JPS63193930A - 有機シラザン重合体の製造方法 - Google Patents
有機シラザン重合体の製造方法Info
- Publication number
- JPS63193930A JPS63193930A JP62025786A JP2578687A JPS63193930A JP S63193930 A JPS63193930 A JP S63193930A JP 62025786 A JP62025786 A JP 62025786A JP 2578687 A JP2578687 A JP 2578687A JP S63193930 A JPS63193930 A JP S63193930A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- manufacturing
- polymer
- group
- mol
- formulas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 92
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 63
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 40
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- 238000005915 ammonolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 28
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 23
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 17
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 17
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 16
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims abstract description 16
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims abstract 4
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims abstract 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 47
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 37
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 33
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 20
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 20
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 17
- 238000009987 spinning Methods 0.000 claims description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 13
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 12
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000460 chlorine Chemical group 0.000 claims description 9
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 claims description 9
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 8
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 8
- 230000005595 deprotonation Effects 0.000 claims description 7
- 238000010537 deprotonation reaction Methods 0.000 claims description 7
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims description 7
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 6
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- VFURVLVRHAMJKG-UHFFFAOYSA-N dichloro-[2-[dichloro(methyl)silyl]ethyl]-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CC[Si](C)(Cl)Cl VFURVLVRHAMJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 3
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WDVUXWDZTPZIIE-UHFFFAOYSA-N trichloro(2-trichlorosilylethyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC[Si](Cl)(Cl)Cl WDVUXWDZTPZIIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VGQOKOYKFDUPPJ-UHFFFAOYSA-N chloro-[2-[chloro(dimethyl)silyl]ethyl]-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CC[Si](C)(C)Cl VGQOKOYKFDUPPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920000592 inorganic polymer Polymers 0.000 claims 1
- 239000000047 product Substances 0.000 abstract description 32
- 239000002243 precursor Substances 0.000 abstract description 14
- QUPDWYMUPZLYJZ-UHFFFAOYSA-N ethyl Chemical compound C[CH2] QUPDWYMUPZLYJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 abstract 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 26
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000012700 ceramic precursor Substances 0.000 description 11
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 7
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 7
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C=C YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 5
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 5
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 4
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 4
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920001709 polysilazane Polymers 0.000 description 4
- -1 Na H Inorganic materials 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 3
- FXMNVBZEWMANSQ-UHFFFAOYSA-N chloro(silyl)silane Chemical class [SiH3][SiH2]Cl FXMNVBZEWMANSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 3
- 238000002074 melt spinning Methods 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 229910000069 nitrogen hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrachloro-3',6'-dihydroxy-2',4',5',7'-tetraiodospiro[2-benzofuran-3,9'-xanthene]-1-one Chemical compound O1C(=O)C(C(=C(Cl)C(Cl)=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N Diphenyl disulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SSC1=CC=CC=C1 GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 229930187593 rose bengal Natural products 0.000 description 2
- 229940081623 rose bengal Drugs 0.000 description 2
- STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N rose bengal A Natural products O1C(=O)C(C(=CC=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- KSJBMDCFYZKAFH-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethylsulfanyl)ethanethiol Chemical compound SCCSCCS KSJBMDCFYZKAFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- ZWOASCVFHSYHOB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dithiol Chemical compound SC1=CC=CC(S)=C1 ZWOASCVFHSYHOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 238000002468 ceramisation Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N cyclobenzothiazole Natural products C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000009969 flowable effect Effects 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- SDNJNDFHCODQDQ-UHFFFAOYSA-N n-(2-ethylphenyl)-2-[[2-[(2-ethylphenyl)carbamoyl]phenyl]disulfanyl]benzamide Chemical compound CCC1=CC=CC=C1NC(=O)C1=CC=CC=C1SSC1=CC=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC=C1CC SDNJNDFHCODQDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Inorganic Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用
本発明は、セラミックス前駆体として好適に使用される
有機シラザン重合体の製造方法及び該有機シラザン重合
体を用いたセラミックスの製造方法に関する。
有機シラザン重合体の製造方法及び該有機シラザン重合
体を用いたセラミックスの製造方法に関する。
従来の技術及び 明が解 しようとするri題点上ラミ
ックスは、耐熱性、耐摩耗性、高温強度等に優れた材料
として注目を集めているが、固く、そして脆いため、セ
ラミックスを加工することは極めて困難である。従って
、セラミックス製品を製造する場合、セラミックス材料
の微粉末を加圧等の方法により予め所望の形状に成形し
た後、焼結する方法、或いはセラミックス前駆体として
の有機重合体を溶融若しくは溶剤に溶解し、これを所望
の形状に加工した後、焼成して無機化する前駆体法等が
採用されている。上記前駆体法の最大の特徴は、微粉末
による焼結法では不可能な形状のセラミックス製品を得
ることができ、従って繊維状或いはシート状といった特
殊形状の製品を製造し得ることである。
ックスは、耐熱性、耐摩耗性、高温強度等に優れた材料
として注目を集めているが、固く、そして脆いため、セ
ラミックスを加工することは極めて困難である。従って
、セラミックス製品を製造する場合、セラミックス材料
の微粉末を加圧等の方法により予め所望の形状に成形し
た後、焼結する方法、或いはセラミックス前駆体として
の有機重合体を溶融若しくは溶剤に溶解し、これを所望
の形状に加工した後、焼成して無機化する前駆体法等が
採用されている。上記前駆体法の最大の特徴は、微粉末
による焼結法では不可能な形状のセラミックス製品を得
ることができ、従って繊維状或いはシート状といった特
殊形状の製品を製造し得ることである。
この場合、一般にセラミックスと呼ばれるもののうちS
iC及びSi、N4は、それぞれSiCが耐熱性、高温
強度に優れ、Si、N4が耐熱衝撃性、破壊靭性に優れ
るなど、高Iでの優れた特性を有するために広く注目を
集めており、このため従来より、下記■〜■に示すよう
に、前駆体法による5iC−3i、N4系セラミツクス
の製造方法及びその有機珪素前駆体の製造方法に関する
種々の提案がなされているが、これらの提案はいずれも
問題点を有するものであった。即ち、 ■米国特許第3,853,567号明細書には、クロロ
シラン類とアミン類とを反応させ、次いで200〜80
0℃に加熱してカルボシラザンを得た後、これを紡糸、
不融化して800〜20oO℃で高温焼成することによ
り、5iC−Si、N4系セラミツクスを得る方法が開
示されている。しかし、この方法は、カルボシラザンを
得るために520〜650’Cという高温が必要であっ
て、工業的製法として極めて困難であること、またカル
ボシラザンを無機化する際にセラミック収率が約55%
という低収率となることといった欠点を有する。なお、
この米国特許明細書の実施例には、クロロシラン類とし
てはメチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン
、アミン類としてはメチルアミンの例しか記述されてい
ない。
iC及びSi、N4は、それぞれSiCが耐熱性、高温
強度に優れ、Si、N4が耐熱衝撃性、破壊靭性に優れ
るなど、高Iでの優れた特性を有するために広く注目を
集めており、このため従来より、下記■〜■に示すよう
に、前駆体法による5iC−3i、N4系セラミツクス
の製造方法及びその有機珪素前駆体の製造方法に関する
種々の提案がなされているが、これらの提案はいずれも
問題点を有するものであった。即ち、 ■米国特許第3,853,567号明細書には、クロロ
シラン類とアミン類とを反応させ、次いで200〜80
0℃に加熱してカルボシラザンを得た後、これを紡糸、
不融化して800〜20oO℃で高温焼成することによ
り、5iC−Si、N4系セラミツクスを得る方法が開
示されている。しかし、この方法は、カルボシラザンを
得るために520〜650’Cという高温が必要であっ
て、工業的製法として極めて困難であること、またカル
ボシラザンを無機化する際にセラミック収率が約55%
という低収率となることといった欠点を有する。なお、
この米国特許明細書の実施例には、クロロシラン類とし
てはメチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン
、アミン類としてはメチルアミンの例しか記述されてい
ない。
■米国特許第4,097,294最明Jilt書には1
種々の珪素を含有するポリマーが熱分解によってセラミ
ック物質に変換されることが示されている。
種々の珪素を含有するポリマーが熱分解によってセラミ
ック物質に変換されることが示されている。
しかし、シラザンポリマーに関しては僅かに一例しか開
示されておらず、しかもそのセラミック化収率は最大で
12%という低収率である。また、この米国特許明細書
にはセラミックスの繊維化、薄膜化等も可能であると記
載されているが、単にその可能性を示唆したに過ぎず、
前駆体法で最も重要とされるポリマーの成形性、加工性
については全く言及されていない。
示されておらず、しかもそのセラミック化収率は最大で
12%という低収率である。また、この米国特許明細書
にはセラミックスの繊維化、薄膜化等も可能であると記
載されているが、単にその可能性を示唆したに過ぎず、
前駆体法で最も重要とされるポリマーの成形性、加工性
については全く言及されていない。
■特開昭57−117532号公報には、クロロジシラ
ン類とジシラザン類との反応により、特開昭57−13
9124号公報にはクロロシラン類とジシラザン類との
反応により、特開昭58−63725号公報にはクロロ
ジシラン類とアンモニアとの反応により、特開昭60−
135431号公報にはトリクロロシランとジシラザン
類との反応により、それぞれシラザンポリマーを得るこ
とが示されている。また、米国特許第4,535,00
7号明細書にはクロロシラン類及びジシラザン類に全屈
ハロゲン化物を添加することにより、特開昭60−20
8331号公報にはクロロジシラン類及びジシラザン類
に金属ハロゲン化物を添加することにより、それぞれシ
ラザンポリマーを製造することか開示されている。以上
のシラザンポリマーは、いずれも熱分解によってセラミ
ック化が可能であるとされている。しかしながら、セラ
ミック化収率はいずれのシラザンポリマーも50〜60
%であって低収率である。また、上記各刊行物は、■の
明細書と同様に前駆体法で最も重要であるポリマーの成
形性、加工性については詳しく記載されておらず、特に
、繊維化の実施例のないもの、或いは繊維化した実施例
はあってもそのセラミック化繊維の強度については言及
していないものが殆どである。僅かに特開昭60−20
8331号公報に強度の記載が見られるが、この場合も
引張強度で53 kg / me”或いは63 kg
/ un 2という極めて強度の低いものしか得られて
いない。
ン類とジシラザン類との反応により、特開昭57−13
9124号公報にはクロロシラン類とジシラザン類との
反応により、特開昭58−63725号公報にはクロロ
ジシラン類とアンモニアとの反応により、特開昭60−
135431号公報にはトリクロロシランとジシラザン
類との反応により、それぞれシラザンポリマーを得るこ
とが示されている。また、米国特許第4,535,00
7号明細書にはクロロシラン類及びジシラザン類に全屈
ハロゲン化物を添加することにより、特開昭60−20
8331号公報にはクロロジシラン類及びジシラザン類
に金属ハロゲン化物を添加することにより、それぞれシ
ラザンポリマーを製造することか開示されている。以上
のシラザンポリマーは、いずれも熱分解によってセラミ
ック化が可能であるとされている。しかしながら、セラ
ミック化収率はいずれのシラザンポリマーも50〜60
%であって低収率である。また、上記各刊行物は、■の
明細書と同様に前駆体法で最も重要であるポリマーの成
形性、加工性については詳しく記載されておらず、特に
、繊維化の実施例のないもの、或いは繊維化した実施例
はあってもそのセラミック化繊維の強度については言及
していないものが殆どである。僅かに特開昭60−20
8331号公報に強度の記載が見られるが、この場合も
引張強度で53 kg / me”或いは63 kg
/ un 2という極めて強度の低いものしか得られて
いない。
■特開昭6o−226890号公報ニハ、CI2−8i
−CQで示される有機珪素化合物とアンモニアとの反応
により、アンモノリシス生成物を得た後、この生成物を
アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水素化物で脱水素
縮合させてシラザンポリマーを得る方法が開示されてい
る。この方法で得られるポリマーは、脱水素縮合の度合
いによってその性状をオイル状から融点を持たない固体
まで種々調整することが可能であるとされている。しか
し、ポリマーを溶融した状態から成形、加工する場合、
例えば溶融紡糸法で連続繊維を製造する場合には、ポリ
マーが一定重合度でかつ熱的に安定であることが必要で
あるが、上記方法では重合を途中で停止させないとポリ
マーが融点を持たない固体となってしまい、溶融可能な
ポリマーを得るためには反応時間、反応温度、触媒量、
溶媒量等の微妙なコントロールを必要とし、その調整が
非常に困難であると共に、再現性に欠けるという問題が
ある。
