2表に併せて示す。
以上より、本発明品は比較例に対して焼結時の寸法変化
率が1710小さく、高温曲げ強さ、破壊じん性、耐熱
衝撃性に優れていることが判る。特に、Si.N、粉末
と金属S1粉末の組成比は、金属Si粉末が40〜90
容量部の時、特に破壊じん性、曲げ強さが大きいことが
判る。
率が1710小さく、高温曲げ強さ、破壊じん性、耐熱
衝撃性に優れていることが判る。特に、Si.N、粉末
と金属S1粉末の組成比は、金属Si粉末が40〜90
容量部の時、特に破壊じん性、曲げ強さが大きいことが
判る。
実施例12〜25
実施例1と同様にSi0粉末の代りに、T10、Tin
、 TiB2 、ZrO%ZrN、 ZrB1.0r
301.0rlN、 OrB。
、 TiB2 、ZrO%ZrN、 ZrB1.0r
301.0rlN、 OrB。
5103、l1li、N、O、ム’tO1sム/N、
Zr01の粉末(平均粒径1μ、、)を用いて、混合、
成形、焼結を行った。得られた焼結体の特性を第5表に
示す。
Zr01の粉末(平均粒径1μ、、)を用いて、混合、
成形、焼結を行った。得られた焼結体の特性を第5表に
示す。
実施例26〜29、比較例5〜7
実施例5と同様に、平均粒径a、9/JmのSiaN、
粉末60容量部に金属S1粉末40容量部に対し、シリ
コンイミド化合物の添加量を変えて、非晶質膜の厚さを
変えて成形、焼結し焼結体を得た。得られた焼結体の特
性を第4表に示す。また、第S図に非晶質膜の厚さくμ
惰、横軸)と得られた焼結体の曲げ強さく MW/ J
、縦軸)及び破壊じん性値(MW/wsφ、縦軸)の関
係をグラフとして示す。
粉末60容量部に金属S1粉末40容量部に対し、シリ
コンイミド化合物の添加量を変えて、非晶質膜の厚さを
変えて成形、焼結し焼結体を得た。得られた焼結体の特
性を第4表に示す。また、第S図に非晶質膜の厚さくμ
惰、横軸)と得られた焼結体の曲げ強さく MW/ J
、縦軸)及び破壊じん性値(MW/wsφ、縦軸)の関
係をグラフとして示す。
第4表
以上より、厚さが5pty+よ抄大きくなると非晶質膜
にクラックが入りだし、焼結時の収縮率も大きく、気孔
も大きくなり曲げ強さ、じん性などが低下する。また非
晶質膜が11μ鴨でもあると効果があることが判る。
にクラックが入りだし、焼結時の収縮率も大きく、気孔
も大きくなり曲げ強さ、じん性などが低下する。また非
晶質膜が11μ鴨でもあると効果があることが判る。
実施例SO〜40
実施例5と同様に、シリコンイミド化合物の代りに第5
表に示す有機ケイ素高分子化合物を用いて焼結体を得た
。得られた焼結体の特性を第5表に示す。
表に示す有機ケイ素高分子化合物を用いて焼結体を得た
。得られた焼結体の特性を第5表に示す。
以上より、本発明品は曲げ強さ、じん性、耐熱衝撃性に
優れていることが判る。
優れていることが判る。
実施例41、比較例8
平均粒径1μ惧の金属S1粉末60容量部、平均粒径1
0pgのEliO粉末40容量部にシリコンイミド化合
物を15容量部添加し、キシレンと一緒に24時間混合
した。そして、混合粉を乾燥し、アルゴン中1100℃
で2時間加熱処理し、金属Eli及びS10粉末表面に
非晶質膜を形成させた。そして、この粉末100容量部
にポリエチレン系ワックス、ステアリン酸、ブレンドワ
ックスなどを55容量部添加し、加圧ニーダを用いて1
60℃で5時間混練した。混練物は粉砕したのち射出成
形機を用いて第4図に示すようなターボチャージャロー
タの成形体を作製した。すなわち第4−1図はターボチ
ャージャロータの一実施例を示す174平面図、第4−
2図はその側断面図である。
0pgのEliO粉末40容量部にシリコンイミド化合
物を15容量部添加し、キシレンと一緒に24時間混合
した。そして、混合粉を乾燥し、アルゴン中1100℃
で2時間加熱処理し、金属Eli及びS10粉末表面に
非晶質膜を形成させた。そして、この粉末100容量部
にポリエチレン系ワックス、ステアリン酸、ブレンドワ
ックスなどを55容量部添加し、加圧ニーダを用いて1
60℃で5時間混練した。混練物は粉砕したのち射出成
形機を用いて第4図に示すようなターボチャージャロー
タの成形体を作製した。すなわち第4−1図はターボチ
ャージャロータの一実施例を示す174平面図、第4−
2図はその側断面図である。
この成形体は、アルゴン中2.5℃Aで500℃まで加
熱し、成形用バインダーを除去した。そして、窒素中1
100℃から1500℃まで5℃、へで加熱した。得ら
れたターボチャージャロータの特性を第6表に示す。比
較のために、常圧焼結サイアロ/のターボチャージャロ
ータの特性を比較例に示す。
熱し、成形用バインダーを除去した。そして、窒素中1
100℃から1500℃まで5℃、へで加熱した。得ら
れたターボチャージャロータの特性を第6表に示す。比
較のために、常圧焼結サイアロ/のターボチャージャロ
ータの特性を比較例に示す。
第6表
これより、本発明品は、1400℃の高温においても曲
