JPS63188013A - 光デイスク基板の製造法 - Google Patents
光デイスク基板の製造法Info
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C45/26—Moulds
- B29C45/263—Moulds with mould wall parts provided with fine grooves or impressions, e.g. for record discs
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B7/263—Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
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- B29C45/73—Heating or cooling of the mould
- B29C2045/7343—Heating or cooling of the mould heating or cooling different mould parts at different temperatures
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- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
- Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はコンパクトディスク、ビデオディスク、光ディ
スク、光磁気ディスク等の光学式レコードディスクの基
板部分として用いる光ディスク基板の製造方法に係るも
ので、その中でも特に基板内に障害となるような複屈折
がなく、長期間安定性及び耐熱性を有する光ディスク基
板の製造方法に関するものである。
スク、光磁気ディスク等の光学式レコードディスクの基
板部分として用いる光ディスク基板の製造方法に係るも
ので、その中でも特に基板内に障害となるような複屈折
がなく、長期間安定性及び耐熱性を有する光ディスク基
板の製造方法に関するものである。
光学式レコードディスクは、円盤状またはドーナツ状（
本明細書中においては、円盤の中心部の円盤と同心内部
分が打ち抜かれた形状を指すこととする）の基板の片面
が情報が記録された情報記録面となっており、その情報
記録面とは反対側の対向する面から入射されたレーザー
光線などの光線がその基板内部を通り情報を記録した情
報記録面で反射されて出てくる光量変化を電気信号に変
換して情報信号を読み取るように構成されている。この
光量変化における損失を少なくすることが光学式レコー
ドディスクにとって重要な問題であるが、光が通過する
部分の複屈折の値が大きいと、反射されて出てくる光量
が減り信号を読みとることが困難になる。
本明細書中においては、円盤の中心部の円盤と同心内部
分が打ち抜かれた形状を指すこととする）の基板の片面
が情報が記録された情報記録面となっており、その情報
記録面とは反対側の対向する面から入射されたレーザー
光線などの光線がその基板内部を通り情報を記録した情
報記録面で反射されて出てくる光量変化を電気信号に変
換して情報信号を読み取るように構成されている。この
光量変化における損失を少なくすることが光学式レコー
ドディスクにとって重要な問題であるが、光が通過する
部分の複屈折の値が大きいと、反射されて出てくる光量
が減り信号を読みとることが困難になる。
従来はこのような光学式レコードディスク用の光ディス
ク基板は成形直後でその全面における複屈折がほぼゼロ
になるように成形されていた。しかし、成形後光ディス
ク基板に反射膜などを成膜するときや、輸送時などに光
ディスク基板が高温にさらされる場合あるいは長期間に
渡って保存する場合は、光ディスク基板の外周近辺及び
外周よからある程度離れた内部において複屈折の値が大
きくなってしまうという問題点があった。
ク基板は成形直後でその全面における複屈折がほぼゼロ
になるように成形されていた。しかし、成形後光ディス
ク基板に反射膜などを成膜するときや、輸送時などに光
ディスク基板が高温にさらされる場合あるいは長期間に
渡って保存する場合は、光ディスク基板の外周近辺及び
外周よからある程度離れた内部において複屈折の値が大
きくなってしまうという問題点があった。
本発明は上記問題点に鑑み成されたものでありその目的
は、アニーリングを施した後にも基板全面において複屈
折がほぼ０であり、長期安定性および耐熱性を備えた光
ディスク基板の製造法を提することにある。
は、アニーリングを施した後にも基板全面において複屈
折がほぼ０であり、長期安定性および耐熱性を備えた光
ディスク基板の製造法を提することにある。
本発明の上記目的は、射出成形法を用いてドーナツ状の
記録部を有する円盤状またはドーナツ状プラスチック基
板を成形する工程と、その後該プラスチック基板を７ニ
ーリングする工程とを有する光ディスク基板の製造法で
あって、上記プラスチック基板の材質としてはポリカー
ボネートを用い、上記プラスチック基板の成形を、該ド
ーナツ状の記録部にその外周部付近においては複屈折が
４１０〜＋３０ｎｍであり内周部付近においては複屈折
が−１０〜−３０ｎｍであるように勾配のついた複屈折
分布が形成されるように行う光ディスク基板の製造法に
よって達成される。
記録部を有する円盤状またはドーナツ状プラスチック基
板を成形する工程と、その後該プラスチック基板を７ニ
ーリングする工程とを有する光ディスク基板の製造法で
あって、上記プラスチック基板の材質としてはポリカー
ボネートを用い、上記プラスチック基板の成形を、該ド
ーナツ状の記録部にその外周部付近においては複屈折が
４１０〜＋３０ｎｍであり内周部付近においては複屈折
が−１０〜−３０ｎｍであるように勾配のついた複屈折
分布が形成されるように行う光ディスク基板の製造法に