−CQで示される有機珪素化合物とアンモニアとの反応
により、アンモノリシス生成物を得た後、この生成物を
アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水素化物で脱水素
縮合させてシラザンポリマーを得る方法が開示されてい
る。この方法で得られるポリマーは、脱水素縮合の度合
いによってその性状をオイル状から融点を持たない固体
まで種々調整することが可能であるとされている。しか
し、ポリマーを溶融した状態から成形、加工する場合、
例えば溶融紡糸法で連続繊維を製造する場合には、ポリ
マーが一定重合度でかつ熱的に安定であることが必要で
あるが、上記方法では重合を途中で停止させないとポリ
マーが融点を持たない固体となってしまい、溶融可能な
ポリマーを得るためには反応時間、反応温度、触媒量、
溶媒量等の微妙なコントロールを必要とし、その調整が
非常に困難であると共に、再現性に欠けるという問題が
ある。
更に、この方法によって得られるポリマーは熱的に安定
でなく、ゲル状物の生成を伴うといった欠点があり、以
上の二つの点から上記方法はシラザ■ で示される化合物とモノメチルアミンとから環状シラザ
ンを形成し、この環状シラザンとアンモニアとを反応さ
せることによってシラザンポリマーを得る方法が示され
ている。しかし、上記公報には該ポリマーが化学蒸着用
材料として好適であると述べられているが、ポリマーに
ついては物性等に関する詳細な記述が全くなされておら
ず、またセラミック収率についても全く触れられていな
い。
でなく、ゲル状物の生成を伴うといった欠点があり、以
上の二つの点から上記方法はシラザ■ で示される化合物とモノメチルアミンとから環状シラザ
ンを形成し、この環状シラザンとアンモニアとを反応さ
せることによってシラザンポリマーを得る方法が示され
ている。しかし、上記公報には該ポリマーが化学蒸着用
材料として好適であると述べられているが、ポリマーに
ついては物性等に関する詳細な記述が全くなされておら
ず、またセラミック収率についても全く触れられていな
い。
上述したように、従来提案されているセラミックス前駆
体としてのポリシラザン重合体は工業的生産に不適当な
ものであり、しかもセラミック繊維等の前駆体としての
成形性、加工性に劣る上、セラミックス収率が低いもの
であった。また、従来のポリシラザン重合体を前駆体と
して製造したセラミックス製品、例えばセラミック繊維
は、強度、弾性率等の種々の物性に劣るものであった。
体としてのポリシラザン重合体は工業的生産に不適当な
ものであり、しかもセラミック繊維等の前駆体としての
成形性、加工性に劣る上、セラミックス収率が低いもの
であった。また、従来のポリシラザン重合体を前駆体と
して製造したセラミックス製品、例えばセラミック繊維
は、強度、弾性率等の種々の物性に劣るものであった。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、工業的生産
に適し、かつ成形性、加工性に優れ、しかもセラミック
ス収率が高いセラミックス前駆体の製造方法及び該セラ
ミックス前駆体を用いた高品質のセラミックスの製造方
法を提供することを目的とする。
に適し、かつ成形性、加工性に優れ、しかもセラミック
ス収率が高いセラミックス前駆体の製造方法及び該セラ
ミックス前駆体を用いた高品質のセラミックスの製造方
法を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段及び作用
即ち、本発明者らは、前駆体法に属するセラミックス製
品の製造方法及びこのセラミック製品の製造に好適に用
いられる工業性、加工性等に優れたセラミックス前駆体
の製造方法を開発するため、SiC及びSi3N4の有
する優れた高温特性を併せ持つ5iC−8i3N4系セ
ラミツクスに着目し、前駆体法による5iC−5L3N
、系セラミックスの製造方法につき鋭意研究を行なった
結果、下記一般式(I)及び(II) λ (但し、Rは水素、塩素、臭素、メチル基、エチル基。
品の製造方法及びこのセラミック製品の製造に好適に用
いられる工業性、加工性等に優れたセラミックス前駆体
の製造方法を開発するため、SiC及びSi3N4の有
する優れた高温特性を併せ持つ5iC−8i3N4系セ
ラミツクスに着目し、前駆体法による5iC−5L3N
、系セラミックスの製造方法につき鋭意研究を行なった
結果、下記一般式(I)及び(II) λ (但し、Rは水素、塩素、臭素、メチル基、エチル基。
フェニル基又はビニル基、R□は水素又はメチル基、R
2は水素、メチル基、エチル基、フェニル基又はビニル
基、Xは塩素又は臭素をそれぞれ示す。
2は水素、メチル基、エチル基、フェニル基又はビニル
基、Xは塩素又は臭素をそれぞれ示す。
以下、同様。)で示される有機珪素化合物の少なくとも
1種以上と下記一般式(II I)X−8L−X ・・・・・・(III)
で示される有機珪素化合物との混合物とアンモニアとを
反応させてアンモノリシス生成物を得た後、該アンモノ
リシス生成物をアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属
の水素化物又は金属アミド等の脱プロトン化が可能な触
媒を用いて脱水素縮合させ、この縮合反応を完結させる
ことにより、熱安定性に優れ、かつ一定重合度のポリシ
ラザン重合体が得られること、更にこのポリシラザン重
合体を溶融、成形後、空気中加熱或いは電子線照射、紫
外線照射等により不融化し、焼成することによって高品
質のSiC,5ilN4を主体とするセラミックスを得
ることができることを知見し1本発明をなすに至ったも
のである。
1種以上と下記一般式(II I)X−8L−X ・・・・・・(III)
で示される有機珪素化合物との混合物とアンモニアとを
反応させてアンモノリシス生成物を得た後、該アンモノ
リシス生成物をアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属
の水素化物又は金属アミド等の脱プロトン化が可能な触
媒を用いて脱水素縮合させ、この縮合反応を完結させる
ことにより、熱安定性に優れ、かつ一定重合度のポリシ
ラザン重合体が得られること、更にこのポリシラザン重
合体を溶融、成形後、空気中加熱或いは電子線照射、紫
外線照射等により不融化し、焼成することによって高品
質のSiC,5ilN4を主体とするセラミックスを得
ることができることを知見し1本発明をなすに至ったも
のである。
従って、本発明は、上記(I)及び(II)式で示され
る有機硅素化合物の少なくとも1種以上と上記(III
)式で示される有機珪素化合物との混合物とアンモニア
とを反応させてアンモノリシス生成物を得ると共に、こ
のアンモノリシス生成物を脱プロトン化が可能な塩基性
触媒により重合させて有機シラザン重合体を得ることを
特徴とする有機シラザン重合体の製造方法を提供する。
る有機硅素化合物の少なくとも1種以上と上記(III
)式で示される有機珪素化合物との混合物とアンモニア
とを反応させてアンモノリシス生成物を得ると共に、こ
のアンモノリシス生成物を脱プロトン化が可能な塩基性
触媒により重合させて有機シラザン重合体を得ることを
特徴とする有機シラザン重合体の製造方法を提供する。
更に、本発明は、上記(I)及び(IN)式で示される
有機珪素化合物の少なくとも1種以上と上記(III)
式で示される有機珪素化合物との混合物とアンモニアと
を反応させてアンモノリシス生成物を得ると共に、この
アンモノリシス生成物を脱プロトン化が可能な塩基性触
媒により重合させて有機シラザン重合体を得1次いでこ
の有機シラザン重合体を溶融、成形し、更に不融化した
後、焼成してセラミックスを得ることを特徴とするセラ
ミックスの製造方法を提供する。
有機珪素化合物の少なくとも1種以上と上記(III)
式で示される有機珪素化合物との混合物とアンモニアと
を反応させてアンモノリシス生成物を得ると共に、この
アンモノリシス生成物を脱プロトン化が可能な塩基性触
媒により重合させて有機シラザン重合体を得1次いでこ
の有機シラザン重合体を溶融、成形し、更に不融化した
後、焼成してセラミックスを得ることを特徴とするセラ
ミックスの製造方法を提供する。
本発明に係る有機シラザン重合体の製造方法は、出発原
料として(I)及び/又は(II)式の有機珪素化合物
と(III)式の有機珪素化合物との混合物とアンモニ
アとを反応させた後、その生成物に触媒を作用させ、脱
水素縮合を完結させるだけで、熱安定性に優れた一定重
合度の有機シラザン重合体を得ることができる。従って
、本発明方法によれば、成形性、加工性に優れ、しかも
不融化性が良好であり、セラミックス収率の高い(通常
70〜80%)高品質の有機シラザン重合体を反応時間
、反応、温度、触媒量、溶媒量等の微妙なコントロール
を要することなく、かつ重合を途中で停止させるなどの
面倒な操作を要することなく、工業的に容易に製造する
ことができる。
料として(I)及び/又は(II)式の有機珪素化合物
と(III)式の有機珪素化合物との混合物とアンモニ
アとを反応させた後、その生成物に触媒を作用させ、脱
水素縮合を完結させるだけで、熱安定性に優れた一定重
合度の有機シラザン重合体を得ることができる。従って
、本発明方法によれば、成形性、加工性に優れ、しかも
不融化性が良好であり、セラミックス収率の高い(通常
70〜80%)高品質の有機シラザン重合体を反応時間
、反応、温度、触媒量、溶媒量等の微妙なコントロール
を要することなく、かつ重合を途中で停止させるなどの
面倒な操作を要することなく、工業的に容易に製造する
ことができる。
更に、本発明者らは先にメチルジクロロシラン。
ジメチルジクロロシラン、メチルトリクロロシランの三
成分系を用いた有機シラザン重合体の製造力@(特願昭
61−135437号)や、メチルジクロロシラン、メ
チルトリクロロシラン、下記一般式(IV) (但し、R3及びR,は水素又はメチル基、又は塩素又
は臭素、R5は塩素、臭素、メチル基、エチル基又はフ
ェニル基、R,は水素、塩素、臭素、メチル基。
成分系を用いた有機シラザン重合体の製造力@(特願昭
61−135437号)や、メチルジクロロシラン、メ
チルトリクロロシラン、下記一般式(IV) (但し、R3及びR,は水素又はメチル基、又は塩素又
は臭素、R5は塩素、臭素、メチル基、エチル基又はフ
ェニル基、R,は水素、塩素、臭素、メチル基。
エチル基又はフェニル基をそれぞれ示す。)で示される
有機珪素化合物の3成分系を用いた有機シラザン重合体
の製造方法(特願昭61−261634号)を提案した
。これらの方法に比べ1本発明は出発原料に上記(I)
及び/又は(II)式の有機珪素化合物と(III)式
の有機珪素化合物を用いたことにより、得られる有機シ
ラザン重合体の不融化性が向上し、セラミックス収率が
より高く、工業的に有利である。
有機珪素化合物の3成分系を用いた有機シラザン重合体
の製造方法(特願昭61−261634号)を提案した
。これらの方法に比べ1本発明は出発原料に上記(I)
及び/又は(II)式の有機珪素化合物と(III)式
の有機珪素化合物を用いたことにより、得られる有機シ
ラザン重合体の不融化性が向上し、セラミックス収率が
より高く、工業的に有利である。
また1本発明に係るセラミックスの製造方法は、上述し
た有機シラザン重合体を前駆体として用いたことにより
、優れた物性を有する適宜形状のセラミック製品を容易