げ強さが低下せず、じん性も大きく、また焼結時の寸法
変化率が小さいので、製品の寸法ばらつきをおさえるこ
とができ、加工コストも従来の半分以下になると考えら
れ、量産品に適していることが判る。
げ強さが低下せず、じん性も大きく、また焼結時の寸法
変化率が小さいので、製品の寸法ばらつきをおさえるこ
とができ、加工コストも従来の半分以下になると考えら
れ、量産品に適していることが判る。
以上説明したように1本発明によれば、焼結による寸法
変化率が小さく、焼結助剤を用いることなく高強度、高
じん性、耐熱性かつ耐熱衝撃性にも優れた材料が得られ
る。
変化率が小さく、焼結助剤を用いることなく高強度、高
じん性、耐熱性かつ耐熱衝撃性にも優れた材料が得られ
る。
これによシ、耐火物、エンジンやタービンなどの構造用
部品を始め航空機、宇宙関係、鉄鋼、海洋開発などの分
野へのセラミックスの利用範囲が拡大する。
部品を始め航空機、宇宙関係、鉄鋼、海洋開発などの分
野へのセラミックスの利用範囲が拡大する。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の結晶粒子表面が非晶質膜で覆われて
いる粒子の断面図、第2図は金属s1配合量と曲げ強さ
及び破壊しん性値の関係を示すグラフ、第5図は非晶質
膜の厚さと曲げ強さ及び破壊しん性値の関係を示すグラ
フ、第4−1図はターボチャージャーロータの一例を示
す1/4平面図、第4−2図はその側断面図である。 1:粒核、2:非晶質膜
いる粒子の断面図、第2図は金属s1配合量と曲げ強さ
及び破壊しん性値の関係を示すグラフ、第5図は非晶質
膜の厚さと曲げ強さ及び破壊しん性値の関係を示すグラ
フ、第4−1図はターボチャージャーロータの一例を示
す1/4平面図、第4−2図はその側断面図である。 1:粒核、2:非晶質膜
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、無機化合物である酸化物、炭化物、ホウ化物、窒化
物及び酸窒化物、並びに金属Siよりなる群から選択し
た少なくとも1種の結晶粒子の複数個で構成された粒核
の表面に、SiC、Si_3N_4及びBi_2N_2
Oよりなる群から選択した少なくとも1種の結晶からな
る被覆層を有する粒子が、該被覆層によつて互いに緊密
に焼結されていることを特徴とする高じん性セラミック
ス。 2、無機化合物である酸化物、炭化物、ホウ化物、窒化
物及び酸窒化物、並びに金属Siよりなる群から選択し
た少なくとも1種の結晶粒子の複数個で構成された粒核
の表面が、SiO、Si_3N_4、BiO_2、Si
_2N_2O及びCよりなる群から選択した少なくとも
、種からなる非晶質膜で覆われていることを特徴とする
セラミックス用組成粉。 3、該無機化合物が、SiC、Si_3N_4、TiC
、TiN、ZrC、ZrN、ZrO_2、Cr_2O_
2及びCr_2Nよりなる群から選択した少なくとも1
種である特許請求の範囲第2項記載のセラミックス用組
成粉。 4、該結晶粒子が、該無機化合物結晶粒子粉末の10〜
60容量部と、該金属Si結晶粒子粉末の90〜40容
量部とからなるものである特許請求の範囲第2項記載の
セラミックス用組成粉。 5、無機化合物である酸化物、炭化物、ホウ化物、窒化
物及び酸窒化物、並びに金属Siよりなる群から選択し
た少なくとも1種の結晶粒子の複数個で構成された粒核
粉末100容量部に対して有機ケイ素高分子化合物を5
〜40容量部添加した混合物を、非晶質膜を形成するこ
とができる温度で加熱して、SiC、Si_3N_4、
SiO_2、Si_2N_2O及びCよりなる群から選
択した少なくとも1種からなる非晶質膜で覆われた該結
晶粉末粒子を形成させ、この粒子100容量部に対して
成形用バインダーを5〜40容量部混合して成形体を作
製し、該成形用バインダーを加熱処理して除去し、その
後、不活性雰囲気中で加熱、焼結することを特徴とする
セラミックスの製造方法。 6、該無機化合物が、SiC、Si_3N_4、TiC
、TiN、ZrC、ZrN、ZrO_2、Cr_3C_
2及びCr_2Nよりなる群から選択した少なくとも1
種である特許請求の範囲第5項記載のセラミックスの製
造方法。 7、該結晶粒子が、該無機化合物結晶粒子の10〜60
容量部と、該金属Si結晶粒子の90〜40容量部とか
らなるものである特許請求の範囲第5項記載のセラミッ
クスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62032357A JPS63201056A (ja) | 1987-02-17 | 1987-02-17 | 高じん性セラミックスの製造方法及びセラミックス用組成粉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62032357A JPS63201056A (ja) | 1987-02-17 | 1987-02-17 | 高じん性セラミックスの製造方法及びセラミックス用組成粉 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2247163A Division JP2514107B2 (ja) | 1990-09-19 | 1990-09-19 | タ―ボチャ―ジャロ―タ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63201056A true JPS63201056A (ja) | 1988-08-19 |