よって達成される。
本請求の範囲において光ディスク基板のドーナツ状の記
録部といっているのは光ディスク基板を用いて光学式レ
コードディスクを作成したとき情報記録部として作用す
る部分あるいは記録用材料を配置する部分等を意味して
いる。
録部といっているのは光ディスク基板を用いて光学式レ
コードディスクを作成したとき情報記録部として作用す
る部分あるいは記録用材料を配置する部分等を意味して
いる。
また複屈折の値は偏光顕微鏡により測定したものであり
、光ディスク基板の径方向において圧縮応力状態のもの
をプラスとし、引張り応力状態をマイナスとして表して
いるものである。
、光ディスク基板の径方向において圧縮応力状態のもの
をプラスとし、引張り応力状態をマイナスとして表して
いるものである。
本発明の光ディスク基板の製造法はまず記録部が複屈折
分布を有するようにプラスチック基板を射出成形する。
分布を有するようにプラスチック基板を射出成形する。
このとき複屈折の値大きさを任意に設定するために、金
型温度を１１０〜１３０℃に上げるか内周部より外周部
の金型温度を１０〜２０℃高めに設定する。あるいは射
出速度を内周部から外周部にかけて除々に高速にしてゆ
くなどの手段を用いる。なお、複屈折は同心円上におい
てはほぼ同じ値になるように、具体的には同一円周上で
の複屈折のバラツキは５η−以下に抑えるようにする。
型温度を１１０〜１３０℃に上げるか内周部より外周部
の金型温度を１０〜２０℃高めに設定する。あるいは射
出速度を内周部から外周部にかけて除々に高速にしてゆ
くなどの手段を用いる。なお、複屈折は同心円上におい
てはほぼ同じ値になるように、具体的には同一円周上で
の複屈折のバラツキは５η−以下に抑えるようにする。
続いてアニーリングを行う、その加熱温度はプラスチッ
ク基板のガラス転移温度より１０〜６０℃低い温度で、
時間は１〜６時間であることが好ましいが、用いられる
プラスチックの材質や基板の厚さなどにより、加熱温度
、時間を調整する。
ク基板のガラス転移温度より１０〜６０℃低い温度で、
時間は１〜６時間であることが好ましいが、用いられる
プラスチックの材質や基板の厚さなどにより、加熱温度
、時間を調整する。
以下、実施例及び比較例を挙げることにより本発明の詳
細な説明する。
細な説明する。
実施例
まず帝人化成■製のポリカーボネートＡＤ５５０３（ガ
ラス転移点１５０°Ｃ）を住友重機■製の７５トン射出
成形機を用いて射出成形することにより、外径ＯＤ＝φ
１３０ｍｍ ；内径ＩＤ−φ１５０１１１ ；厚さ ｔ
−１，２ｍｍのドーナツ状プラスチック基板（中心部の
同心円状にあいた穴の直径が１５ｍｍである）を得た。
ラス転移点１５０°Ｃ）を住友重機■製の７５トン射出
成形機を用いて射出成形することにより、外径ＯＤ＝φ
１３０ｍｍ ；内径ＩＤ−φ１５０１１１ ；厚さ ｔ
−１，２ｍｍのドーナツ状プラスチック基板（中心部の
同心円状にあいた穴の直径が１５ｍｍである）を得た。
このプラスチック基板は中心からの距離Ｒが２５＋ｍｗ
の位置から８４ｍ＋＊の位置にかけてのドーナツ状の部
分が記録部となっており、記録部のＲ＝２５＋ａｍの位
置からＲ＝８４重量の位置にかけて勾配した複屈折分布
が設けられている。
の位置から８４ｍ＋＊の位置にかけてのドーナツ状の部
分が記録部となっており、記録部のＲ＝２５＋ａｍの位
置からＲ＝８４重量の位置にかけて勾配した複屈折分布
が設けられている。
この複屈折分布の様子を第１図に示す、第１図は上記プ
ラスチック基板の射出成形直後のシングルパスの複屈折
分布を示すグラフであり、横軸Ｒはディスクの中心から
の距離、縦軸Δｎはシングルパスの複屈折である。複屈
折分布は図中に示すように、Ｒａ２５ｍｍの円周上の位
置では複屈折が＋ ２Ｏｎ＋ｓ、 ＲＪ４ｍＩ１１の
円周上の位置では複屈折が−２０ｒ＋＋＋＋であるよう
な勾配を有する分布となっている。
ラスチック基板の射出成形直後のシングルパスの複屈折
分布を示すグラフであり、横軸Ｒはディスクの中心から
の距離、縦軸Δｎはシングルパスの複屈折である。複屈
折分布は図中に示すように、Ｒａ２５ｍｍの円周上の位
置では複屈折が＋ ２Ｏｎ＋ｓ、 ＲＪ４ｍＩ１１の
円周上の位置では複屈折が−２０ｒ＋＋＋＋であるよう
な勾配を有する分布となっている。
本発明における複屈折の勾配は第１図に示すように記録
部の内周近辺から外周にかけて複屈折の値が少しずつ小
さくなり、外周部近辺で急にマイナスに転換するような
勾配が好ましい。
部の内周近辺から外周にかけて複屈折の値が少しずつ小
さくなり、外周部近辺で急にマイナスに転換するような
勾配が好ましい。
次にこのプラスチック基板にアニーリング（９０℃の乾
燥炉に６時間投入）を施し、光ディスク基板を得た。
燥炉に６時間投入）を施し、光ディスク基板を得た。
第２図はこの光ディスク基板の複屈折分布を示すグラフ
である。このように±２Ｏｎ−であった複屈折分布が適
当な熱処理によって±１０ｎ■の範囲に抑えられる。
である。このように±２Ｏｎ−であった複屈折分布が適
当な熱処理によって±１０ｎ■の範囲に抑えられる。
第３図は上記ディスク基板をさらにもう一度９０℃の乾
燥炉に６時間投入した後の複屈折分布を示す図である。
燥炉に６時間投入した後の複屈折分布を示す図である。
このように一度適当な熱処理を行えば、もう−炭熱が加
わっても複屈折には変化がおきないことがわかる。
わっても複屈折には変化がおきないことがわかる。
比較例
複屈折分布が異なる以外は実施例と同様のプラスチック
基板を得た。この複屈折分布は従来法と同様で第４図に
示すようにすべての部分において複屈折の値を小さく抑
えている。
基板を得た。この複屈折分布は従来法と同様で第４図に
示すようにすべての部分において複屈折の値を小さく抑
えている。
このプラスチック基板に９０℃、６時間の熱処理を行っ
た後の複屈折分布を第５図に示す、第５図かられかるよ
うに、従来法によれば熱処理を行った後に複屈折の値の
大きな部分ができてしまい好ましくない。