に製造することができるものである。
た有機シラザン重合体を前駆体として用いたことにより
、優れた物性を有する適宜形状のセラミック製品を容易
に製造することができるものである。
なお、セラミックス前駆体であるシラザン重合体の製造
原料としてクロロシラン類を用いることは、上述したよ
うに従来より知られている。しかしながら、上述のよう
にクロロシラン類を選択すると共に、これらをアンモノ
リシスした後、その生成物に触媒を作用させて脱水素縮
合を完結させることにより、従来にない優れた特性のシ
ラザン重合体が得られるということは、本発明者らの新
たな知見である。即ち、(り及び/又は(II)式の有
機珪素化合物と(III)式の有機珪素化合物との混合
物を使用すること、好ましくはこれらを0〜30モル%
:0〜30モル%=40〜85モル%の割合で使用する
こと、更に好ましくは上記混合比で、かつ(II)及び
(III)式の有機珪素化合物の置換基R2における水
素:ビニル基:アルキル基又はフェニル基の割合が55
〜90モル%:0〜30モル%:0〜30モル%となる
ように(I)。
原料としてクロロシラン類を用いることは、上述したよ
うに従来より知られている。しかしながら、上述のよう
にクロロシラン類を選択すると共に、これらをアンモノ
リシスした後、その生成物に触媒を作用させて脱水素縮
合を完結させることにより、従来にない優れた特性のシ
ラザン重合体が得られるということは、本発明者らの新
たな知見である。即ち、(り及び/又は(II)式の有
機珪素化合物と(III)式の有機珪素化合物との混合
物を使用すること、好ましくはこれらを0〜30モル%
:0〜30モル%=40〜85モル%の割合で使用する
こと、更に好ましくは上記混合比で、かつ(II)及び
(III)式の有機珪素化合物の置換基R2における水
素:ビニル基:アルキル基又はフェニル基の割合が55
〜90モル%:0〜30モル%:0〜30モル%となる
ように(I)。
(It)及び(II[)式の有機珪素化合物を選択して
使用することにより、特開昭60−226890号公報
等に記載されたようなメチルジクロロシランを単独で使
用することによって得られるシラザン重合体とは異なる
構造を有し1種々の繰り返し単位及びこれら繰り返し単
位の結合構造が入り混じった新規なシラザン重合体が得
られること、また、このシラザン重合体が先に述べた特
願昭61−135437号や特願昭61−261634
号に記載されたような有機シラザン重合体に比べ、セラ
ミックス前駆体として用いる場合にその不融化性が良好
であること、そしてこのような従来のシラザン重合体構
造とは相違する新規構造を有し、しかも優れた特性のシ
ラザン重合体をセラミックス前駆体として用いることに
より、従来のこの種の前駆体法によるセラミックスの製
造法に比ベセラミックス収率が大幅に向上すると共に、
引張強度、弾性率等の物性が顕著に改善されたセラミッ
クスが製造されるということを、本発明者らは初めて見
い出したものである。
使用することにより、特開昭60−226890号公報
等に記載されたようなメチルジクロロシランを単独で使
用することによって得られるシラザン重合体とは異なる
構造を有し1種々の繰り返し単位及びこれら繰り返し単
位の結合構造が入り混じった新規なシラザン重合体が得
られること、また、このシラザン重合体が先に述べた特
願昭61−135437号や特願昭61−261634
号に記載されたような有機シラザン重合体に比べ、セラ
ミックス前駆体として用いる場合にその不融化性が良好
であること、そしてこのような従来のシラザン重合体構
造とは相違する新規構造を有し、しかも優れた特性のシ
ラザン重合体をセラミックス前駆体として用いることに
より、従来のこの種の前駆体法によるセラミックスの製
造法に比ベセラミックス収率が大幅に向上すると共に、
引張強度、弾性率等の物性が顕著に改善されたセラミッ
クスが製造されるということを、本発明者らは初めて見
い出したものである。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明に係る有機シラザン重合体の製造方法においては
、出発原料として上記(I)及び(II)式の有機珪素
化合物の少なくとも1種以上と上記(III)式の有機
珪素化合物とを混合して使用するものである。この場合
、その混合割合は(I):(II)?(III)が0〜
30モル%:0〜30モル%:40〜85モル%、特に
1〜25モル%=1〜25モル%:50〜80モル%と
することが好ましく、この組成比を外れた場合は得られ
る重合体がオイル状となったり、溶融できない高融点(
3oO℃以上)のものとなる場合がある。
、出発原料として上記(I)及び(II)式の有機珪素
化合物の少なくとも1種以上と上記(III)式の有機
珪素化合物とを混合して使用するものである。この場合
、その混合割合は(I):(II)?(III)が0〜
30モル%:0〜30モル%:40〜85モル%、特に
1〜25モル%=1〜25モル%:50〜80モル%と
することが好ましく、この組成比を外れた場合は得られ
る重合体がオイル状となったり、溶融できない高融点(
3oO℃以上)のものとなる場合がある。
更に、本発明においては(I)及び/又は(II)式の
有機珪素化合物と(III)式の有機珪素化合物とを上
記組成比で混合すると共に、特にこれらのうち(II)
及び(III)式の有機珪素化合物をこれらの置換基R
2において水素:ビニル基:アルキル基又はフェニル基
の割合が55〜90モル%−〇〜30モル%:0〜30
モル%、特に55〜80モル%:0〜25モル%:0〜
25モル%となるように選択することが好適である。こ
のように有機珪素化合物を選択することにより、得られ
る重合体がこれをセラミックス前駆体としてセラミック
スを製造する際の不融化性に優れ、従ってセラミックス
収率を大幅に向上させることができる。ここで、上記割
合を外れて(II)及び(III)式の化合物を混合す
ると、得られる重合体の不融化速度が遅くなったり、全
く不融化せずに焼成段階において所望の形状を保持でき
ない場合がある。
有機珪素化合物と(III)式の有機珪素化合物とを上
記組成比で混合すると共に、特にこれらのうち(II)
及び(III)式の有機珪素化合物をこれらの置換基R
2において水素:ビニル基:アルキル基又はフェニル基
の割合が55〜90モル%−〇〜30モル%:0〜30
モル%、特に55〜80モル%:0〜25モル%:0〜
25モル%となるように選択することが好適である。こ
のように有機珪素化合物を選択することにより、得られ
る重合体がこれをセラミックス前駆体としてセラミック
スを製造する際の不融化性に優れ、従ってセラミックス
収率を大幅に向上させることができる。ここで、上記割
合を外れて(II)及び(III)式の化合物を混合す
ると、得られる重合体の不融化速度が遅くなったり、全
く不融化せずに焼成段階において所望の形状を保持でき
ない場合がある。
なお、(If)及び(III)式の有機珪素化合物はそ
の置換基R2が上記範囲内となるように選択されるので
あれば、各々1種を単独で使用しても2種以上を併用配
合して多成分系としても差支えない。
の置換基R2が上記範囲内となるように選択されるので
あれば、各々1種を単独で使用しても2種以上を併用配
合して多成分系としても差支えない。
また1本発明は上記有機珪素化合物の混合物にアンモニ
アを反応させてアンモノリシス生成物を得るものである
。この場合、アンモニアを反応させる方法には限定はな
いが、例えば上記混合物を有機溶媒中で気体状NH,と
反応させ、副生する塩化アンモニウムを除去した後、有
機溶媒をストリップする等の方法が好適に採用される。
アを反応させてアンモノリシス生成物を得るものである
。この場合、アンモニアを反応させる方法には限定はな
いが、例えば上記混合物を有機溶媒中で気体状NH,と
反応させ、副生する塩化アンモニウムを除去した後、有
機溶媒をストリップする等の方法が好適に採用される。
次いで1本発明においては、上記アンモノリシス生成物
を脱プロトン化が可能な塩基性触媒により重合させる。
を脱プロトン化が可能な塩基性触媒により重合させる。
この場合、脱プロトン化に際してはアンモノリシス生成
物を溶媒中において触媒により脱水素縮合させ1反応を
完結させることが好ましい。ここで、脱プロトン化が可
能な塩基性触媒としては、K H、N a H、N a
N H2,K N H2等のアルカリ金属若しくはア
ルカリ土類金属の水素化物又は金属アミドなどを好適に
使用し得る。また。
物を溶媒中において触媒により脱水素縮合させ1反応を
完結させることが好ましい。ここで、脱プロトン化が可
能な塩基性触媒としては、K H、N a H、N a
N H2,K N H2等のアルカリ金属若しくはア
ルカリ土類金属の水素化物又は金属アミドなどを好適に
使用し得る。また。
重合工程において使用できる溶媒としては、テトラヒド
ロフラン、ジアルキルエーテル等のエーテル類、ペンタ
ン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン
、キシレン等の芳香族炭化水素などの1種又は2種以上
を使用できる。なお1重合は常温において行なうことが
できるが、溶媒の種類によっては重合温度を0〜200
℃の範囲で適宜選択することもできる。
ロフラン、ジアルキルエーテル等のエーテル類、ペンタ
ン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン
、キシレン等の芳香族炭化水素などの1種又は2種以上
を使用できる。なお1重合は常温において行なうことが
できるが、溶媒の種類によっては重合温度を0〜200
℃の範囲で適宜選択することもできる。
更に、本発明の方法では、上記脱水素縮合反応を完結さ
せた後、残存する塩基性触媒種を沃化メチル等のような
求電子化合物で分解し、生成した不溶物を一過によって
除き、更に溶媒を減圧留去することが好ましく、これに
より融点60〜200℃、分子量800〜300o(ベ
ンゼンモル凝固点降下法)のポリシラザン重合体を得る
ことができる。この場合、上記縮合反応の完結は、発生
ガスの停止によって確認することができる。
せた後、残存する塩基性触媒種を沃化メチル等のような
求電子化合物で分解し、生成した不溶物を一過によって
除き、更に溶媒を減圧留去することが好ましく、これに
より融点60〜200℃、分子量800〜300o(ベ
ンゼンモル凝固点降下法)のポリシラザン重合体を得る
ことができる。この場合、上記縮合反応の完結は、発生
ガスの停止によって確認することができる。
なお、シラザン重合体の重合度、融点は前記有機珪素化
合物の配合比を変更することによって適宜調整すること
ができる。
合物の配合比を変更することによって適宜調整すること
ができる。
このようにして得られた有機シラザン重合体は、その成
形性、加工性が高い点を利用し、次に示すようにセラミ
ックスの前駆体として適宜形状、特に繊維状又はシート
状に形成することが好適であるが、バインダー或いは接
着剤としての利用も可能である。
形性、加工性が高い点を利用し、次に示すようにセラミ
ックスの前駆体として適宜形状、特に繊維状又はシート
状に形成することが好適であるが、バインダー或いは接
着剤としての利用も可能である。
本発明に係るセラミックスの製造方法は、上述した有機
シラザン重合体を溶融、成形し、更に不融化した後、焼