JPH058140B2 JPH058140B2 (ja) | 1993-02-01 |
Family
ID=12356703
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62032357A Granted JPS63201056A (ja) | 1987-02-17 | 1987-02-17 | 高じん性セラミックスの製造方法及びセラミックス用組成粉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63201056A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57106580A (en) * | 1980-12-25 | 1982-07-02 | Tokushu Muki Zairyo Kenkyusho | Manufacture of ceramic sintered formed body |
JPS6117466A (ja) * | 1984-07-02 | 1986-01-25 | 株式会社日立製作所 | セラミックス焼結体の製造方法 |
-
1987
- 1987-02-17 JP JP62032357A patent/JPS63201056A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57106580A (en) * | 1980-12-25 | 1982-07-02 | Tokushu Muki Zairyo Kenkyusho | Manufacture of ceramic sintered formed body |
JPS6117466A (ja) * | 1984-07-02 | 1986-01-25 | 株式会社日立製作所 | セラミックス焼結体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH058140B2 (ja) | 1993-02-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6051655A (ja) | セラミックス焼結体の製造方法 | |
JP2730245B2 (ja) | 炭化珪素・窒化珪素質複合焼結体の製造方法 | |
JPS63201056A (ja) | 高じん性セラミックスの製造方法及びセラミックス用組成粉 | |
JPH0545556B2 (ja) | ||
JPS5891072A (ja) | 窒化珪素焼結体の製造法 | |
JP2514107B2 (ja) | タ―ボチャ―ジャロ―タ | |
JPS60186491A (ja) | 窒化ケイ素質焼結体 | |
JPS63236757A (ja) | 多結晶セラミツクス製品及びその製造方法 | |
JPS6345173A (ja) | 高靭性セラミツク焼結体とその製造法 | |
JPS6158868A (ja) | ラジアルタ−ビンホイ−ルとその製造方法 | |
JPS61201662A (ja) | 複合セラミツクスの製造法 | |
JPH03109269A (ja) | 炭素繊維強化サイアロン基セラミックス複合材料 | |
JPS6241773A (ja) | 複合セラミツクスの製造法 | |
JPS61117159A (ja) | 炭化珪素焼結体およびその製法 | |
JPS6270267A (ja) | 窒化ケイ素焼結体の製造法 | |
JPS63256572A (ja) | SiC基セラミツクスとその製造方法 | |
JPS62223065A (ja) | 複合セラミツクス焼結体 | |
JPS60260471A (ja) | β―サイアロンを含まないα―サイアロン質焼結体 | |
JPH0510294B2 (ja) | ||
JPS61146754A (ja) | 複合セラミツクスの製造法 | |
JPS6317264A (ja) | 導電性サイアロン焼結体 | |
JPS6270266A (ja) | 切削工具用複合焼結体の製造方法 | |
JPS60195064A (ja) | 繊維で強化された複合セラミックスの製造法 | |
JPS59152271A (ja) | 高密度窒化珪素反応焼結体を製造する方法 | |
JP2817908B2 (ja) | 熱間加工能を持つ酸窒化ケイ素基セラミックスの製造方法 |