た後の複屈折分布を第５図に示す、第５図かられかるよ
うに、従来法によれば熱処理を行った後に複屈折の値の
大きな部分ができてしまい好ましくない。
以上説明したように本発明の光ディスク基板の製造方法
によれば、熱処理後に複屈折の値を±１０ｎｍ以下に抑
えられ、その値が長期間変化することのない光ディスク
基板を得ることができ、高性能な光学式レコードディス
クを提供することが可能となった。
によれば、熱処理後に複屈折の値を±１０ｎｍ以下に抑
えられ、その値が長期間変化することのない光ディスク
基板を得ることができ、高性能な光学式レコードディス
クを提供することが可能となった。
第１図は本発明による複屈折分布勾配付成形品の成形直
後の複屈折分布を表すグラフであり、第２図は第１図に
係る成形品を６０℃、６時間アニーリングして得られた
光ディスク基板の複屈折分布を表すグラフであり、第３
図は第２図に係る光ディスク基板の９０℃、１２時間加
熱処理後の複屈折分布を表すグラフであり、第４図は従
来法による成形品の成形直後の複屈折分布を表すグラフ
であり、第５図は第４図に係る成形品の９０℃、６時間
アニーリング後の複屈折分布を表すグラフである。 特許出願人 キャノン株式会社 代 理 人 若 林 忠特許請求の範
囲 手 続 補 正 書（自発） 昭和８２年３月１８日
後の複屈折分布を表すグラフであり、第２図は第１図に
係る成形品を６０℃、６時間アニーリングして得られた
光ディスク基板の複屈折分布を表すグラフであり、第３
図は第２図に係る光ディスク基板の９０℃、１２時間加
熱処理後の複屈折分布を表すグラフであり、第４図は従
来法による成形品の成形直後の複屈折分布を表すグラフ
であり、第５図は第４図に係る成形品の９０℃、６時間
アニーリング後の複屈折分布を表すグラフである。 特許出願人 キャノン株式会社 代 理 人 若 林 忠特許請求の範
囲 手 続 補 正 書（自発） 昭和８２年３月１８日
Claims (2)
- （１）、射出成形法を用いてドーナツ状の記録部を有す
る円盤状またはドーナツ状プラスチック基板を成形する
工程と、その後該プラスチック基板をアニーリングする
工程とを有する光ディスク基板の製造法であって、上記
プラスチック基板の材質としてはポリカーボネートを用
い、上記プラスチック基板の成形を、該ドーナツ状の記
録部にその外周部付近においては複屈折の値が＋１０〜
＋３０ｎｍであり内周部付近においては複屈折の値が−
１０〜−３０ｎｍであるように勾配のついた複屈折分布
が形成されるように行うことを特徴とする光ディスク基
板の製造法。 - （２）、前記アニーリングを前記プラスチック基板のガ
ラス転移温度より１０〜６０℃低い温度で１〜８時間加
熱することにより行う特許請求の範囲第１項記載の光デ
ィスク基板の製造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62018476A JPH0757499B2 (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | 光デイスク基板の製造法 |
| US07/148,687 US4892692A (en) | 1987-01-30 | 1988-01-26 | Process for producing substrate for optical disk by annealing substrate with gradient double refraction distribution |
| EP88200156A EP0276897B1 (en) | 1987-01-30 | 1988-01-29 | Process for producing substrate for optical disk by annealing substrate with gradient double refraction distribution |
| DE3888857T DE3888857T2 (de) | 1987-01-30 | 1988-01-29 | Verfahren zur Herstellung eines Trägers für optische Scheiben, wobei ein Träger mit einem Verteilungsgradienten der doppelten Refraktion ausgeglüht wird. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62018476A JPH0757499B2 (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | 光デイスク基板の製造法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14019496A Division JP2683520B2 (ja) | 1996-06-03 | 1996-06-03 | 光ディスク基板の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63188013A true JPS63188013A (ja) | 1988-08-03 |
| JPH0757499B2 JPH0757499B2 (ja) | 1995-06-21 |
Family
ID=11972693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62018476A Expired - Lifetime JPH0757499B2 (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | 光デイスク基板の製造法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4892692A (ja) |