成するものである。この場合、上記重合体としては、融
点が60〜200℃1分子−t800〜3000(ベン
ゼンモル凝固点降下法)のものを用いることが好ましく
、これにより重合体の溶融、成形を容易に行なうことが
できる。
シラザン重合体を溶融、成形し、更に不融化した後、焼
成するものである。この場合、上記重合体としては、融
点が60〜200℃1分子−t800〜3000(ベン
ゼンモル凝固点降下法)のものを用いることが好ましく
、これにより重合体の溶融、成形を容易に行なうことが
できる。
また、有機シラザン重合体の溶融、成形及び焼成の方法
に特に制限はなく、重合体を適宜形状に成形し、これを
焼成することによって種々形状のセラミック製品を得る
ことができる。
に特に制限はなく、重合体を適宜形状に成形し、これを
焼成することによって種々形状のセラミック製品を得る
ことができる。
例えば、セラミック繊維を製造する場合、まず有機シラ
ザン重合体を加熱溶融し、溶融紡糸法で紡糸を行なうこ
とができる。この場合、この工程において紡糸温度は重
合体の融点によって異なるが、通常100〜300℃の
範囲で実施することが好ましい。
ザン重合体を加熱溶融し、溶融紡糸法で紡糸を行なうこ
とができる。この場合、この工程において紡糸温度は重
合体の融点によって異なるが、通常100〜300℃の
範囲で実施することが好ましい。
次に、この紡糸工程で得られた糸状体を空気中で加熱し
たり、真空中或いはN2ガスや不活性ガス中等で電子線
照射を行なって不融化したり、或いはN2ガスやArガ
ス中等の不活性雰囲気中で紫外線を照射して光年融化す
る。この工程において、空気中での加熱は50〜150
℃の温度で、電子線照射は10〜2000 Mradの
照射量で行なうことが好適である。また、紫外線照射は
波長250〜400nmの入手容易な市販の紫外線ラン
プを使用し、有機シラザン重合体の不融化性能に応じて
光源の強さ、照射距離や照射時間を適宜選択して紫外線
の光量を調節することが好ましい。
たり、真空中或いはN2ガスや不活性ガス中等で電子線
照射を行なって不融化したり、或いはN2ガスやArガ
ス中等の不活性雰囲気中で紫外線を照射して光年融化す
る。この工程において、空気中での加熱は50〜150
℃の温度で、電子線照射は10〜2000 Mradの
照射量で行なうことが好適である。また、紫外線照射は
波長250〜400nmの入手容易な市販の紫外線ラン
プを使用し、有機シラザン重合体の不融化性能に応じて
光源の強さ、照射距離や照射時間を適宜選択して紫外線
の光量を調節することが好ましい。
更に、紫外線で光年融化する場合は、置換基R2として
ビニル基を比較的多量に含有した(If)及び(III
)式の有機珪素化合物から得られた有機シラザン重合体
を使用することが好ましい、なお、ビニル基含量の少な
い有機シラザン重合体も、この有機シラザン重合体に予
め光増感剤や加硫剤等を添加することにより、紫外線で
光年融化することができる。この場合、一般に光増感剤
や加硫剤を多量に添加すると重合体の諸特性に影響を及
ぼすことから、0.0001〜5重量%程度の添加量が
好適である。光増感剤や加硫剤としては公知のものが使
用し得、例示すると光増感剤としてはベンゾフェノン、
アセトフェノン、ローズベンガル等が挙げられ、加硫剤
としては二硫化ジフェニル、1.3−ベンゼンジチオー
ル、2,2′−ジチオビス(ベンゾチアゾール)−2−
メルカプトエチルサルファイド等が挙げられる。
ビニル基を比較的多量に含有した(If)及び(III
)式の有機珪素化合物から得られた有機シラザン重合体
を使用することが好ましい、なお、ビニル基含量の少な
い有機シラザン重合体も、この有機シラザン重合体に予
め光増感剤や加硫剤等を添加することにより、紫外線で
光年融化することができる。この場合、一般に光増感剤
や加硫剤を多量に添加すると重合体の諸特性に影響を及
ぼすことから、0.0001〜5重量%程度の添加量が
好適である。光増感剤や加硫剤としては公知のものが使
用し得、例示すると光増感剤としてはベンゾフェノン、
アセトフェノン、ローズベンガル等が挙げられ、加硫剤
としては二硫化ジフェニル、1.3−ベンゼンジチオー
ル、2,2′−ジチオビス(ベンゾチアゾール)−2−
メルカプトエチルサルファイド等が挙げられる。
次いで、不融化した糸状物を無張力下又は張力下におい
て高温焼成することにより、SiC。
て高温焼成することにより、SiC。
513N4を主体とする強度、弾性率に優れたセラミッ
ク繊維を得ることができる。この工程において、焼成は
真空中或いはArなどの不活性ガス。
ク繊維を得ることができる。この工程において、焼成は
真空中或いはArなどの不活性ガス。
N2ガス、N2ガス、NH3ガス等の1種又は2種以上
のガス中において700〜2000℃、特に700〜1
5oO℃で行なうことが好適である。
のガス中において700〜2000℃、特に700〜1
5oO℃で行なうことが好適である。
この場合、張力下で焼成することが特に好ましく。
これによって引張強度230〜310 kg/ wr2
゜弾性率16〜30t/am”の物性を有する高品質の
セラミック繊維を製造できる。
゜弾性率16〜30t/am”の物性を有する高品質の
セラミック繊維を製造できる。
また、焼成において、有機シラザン重合体をアルミナ、
炭化珪素、窒化珪素、窒化ホウ素等から選ばれる1種又
は2種以上の無機化合物粉末に結合材として添加すると
、容易に高品位のセラミックス成型体を得ることができ
る。
炭化珪素、窒化珪素、窒化ホウ素等から選ばれる1種又
は2種以上の無機化合物粉末に結合材として添加すると
、容易に高品位のセラミックス成型体を得ることができ
る。
呈更久亙米
以上説明したように、本発明に係る有機シラザン重合体
の製造方法によれば、熱的に安定で一定の重合度を有し
、従って成形性、加工性に優れており、しかも不融化性
が良好であることからセラミックス収率が高く、このた
めセラミック繊維用前駆体として特に好適に使用し得る
有機シラザン重合体を工業的に有利に製造することがで
きる。
の製造方法によれば、熱的に安定で一定の重合度を有し
、従って成形性、加工性に優れており、しかも不融化性
が良好であることからセラミックス収率が高く、このた
めセラミック繊維用前駆体として特に好適に使用し得る
有機シラザン重合体を工業的に有利に製造することがで
きる。
また、本発明に係るセラミックスの製造方法によれば、
高品質のS x Cr S N3 N 4を主体とする
セラミックスを高セラミックス収率で得ることができる
。この場合、本発明方法によれば、所望形状のセラミッ
ク製品、例えばセラミック繊維、セラミックシート、セ
ラミック成形体等を良好に製造することができ、これに
より不融化性が高く、強度1弾性率に優れたセラミック
繊維、シート、成形体等を得ることができる。
高品質のS x Cr S N3 N 4を主体とする
セラミックスを高セラミックス収率で得ることができる
。この場合、本発明方法によれば、所望形状のセラミッ
ク製品、例えばセラミック繊維、セラミックシート、セ
ラミック成形体等を良好に製造することができ、これに
より不融化性が高く、強度1弾性率に優れたセラミック
繊維、シート、成形体等を得ることができる。
以下実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明す
るが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
るが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
アンモノリシス工程■
〔メチルジクロロシラン:1,2−ビス(メチルジクロ
ロシリル)エタン;ジメチルジクロロシラン=70:1
0:20Cモル%)〕 攪拌機、温度計、NH3導入管、深冷コンデンサーを装
備し、乾燥した112の4つ目フラスコにヘキサン80
0mNを仕込んだ後、メチルジクロロシラン40.3
g、1.2−ビス(メチルジクロロシリル)エタン12
.8g、ジメチルジクロロシラン12.9 gを加え、
−20℃に冷却した。
ロシリル)エタン;ジメチルジクロロシラン=70:1
0:20Cモル%)〕 攪拌機、温度計、NH3導入管、深冷コンデンサーを装
備し、乾燥した112の4つ目フラスコにヘキサン80
0mNを仕込んだ後、メチルジクロロシラン40.3
g、1.2−ビス(メチルジクロロシリル)エタン12
.8g、ジメチルジクロロシラン12.9 gを加え、
−20℃に冷却した。
過剰の気体状アンモニアを50ρ/Hrの速度で1.5
時間この溶液に加えた。この反応混合物を室温まで温め
、その際未反応NH3が逃げられるよう冷却器を空冷凝
縮器に変えた1次に、ドライボックス中で反応混合物か
ら副生じた塩化アンモニウムを濾過により除去した。更
にケーク、を200mQのヘキサンで2回洗浄し、P液
から減圧下(60℃/ 1 mmHg)においてヘキサ
ンをストリップした。残留物(アンモノリシス生成物)
は透明な流動性の液体で、33gを得た。
時間この溶液に加えた。この反応混合物を室温まで温め
、その際未反応NH3が逃げられるよう冷却器を空冷凝
縮器に変えた1次に、ドライボックス中で反応混合物か
ら副生じた塩化アンモニウムを濾過により除去した。更
にケーク、を200mQのヘキサンで2回洗浄し、P液
から減圧下(60℃/ 1 mmHg)においてヘキサ
ンをストリップした。残留物(アンモノリシス生成物)
は透明な流動性の液体で、33gを得た。
アンモノリシス工程■
〔メチルジクロロシラン:1,2−ビス(メチルジクロ
ロシリル)エタン:メチルビニルジクロロシラン=65
:10:25(モル%)〕 上記と同様な装備をもつIQの4つロフラスコにヘキサ
ン800−を仕込み、これにメチルジクロロシラン37
.4g、1.2−ビス(メチルジクロロシリル)エタン
12.8 g、メチルビニルジクロロシラン17.eg
を加え、−20℃に冷却した。気体状アンモニアを45
Q/Hrの速度で1.5時間この溶液に加えた。その後
、上記のと同様の処理を行ない、透明な流動性の液体(
アンモノリシス生成物)30gを得た。
ロシリル)エタン:メチルビニルジクロロシラン=65
:10:25(モル%)〕 上記と同様な装備をもつIQの4つロフラスコにヘキサ
ン800−を仕込み、これにメチルジクロロシラン37
.4g、1.2−ビス(メチルジクロロシリル)エタン
12.8 g、メチルビニルジクロロシラン17.eg
を加え、−20℃に冷却した。気体状アンモニアを45
Q/Hrの速度で1.5時間この溶液に加えた。その後
、上記のと同様の処理を行ない、透明な流動性の液体(
アンモノリシス生成物)30gを得た。
アンモノリシス工程■
〔メチルジクロロシラン=1,2−ビス(トリクロロシ
リル)エタン:メチルビニルジクロロシラン=55 :
25:20(モル%)〕 上記と同様な装備をもっ2Qの4つロフラスコに脱水へ
キサン1500−を入れ、メチルジクロロシラン56.
9g、1.2−ビス(トリクロロシリル)エタン66.
8 g、メチルビニルジクロロシラン25.4gを加え
、上記と同様に気体状アンモニアと反応させた。その後
、上記■と同様に処理し、透明な流動性液体(アンモノ
リシス生成物)67gを得た。
リル)エタン:メチルビニルジクロロシラン=55 :
25:20(モル%)〕 上記と同様な装備をもっ2Qの4つロフラスコに脱水へ
キサン1500−を入れ、メチルジクロロシラン56.
