JPS63196069A - 混成集積回路 - Google Patents

混成集積回路

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JPS63196069A
JPS63196069A JP2850287A JP2850287A JPS63196069A JP S63196069 A JPS63196069 A JP S63196069A JP 2850287 A JP2850287 A JP 2850287A JP 2850287 A JP2850287 A JP 2850287A JP S63196069 A JPS63196069 A JP S63196069A
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JP
Japan
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pattern
electrode
resistor
capacitor
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JP2850287A
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Kunitsugu Tanaka
田中 国嗣
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NEC Corp
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NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、混成集積回路装置に関し、特に高周波帯で用
いられる混成集積回路に関する。
〔従来の技術〕
従来、混成集積回路において、表面上にエミッタ抵抗帰
還匿トランジスタ多段増幅回路のエミッタ電極部とエミ
ッタ帰還抵抗体と接地電極パターンとが形成され、かつ
エミッタピーキング用コンデンサが前記エミッタ帰還抵
抗体と並列に配置される構造には、第1の構造として、
エミッタ帰還抵抗体と並列沈積層セラミックコンデンサ
等々が配置できる様にしたもの、第2の構造として、エ
ミッタ電極部に対面する裏面にメタ2イズパターンを配
置するもの、等々があった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、前記第1Q構造は、エミッタ帰還抵抗体
とエミッタビーキング用積層セラミックコンデンサとが
並列に配置される構造である為、物理的にある一定の距
離を必要とし、従ってパターンのり一ドインダクタンス
分くより、周波数帯域の高域において帰還インピーダン
スの上昇による帰還量の増大によって高域の利得低下を
招き、周波数特性を劣化させる等々の欠点があった。第
2の構造は、エミッタ電極部に対面する部分にしか容量
を形成することができず、従って数PF程度の小容量で
ある為、充分なエミッタピーキング容量を確保できず特
殊な用途にしか採用できないという欠点がありた。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の目的は、上述の諸欠点を取シ除くことにある。
すなわち、絶縁性基板の表面パターン上のエミッタ帰還
抵抗体と並列に設けられたエミッタピーキング用コンデ
ンサパターンのリードインダクタンス分を小さくして利
得の低下を防ぎ周波数特性を改善し、また高域でグラン
ドも充分に取れるように改善して、安価で、高周波特性
の曳い混成集積回路を提供することである。
本発明による混成集積回路は、絶縁性基板の表面上の所
定部に設けられたエミッタ抵抗帰還型トランジスタ増幅
回路のエミッタ電極部と、−喝が前記エミッタ電極部と
接続され他端が表面接地電極部と接続され九エミッタ膜
抵抗体と、前記表面接地電極上に形成された誘電体膜と
、この誘電体の上に前記表面接地電極と対面するように
設けられた第2の電極と、前記表面接地電極とから構成
されたエミッタ回路パターンとを備えたことを特徴とす
る。
〔実施例〕
以下に本発明の詳細を実施例を用いて説明する。
第1図は本発明の一実施例で1)、エミッタ抵抗帰還型
増幅回路基板の表面パターンである。第2図は、第1図
の等価回路である。
第1図の表面パターンにおいて、エミッタ抵抗帰還型ト
ランジスタ増幅器のエミッタ電極10と表面パターンの
接地電極パターン30との間にエミッタ膜抵抗体20が
形成され、かつ前記エミ。
夕電極10とエミッタ膜抵抗体20と接地電極パターン
30の上に誘電体膜50が形成され、その誘電体膜50
の上側でかつ接地電極パターン30の一部と接続面を有
する厚膜コンデンサの上部電極40を形成することによ
シ、エミッタ抵抗に並列にエミッタピーキング用コンデ
ンサを同時に形成したことくなる。エミッタ抵抗体20
と誘電体膜50及び上部電極40の上下関係は逆でも機
能的には同様であることは云うまでもない。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、エミッタ帰還抵抗体と多
層構造にして厚膜ピーキングコンデンサを設けることに
よシ、コンデンサパターンのリードインダクタンス分を
小さくして利得の低下を防ぎ、周波数特性を改善し、安
定度も増しピーキング用コンデンサを厚膜構成としてい
る為、外部に積層セラオックコンデンサ等々の部品を取
〕付ける必要もなく資材費や工数を削減でき安価で高周
波特性の良い利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す表面の平面図、第2図
は本発明の一実施例の等価回路図である。 10・・・・・・エミッタ抵抗帰還型トランジスタ増幅
器のエミッタ電極、11・・・・・・エミッタ抵抗帰還
型トランジスタ増幅器のコレクタ電極、12・・・・・
・エミッタ抵抗帰還型トランジスタ増幅器のペース電極
、20・・・・・・エミッタ抵抗帰還型トランジスタ増
幅器のエミッタ抵抗、30・・・・・・表面パターンの
接地電極パターン、40・・・・・・厚膜コンデンサ上
部電極、50・・・・・・誘電体膜。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  絶縁性基板の表面上の所定部に設けられたエミッタ抵
    抗帰還型トランジスタ増幅回路のエミッタ電極部と、一
    端が前記エミッタ電極部と接続され他端が表面接地電極
    部と接続されたエミッタ膜抵抗体と、前記表面接地電極
    上に形成された誘電体膜と、この誘電体の上に前記表面
    接地電極と対面するように設けられた電極と、前記表面
    接 地電極とから構成されたエミッタ回路パターンとを備え
    たことを特徴とする混成集積回路。
JP2850287A 1987-02-09 1987-02-09 混成集積回路 Expired - Lifetime JPH0682779B2 (ja)

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JPS63196069A true JPS63196069A (ja) 1988-08-15
JPH0682779B2 JPH0682779B2 (ja) 1994-10-19

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001091526A1 (en) * 2000-05-20 2001-11-29 Central Research Laboratories Limited A method of providing a bias voltage at radio frequencies

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001091526A1 (en) * 2000-05-20 2001-11-29 Central Research Laboratories Limited A method of providing a bias voltage at radio frequencies

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JPH0682779B2 (ja) 1994-10-19

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