| EP (1) | EP0276897B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0757499B2 (ja) |
| DE (1) | DE3888857T2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01160620A (ja) * | 1987-12-18 | 1989-06-23 | Sekisui Chem Co Ltd | 光ディスク基板の製造方法 |
| WO1997043100A1 (fr) * | 1996-05-10 | 1997-11-20 | Sony Corporation | Moule pour la production d'un substrat en forme de disque, procede de production d'un tel moule et d'un tel substrat en forme de disque |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3032587B2 (ja) * | 1990-12-28 | 2000-04-17 | ティーディーケイ株式会社 | 光ディスクの製造方法 |
| US6007878A (en) * | 1993-05-27 | 1999-12-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing an optical recording medium having a protective layer formed using a plasma processing device |
| NL1005502C2 (nl) | 1997-03-12 | 1998-09-15 | Ict Axxicon Bv | Matrijs voor het vervaardigen van schijfvormige voorwerpen. |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58126119A (ja) * | 1982-01-22 | 1983-07-27 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光学的特性のすぐれた成形物の製造法 |
| JPS6067124A (ja) * | 1983-09-22 | 1985-04-17 | Daicel Chem Ind Ltd | 高密度情報記録担体用プラスチックディスクの射出成形用スタンパー |
| JPS60155424A (ja) * | 1984-01-26 | 1985-08-15 | Daicel Chem Ind Ltd | 大径のポリカ−ボネ−ト製光デイスク基板およびその製造法 |
| JPS6120719A (ja) * | 1984-07-09 | 1986-01-29 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光デイスク用プラスチツク基板の製造方法 |
| JPS62262248A (ja) * | 1986-05-08 | 1987-11-14 | Nec Corp | 光磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH06103547B2 (ja) * | 1986-07-15 | 1994-12-14 | シャープ株式会社 | 光ディスク用プラスチック基板の製造方法 |
| JPS63184943A (ja) * | 1987-01-28 | 1988-07-30 | Seiko Epson Corp | 光記録媒体の製造方法 |
-
1987
- 1987-01-30 JP JP62018476A patent/JPH0757499B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-01-26 US US07/148,687 patent/US4892692A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-01-29 EP EP88200156A patent/EP0276897B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-01-29 DE DE3888857T patent/DE3888857T2/de not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| JPH01160620A (ja) * | 1987-12-18 | 1989-06-23 | Sekisui Chem Co Ltd | 光ディスク基板の製造方法 |
| WO1997043100A1 (fr) * | 1996-05-10 | 1997-11-20 | Sony Corporation | Moule pour la production d'un substrat en forme de disque, procede de production d'un tel moule et d'un tel substrat en forme de disque |
| US6068906A (en) * | 1996-05-10 | 2000-05-30 | Sony Corporation | Mold for making disc substrate, process for producing mold and disc substrate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| DE3888857D1 (de) | 1994-05-11 |
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