9g、1.2−ビス(トリクロロシリル)エタン66.
8 g、メチルビニルジクロロシラン25.4gを加え
、上記と同様に気体状アンモニアと反応させた。その後
、上記■と同様に処理し、透明な流動性液体(アンモノ
リシス生成物)67gを得た。
重合工程■
300mQの3つロフラスコに攪拌機、温度計、滴下ロ
ートをとりつけ、ドライボックス中で水素化カリウム0
.2g(5ミリモル)及びNaHで脱水処理したテトラ
ヒドロフラン125−をフラスコに注入した。このフラ
スコをドライボックス中よりとり出し、窒素管路に連結
した。常温下、混合物を攪拌してKHを分散させながら
滴下ロートよりテトラヒドロフラン75−に溶解したア
ンモノリシス工程■で得られた生成物10gを15分か
けてゆっくりと加えた。この添加の間に大量の気体の発
生がみられ、1時間後に気体の発生が停止した。沃化メ
チル3gを加えるとKIの白色沈殿が生じた。更に30
分間攪拌後、大部分のテトラヒドロフラン溶媒を減圧で
除去し、残留する白色スラリーに80−のヘキサンを加
えた。この混合物を濾過し、P液を減圧下(ImmHg
) 70℃にてヘキサンを除去すると、9.3gの粘稠
固体(シラザン重合体)が得られた。
ートをとりつけ、ドライボックス中で水素化カリウム0
.2g(5ミリモル)及びNaHで脱水処理したテトラ
ヒドロフラン125−をフラスコに注入した。このフラ
スコをドライボックス中よりとり出し、窒素管路に連結
した。常温下、混合物を攪拌してKHを分散させながら
滴下ロートよりテトラヒドロフラン75−に溶解したア
ンモノリシス工程■で得られた生成物10gを15分か
けてゆっくりと加えた。この添加の間に大量の気体の発
生がみられ、1時間後に気体の発生が停止した。沃化メ
チル3gを加えるとKIの白色沈殿が生じた。更に30
分間攪拌後、大部分のテトラヒドロフラン溶媒を減圧で
除去し、残留する白色スラリーに80−のヘキサンを加
えた。この混合物を濾過し、P液を減圧下(ImmHg
) 70℃にてヘキサンを除去すると、9.3gの粘稠
固体(シラザン重合体)が得られた。
このものは分子量105o(ベンゼンモル凝固点降下法
)、融点96℃で、ヘキサン、ベンゼン、テトラヒドロ
フラン、その他の有機溶媒に可溶であった。また、IR
においては3400■−1にNH。
)、融点96℃で、ヘキサン、ベンゼン、テトラヒドロ
フラン、その他の有機溶媒に可溶であった。また、IR
においては3400■−1にNH。
2980国−1にC−H,2150■−1にS−H。
1260■m−1に5i−CH,の各々の吸収が認めら
れた。
れた。
重合工程■
アンモノリシス工程■で得られたアンモノリシス生成物
Logを重合工程のと同様にテトラヒドロフラン中KH
0,2gで90分反応させた。ガスの発生停止後CH,
Iを添加し、以下同様の処理をした。粘稠固体(シラザ
ン重合体)9.0gが得られ、このものは分子量112
0、融点102℃であった。
Logを重合工程のと同様にテトラヒドロフラン中KH
0,2gで90分反応させた。ガスの発生停止後CH,
Iを添加し、以下同様の処理をした。粘稠固体(シラザ
ン重合体)9.0gが得られ、このものは分子量112
0、融点102℃であった。
重合工程■
アンモノリシス工程■で得られたアンモノリシス生成物
Logを重合工程■と同様にテトラヒドロフラン中KH
0,2gで90分反応させた。ガスの発生停止後CH,
Iを添加し、以下同様の処理をした。粘稠固体(シラザ
ン重合体)9.1gが得られ、このものは分子量125
0、融点121℃であった。
Logを重合工程■と同様にテトラヒドロフラン中KH
0,2gで90分反応させた。ガスの発生停止後CH,
Iを添加し、以下同様の処理をした。粘稠固体(シラザ
ン重合体)9.1gが得られ、このものは分子量125
0、融点121℃であった。
禰」1ζ工」Iπ
重合工程■で得られたシラザン重合体30gをモノホー
ル紡糸装置により160℃にて溶融紡糸した。紡糸は4
時間後も非常に良好で、捲取速度400 m/winで
実施し、更に得られた生糸を電子線にて120 Mra
dで不融化処理を行なった。その後、わずかな張力下、
N2気流中100’C/ Hrの昇温速度で1100℃
にて30分間焼成した。セラミック収率は70%であり
、得られた繊維は繊維径6μ、引張強度240kg/m
”、弾性率21t/Im”という物性であった。また、
繊維組成を元素分析により分析したところ、5i58.
3%、C19,3%、N 22.2%、02%からなる
5iC−8i□N、を主体とする繊維であることが確認
された。
ル紡糸装置により160℃にて溶融紡糸した。紡糸は4
時間後も非常に良好で、捲取速度400 m/winで
実施し、更に得られた生糸を電子線にて120 Mra
dで不融化処理を行なった。その後、わずかな張力下、
N2気流中100’C/ Hrの昇温速度で1100℃
にて30分間焼成した。セラミック収率は70%であり
、得られた繊維は繊維径6μ、引張強度240kg/m
”、弾性率21t/Im”という物性であった。また、
繊維組成を元素分析により分析したところ、5i58.
3%、C19,3%、N 22.2%、02%からなる
5iC−8i□N、を主体とする繊維であることが確認
された。
豊豊■工股豐
重合工程■で得られたシラザン重合体Logを繊維化工
程■と同様の紡糸装置を用いて170℃にて溶融紡糸し
た。捲取速度は420 m/lll1nで、紡糸は非常
に良好であった。更に得られた生糸をわずかな張力下、
空気中にて80〜105℃(5’C/ Hr)で加熱し
て不融化を行なった。次いで無張力下N2気流中で10
0℃/Hrの昇温速度で1200℃にて30分間焼成し
た。セラミック収率は80%であり、得られた繊維は繊
維径8μ、引張強度230kg/rm”、弾性率17t
/am”であった、繊維組成を元素分析したところ、5
i55.6%、C17,8%、N 17.4%、09
.2%からなる5iC−8i、N、を主体とする繊維で
あった。
程■と同様の紡糸装置を用いて170℃にて溶融紡糸し
た。捲取速度は420 m/lll1nで、紡糸は非常
に良好であった。更に得られた生糸をわずかな張力下、
空気中にて80〜105℃(5’C/ Hr)で加熱し
て不融化を行なった。次いで無張力下N2気流中で10
0℃/Hrの昇温速度で1200℃にて30分間焼成し
た。セラミック収率は80%であり、得られた繊維は繊
維径8μ、引張強度230kg/rm”、弾性率17t
/am”であった、繊維組成を元素分析したところ、5
i55.6%、C17,8%、N 17.4%、09
.2%からなる5iC−8i、N、を主体とする繊維で
あった。
繊維化工程■
重合工程■で得られたシラザン重合体20gをドライボ
ックス中において繊維化工程■と同様の紡糸装置を用い
て180℃にて45 Q m/winの捲取速度で溶融
紡糸した。紡糸は終始良好であった。得られた生糸を真
空中電子線装置にて100Mradの照射を行ない、不
融化した。その後、得られた繊維を張力下N2気流中1
250℃(I00’C/Hr)にて30分間焼成した。
ックス中において繊維化工程■と同様の紡糸装置を用い
て180℃にて45 Q m/winの捲取速度で溶融
紡糸した。紡糸は終始良好であった。得られた生糸を真
空中電子線装置にて100Mradの照射を行ない、不
融化した。その後、得られた繊維を張力下N2気流中1
250℃(I00’C/Hr)にて30分間焼成した。
セラミック収率は77%であった。また、繊維は繊維径
6μ、引張強度250 kg/nn2.弾性率23t/
ny++2であった。
6μ、引張強度250 kg/nn2.弾性率23t/
ny++2であった。
繊維化工程■
重合工程■で得られたシラザン重合体15gをドライボ
ックス中において繊維化工程■と同様の紡糸装置を用い
て溶融紡糸した。得られた生糸をN2気流中紫外線照射
装置(東芝光化学用水銀うンプH−400P型)を用い
て、距@ 15 anのところから30分間照射して不
溶化を行なった。その後、得られた繊維を張力下N2気
流中1150’C(I00℃/Hr)にて30分間焼成
した。セラミックス収率は73%であった。
ックス中において繊維化工程■と同様の紡糸装置を用い
て溶融紡糸した。得られた生糸をN2気流中紫外線照射
装置(東芝光化学用水銀うンプH−400P型)を用い
て、距@ 15 anのところから30分間照射して不
溶化を行なった。その後、得られた繊維を張力下N2気
流中1150’C(I00℃/Hr)にて30分間焼成
した。セラミックス収率は73%であった。
また、繊維は繊維径11μ、引張強度280kg/rr
m”、弾性率22t/mm”であった。
m”、弾性率22t/mm”であった。
繊維化工程■
重合工程■で得られたシラザン重合体に光増感剤として
ローズベンガールを0.2%添加調合し、繊維化工程■
と同様の紡糸装置を用いて溶融紡糸した。得られた生糸
を繊維化工程■と同様に紫外線照射し、焼成した。セラ
ミックス収率は75%で、繊維径10μ、引張強度30
0kg/nn+2、弾性率25t/n+m”であった。
ローズベンガールを0.2%添加調合し、繊維化工程■
と同様の紡糸装置を用いて溶融紡糸した。得られた生糸
を繊維化工程■と同様に紫外線照射し、焼成した。セラ
ミックス収率は75%で、繊維径10μ、引張強度30
0kg/nn+2、弾性率25t/n+m”であった。
繊維化工程■
重合工程■で得られたシラザン重合体logに光増感剤
としてベンゾフェノン0.001%及び1.3−ベンゼ
ンジチオール0.2%を加えた後。
としてベンゾフェノン0.001%及び1.3−ベンゼ
ンジチオール0.2%を加えた後。
ヘキサン50−にて溶解混合した。次いで、ヘキサンを
減圧上留去した。このように調合した重合体を■と同様
の紡糸装置を用いて溶融紡糸した。
減圧上留去した。このように調合した重合体を■と同様
の紡糸装置を用いて溶融紡糸した。
得られた生糸を繊維化工程■と同様に紫外線照射にて不
融化した後、焼成した。セラミックス収率は76%で、
繊維径8μ、引張強度300kg/rm2、弾性率26
t/+m+2であった。
融化した後、焼成した。セラミックス収率は76%で、
繊維径8μ、引張強度300kg/rm2、弾性率26
t/+m+2であった。
セラミック成形体の 遣方法
重合工程■で得られたシラザン重合体0.5gにSiC
微粉末10g、ヘキサン2gを分散混練した後、ヘキサ
ンを蒸発させた。この粉末を1000kg/dの成形圧
で加圧成形して直径25m、厚さ10mmの圧粉成形体
を得た。次いで、この圧粉成形体をアルゴン雰囲気中で
室温から1000℃まで2時間、1000℃から195
0℃まで1時間かけて昇温し、1950℃にて30分保
持した後、冷却し、密度2.8g/al?、曲げ強度2
8kg/I2のSiC成形体を得た。
微粉末10g、ヘキサン2gを分散混練した後、ヘキサ
ンを蒸発させた。この粉末を1000kg/dの成形圧
で加圧成形して直径25m、厚さ10mmの圧粉成形体
を得た。次いで、この圧粉成形体をアルゴン雰囲気中で
室温から1000℃まで2時間、1000℃から195
0℃まで1時間かけて昇温し、1950℃にて30分保
持した後、冷却し、密度2.8g/al?、曲げ強度2
8kg/I2のSiC成形体を得た。
アンモノリシス工程
攪拌機、温度計、NH3導入管、深冷コンデンサーを装
備したIQの4つロフラスコに脱水ヘキサン850mQ
を仕込んだ後、メチルジクロロシラン46gを加えた。
備したIQの4つロフラスコに脱水ヘキサン850mQ
を仕込んだ後、メチルジクロロシラン46gを加えた。
これに気体状アンモニアを120/hrの速度で3.5
時間導入し、反応させた。以下、上記実施例のアンモノ
リシス工程■と同様の処理を行ない、20g(85%)
の透明な流動性液体を得た。
時間導入し、反応させた。以下、上記実施例のアンモノ
リシス工程■と同様の処理を行ない、20g(85%)
の透明な流動性液体を得た。
重合工程
300mQの3つロフラスコにKHo、2gとテトラヒ
ドロフラン125−を注入後、攪拌してKHを分散させ
、滴下ロートよりテトラヒドロフラン75−と前に得ら
れた透明な流動性液体10gの混合物を常温にて15分
かけて滴下した。滴下終了後、30分して反応を途中で
停止するためCH,I2gを加えた。以下、実施例の重
合工程■と同様の処理を行ない、粘稠固体9.0gを得
た。このものの分子量は870(ベンゼンモル凝固点降
下法)、融点は75℃であった。
ドロフラン125−を注入後、攪拌してKHを分散させ
、滴下ロートよりテトラヒドロフラン75−と前に得ら
れた透明な流動性液体10gの混合物を常温にて15分
かけて滴下した。滴下終了後、30分して反応を途中で
停止するためCH,I2gを加えた。以下、実施例の重
合工程■と同様の処理を行ない、粘稠固体9.0gを得
た。このものの分子量は870(ベンゼンモル凝固点降
下法)、融点は75℃であった。
なお、この系での重合を温度、触媒量、重合時間をコン
トロールしてポリマーの重合度を一定にしようと試みた
が、全く再現性に欠けるものであった・ 曵1ユし真艮 得られたシラザン重合体8gをモノホール(ノズル直径
0 、5 mm)紡糸装置に仕込み、110℃にて溶融
させ、紡糸を行なった。初めはノズルよりの吐出もよく
、紡糸可能であったが、30分後ノズルより吐出しなく
なった。温度を徐々に上げたが全く吐出せず、冷却後、
ポリマーを取り出し、融点を預り定したところ、300
℃でも溶融せず、更には溶媒にも不溶なものであった。
トロールしてポリマーの重合度を一定にしようと試みた
が、全く再現性に欠けるものであった・ 曵1ユし真艮 得られたシラザン重合体8gをモノホール(ノズル直径
0 、5 mm)紡糸装置に仕込み、110℃にて溶融
させ、紡糸を行なった。初めはノズルよりの吐出もよく
、紡糸可能であったが、30分後ノズルより吐出しなく
なった。温度を徐々に上げたが全く吐出せず、冷却後、
ポリマーを取り出し、融点を預り定したところ、300
℃でも溶融せず、更には溶媒にも不溶なものであった。
多少紡糸できた生糸を電子線にて90 Mrad照射後
、N2気流中100℃/Hrの昇温速度で1100℃に
て30分間焼成した。セラミック収率は58%であり、
得られた繊維は繊維径7μで、引張強度50kg/mm
2、弾性率5t/in2と低物性であった。
、N2気流中100℃/Hrの昇温速度で1100℃に
て30分間焼成した。セラミック収率は58%であり、
得られた繊維は繊維径7μで、引張強度50kg/mm
2、弾性率5t/in2と低物性であった。
出願人 信越化学工業 株式会社
代理人 弁理士 小 島 隆 同
年 叙2 ネ甫 正 駐):(自 発)昭和6
2年9月9日 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 昭和62年特許願第25786号 2、発明の名称 有機シラザン重合体及び該重合体を用いたセラミックス
の製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 任 所 東京都千代田区大手町二丁目6番1号氏
名 (206)信越化学工業 株式会社代表者 小
坂雄太部 4、代理人。
2年9月9日 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 昭和62年特許願第25786号 2、発明の名称 有機シラザン重合体及び該重合体を用いたセラミックス
の製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 任 所 東京都千代田区大手町二丁目6番1号氏
名 (206)信越化学工業 株式会社代表者 小
坂雄太部 4、代理人。
住 所 東京都中央区銀座3丁目11番14号ダパ
クリエートビル5階 電話(5’45)64546、補
正の内容 (I)明細書第28頁第16行目に「ジメチルジクロロ
シラン」とあるのを「メチルトリクロロシラン」と訂正
する。
クリエートビル5階 電話(5’45)64546、補
正の内容 (I)明細書第28頁第16行目に「ジメチルジクロロ
シラン」とあるのを「メチルトリクロロシラン」と訂正
する。
(2)同第29頁第2行目乃至第3行目に「ジメチルジ
クロロシラン」とあるのを「メチルトリクロロシラン」
と訂正する6 (3)同頁第16行目乃至第17行目に「メチルビニル
ジクロロシラン」とあるのを「ビニルトリクロロシラン
」と訂正する。
クロロシラン」とあるのを「メチルトリクロロシラン」
と訂正する6 (3)同頁第16行目乃至第17行目に「メチルビニル
ジクロロシラン」とあるのを「ビニルトリクロロシラン
」と訂正する。
(4)同第30頁第1行目乃至第2行目に「メチルビニ
ルジクロロシラン」とあるのを「ビニルトリクロロシラ
ン」と訂正する。
ルジクロロシラン」とあるのを「ビニルトリクロロシラ
ン」と訂正する。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記一般式( I )及び(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ …( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ …(II) (但し、Rは水素、塩素、臭素、メチル基、エチル基、
フェニル基又はビニル基、R_1は水素又はメチル基、
R_2は水素、メチル基、エチル基、フェニル基又はビ
ニル基、Xは塩素又は臭素をそれぞれ示す。)で示され
る有機珪素化合物の少なくとも1種以上と下記一般式(
III) ▲数式、化学式、表等があります▼ …(III) (但し、R_2は水素、メチル基、エチル基、フェニル
基又はビニル基を示す。) で示される有機珪素化合物との混合物とアンモニアとを
反応させてアンモノリシス生成物を得ると共に、このア
ンモノリシス生成物を脱プロトン化が可能な塩基性触媒
により重合させて有機シラザン重合体を得ることを特徴
とする有機シラザン重合体の製造方法。 2、前記一般式( I )、(II)及び(III)で示される
有機珪素化合物を混合比が0〜30モル%:0〜30モ
ル%:40〜85モル%の割合で使用した特許請求の範
囲第1項記載の製造方法。 3、(II)及び(III)式の有機珪素化合物として、該
有機珪素化合物の置換基R_2において、水素:ビニル
基:アルキル基又はフェニル基の割合が55〜90モル
%:0〜30モル%:0〜30モル%となるように選択
されたものを用いた特許請求の範囲第1項又は第2項記
載の製造方法。 4、( I )式の有機珪素化合物が1,2−ビス(クロ
ロジメチルシリル)エタンである特許請求の範囲第1項
又は第2項記載の製造方法。 5、( I )式の有機珪素化合物が1,2−ビス(ジク
ロロメチルシリル)エタンである特許請求の範囲第1項
又は第2項記載の製造方法。 6、( I )式の有機珪素化合物が1,2−ビス(トリ
クロロシリル)エタンである特許請求の範囲第1項又は
第2項記載の製造方法。 7、塩基性触媒としてKH、NaH、NaNH_2又は
KNH_、を用いた特許請求の範囲第1項乃至第6項の
いずれか1項に記載の製造方法。 8、下記一般式( I )及び(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ …( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ …(II) (但し、Rは水素、塩素、臭素、メチル基、エチル基、
フェニル基又はビニル基、R_1は水素又はメチル基、
R_2は水素、メチル基、エチル基、フェニル基又はビ
ニル基、Xは塩素又は臭素をそれぞれ示す、)で示され
る有機珪素化合物の少なくとも1種以上と下記一般式(
III) ▲数式、化学式、表等があります▼ …(III) (但し、R_2は水素、メチル基、エチル基、フェニル
基又はビニル基を示す。) で示される有機珪素化合物との混合物とアンモニアとを
反応させてアンモノリシス生成物を得ると共に、このア
ンモノリシス生成物を脱プロトン化が可能な塩基性触媒
により重合させて有機シラザン重合体を得、次いでこの
有機シラザン重合体を溶融、成形し、更に不融化した後
、焼成してセラミックスを得ることを特徴とするセラミ
ックスの製造方法。 9、( I )、(II)及び(III)式で示される有機珪素
化合物を混合比が0〜30モル%:0〜30モル%:4
0〜85モル%の割合で使用した特許請求の範囲第8項
記載の製造方法。 10、(II)及び(III)式の有機珪素化合物として、
該有機珪素化合物の置換基R_2において、水素:ビニ
ル基:アルキル基又はフェニル基の割合が55〜90モ
ル%:0〜30モル%:0〜30モル%となるように選
択されたものを用いた特許請求の範囲第8項又は第9項
記載の製造方法。 11、有機シラザン重合体が融点60〜200℃のもの
である特許請求の範囲第8項乃至第10項のいずれか1
項に記載の製造方法。 12、有機シラザン重合体を溶融、成形した後、空気中
で50〜150℃に加熱して不融化するようにした特許
請求の範囲第8項乃至第11項のいずれか1項に記載の
製造方法。 13、有機シラザン重合体を溶融、成形した後、真空中
又はN_2ガス中において10〜2000Mradの照
射量で電子線照射を行なって不融化するようにした特許
請求の範囲第8項乃至第11項のいずれか1項に記載の
製造方法。 14、有機シラザン重合体を溶融、成形した後、不活性
雰囲気中で紫外線を照射して不融化するようにした特許
請求の範囲第8項乃至第11項のいずれか1項に記載の
製造方法。 15、紫外線照射前に有機シラザン重合体に予め光増感
剤を添加するようにした特許請求の範囲第14項記載の
製造方法。 16、紫外線照射前に有機シラザン重合体に予め加硫剤
を添加するようにした特許請求の範囲第14項記載の製
造方法。 17、成形工程が紡糸工程であり、溶融した有機シラザ
ン重合体を紡糸してセラミック繊維を得るようにした特
許請求の範囲第8項乃至第16項のいずれか1項に記載
の製造方法。 18、焼成温度が700〜2000℃である特許請求の
範囲第8項乃至第17項のいずれか1項に記載の製造方
法。 19、焼成雰囲気が真空中又は不活性ガス、N_2ガス
、H_2ガス、及びNH_3ガスから選ばれるガス中で
ある特許請求の範囲第8項乃至第18項のいずれか1項
に記載の製造方法。 20、有機シラザン重合体を無機化合物粉末に結合材と
して添加し、焼成する特許請求の範囲第8項記載の製造
方法。 21、無機化合物粉末がアルミナ、炭化珪素、窒化珪素
、及び窒化ホウ素から選ばれる特許請求の範囲第20項
記載の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62025786A JPS63193930A (ja) | 1987-02-05 | 1987-02-05 | 有機シラザン重合体の製造方法 |
US07/114,111 US4869854A (en) | 1986-10-31 | 1987-10-27 | Process for manufacturing organic silazane polymers and ceramics therefrom |
FR8715124A FR2606777B1 (fr) | 1986-10-31 | 1987-10-30 | Procede de fabrication de polymeres silazanes organiques et utilisation de ces polymeres pour fabriquer des ceramiques |
DE3736914A DE3736914C2 (de) | 1986-10-31 | 1987-10-30 | Verfahren zur Herstellung von organischen Silazanpolymeren und daraus gebildeten Keramikmaterialien |
JP3306490A JP2518119B2 (ja) | 1987-02-05 | 1991-10-25 | セラミックスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62025786A JPS63193930A (ja) | 1987-02-05 | 1987-02-05 | 有機シラザン重合体の製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3306490A Division JP2518119B2 (ja) | 1987-02-05 | 1991-10-25 | セラミックスの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63193930A true JPS63193930A (ja) | 1988-08-11 |
JPH0577691B2 JPH0577691B2 (ja) | 1993-10-27 |
Family
ID=12175513
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62025786A Granted JPS63193930A (ja) | 1986-10-31 | 1987-02-05 | 有機シラザン重合体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63193930A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02307916A (ja) * | 1989-05-19 | 1990-12-21 | Japan Atom Energy Res Inst | 炭化ケイ素―窒化ケイ素系複合セラミック繊維の製造方法 |
CN115605530A (zh) * | 2020-05-07 | 2023-01-13 | 默克专利有限公司(De) | 聚碳硅氮烷和包含其的组合物以及使用其制造含硅膜的方法 |
-
1987
- 1987-02-05 JP JP62025786A patent/JPS63193930A/ja active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02307916A (ja) * | 1989-05-19 | 1990-12-21 | Japan Atom Energy Res Inst | 炭化ケイ素―窒化ケイ素系複合セラミック繊維の製造方法 |
CN115605530A (zh) * | 2020-05-07 | 2023-01-13 | 默克专利有限公司(De) | 聚碳硅氮烷和包含其的组合物以及使用其制造含硅膜的方法 |
JP2023510050A (ja) * | 2020-05-07 | 2023-03-10 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | ポリカルボシラザンおよびそれを含む組成物、ならびにそれを用いたケイ素含有膜の製造方法 |
US11999827B2 (en) | 2020-05-07 | 2024-06-04 | Merck Patent Gmbh | Polycarbosilazane, and composition comprising the same, and method for producing silicon-containing film using the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0577691B2 (ja) | 1993-10-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4869854A (en) | Process for manufacturing organic silazane polymers and ceramics therefrom | |
JPS62290730A (ja) | 有機シラザン重合体の製造方法 | |
US4847345A (en) | Process for manufacturing organic silazane polymers and ceramics therefrom | |
US4948763A (en) | Preparation of hollow ceramic fibers | |
JPH01153730A (ja) | 有機シラザン重合体の製造方法 | |
EP0417526B1 (en) | Methods for preparing polytitanocarbosilazane polymers and ceramics therefrom | |
JPS63193930A (ja) | 有機シラザン重合体の製造方法 | |
JP2518119B2 (ja) | セラミックスの製造方法 | |
JPS63243328A (ja) | セラミックスの製造方法 | |
EP0361181B1 (en) | Infusibilization of organic silazane polymers and preparation of hollow ceramic fibers | |
JPH02120279A (ja) | セラミックスの製造方法 | |
JPH0615619B2 (ja) | ハフニウム含有シラザン重合体の製造方法及び該重合体を用いたセラミックスの製造方法 | |
JPS63117037A (ja) | 有機シラザン重合体の製造方法 | |
US5200371A (en) | Method for preparing organic silazane polymers and method for preparing ceramics from the polymers | |
US5145813A (en) | Process for manufacturing organic silazane polymers and ceramics therefrom | |
JPH0234565A (ja) | 有機シラザン重合体の不融化方法 | |
JPH0532786A (ja) | セラミツクスの製造方法 | |
EP0466055B1 (en) | Method for preparing organic silazane polymers and method for preparing ceramics from the polymers | |
JPH0532787A (ja) | セラミツクスの製造方法 | |
US5008348A (en) | Infusibilization of organic silazane polymers | |
JPH0384035A (ja) | ほう素、窒素およびけい素を基剤とする有機金属セラミック先駆物質 | |
JPH0214220A (ja) | 有機シラザン重合体の不融化方法 | |
JPH04153226A (ja) | ホウ素含有シラザン重合体の製造方法及びセラミックスの製造方法 | |
JPH01118528A (ja) | メチルポリシラザンの製造法 | |
JPH02104726A (ja) | セラミックス中空繊維の製造方法 |