JPS63187644A - 半導体製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は半導体製造装置、持に縮小投影露光装置に関す
るものでおる。

［従来の技術１ 従来、半導体製造工程中の縮小投影露光において、ウェ
ハー１のオリエンテーションフラツ１〜２の検知は第３
図（ａ）、　（ｂ）に示すように２個並んだ断面円形の
プリアライメント用ピン１０．１０につエバー１を押し
当て、ピン１０．１０間を通して光源４からウェハー１
の周縁に光を照射し、その光の透過を光検知器６にて監
視することにより行われている。すなわち、第３図（ａ
）に示すように２本のピン１０．１０がウェハー１のオ
リエンテーションフラット２に当接した場合には光源４
からの光線７か遮断されずに光検知器６に入光するため
、このことによりウェハー１の正確なプリアライメント
が行われたとして判定する。光源４からの光線７が遮断
された場合にはウェハー１のオリエンテーションフラッ
ト２が２本のピン１０．１０に当接していないとしてウ
ェハー１を回転させてプリアライメントを行う。

［発明が解決しようとする問題点］ 上述された従来のプリアライメントのオリエンテーショ
ンフラットの検出機構において、ウェハーに欠けがめっ
た場合には、オリエンテーションフラット部分以外にお
いても光が遮断されないためにオリエンテーションフラ
ットの誤検出が生じる。また、ウェハー上に高反射率の
膜が付着ざれている場合には、オリエンテーションフラ
ット検出機構以外からの光が反射されて光が誤検知され
、オリエンテーションフラットの誤検出が生じる。

本発明の目的は上記欠点を解消して、ウェハーのオリエ
ンテーションフラットの誤検出を防止する半導体製造装
置を提供することにおる。

［発明の従来技術に対する相違点］ 上）ホした従来のプリアライメントのオリエンテーショ
ンフラン１〜の検出機、構においては、円形のプリアラ
イメント用ピンにウェハーを押しつけてウェハーにより
光が遮断されたかどうかによりオリエンテーションフラ
ットを検出しているのに対し、本発明はプリアライメン
トのオリエンテーションフラットの検出機構において長
方形又は楕円状のプリアライメント用ピンを有している
という独創的内容を有する。

［問題点を解決するための手段］ 本発明はウェハーのオリエンテーションフラットを検知
して該ウェハーのプリアライメントを行った後にウェハ
ーの縮小投影露光を行う装置において、ウェハーのオリ
エンテーションフラットに当接し該オリエンテーション
フラットの向きの変化に追随して姿勢転換するプリアラ
イメント用ピンを装備したことな特徴とする半導体製造
装置である。

［実施例］ 次に、本発明の実施例について図面を用いて説明する。

（実施例１） 第１図（ａ）は本発明の第１の実施例を示す平面図で、
オリエンテーションフラットが正しい位置におる場合を
示したものであり、第１図（ｂ）はオリエンテーション
フラットがずれている場合を示したものでおる。本実施
例はウェハー１のオリエンテーションフラット２に当接
しその向きに追随して軸３ａを中心として回動する長方
形状のプリアライメント用ピン３を有し、そのピン３に
反射鏡５を取り付けた＠造としたものでおる。目金・露
光装置がプリアライメントを行う際、第１図（ａ）に示
すようにウェハー１のオリエンテーションフラット２が
正しい位置にあれば、光源４から発射される光線７が反
射鏡５にて反射して光検知器６に入射する。これにより
ウェハー１のオリエンテーションフラン１へ２が正しい
位置に必ることを検知している。目金・露光装置がプリ
アライメントを行う際、第１図（ｂ）に示すようにオリ
エンテーションフラット２の向きがずれている場合には
、オリエンテーションフランｌ−２の向きの変化に追随
してピン３が回動じ、そのため光源４から発射される光
線７は反！）−Ｉ鏡５にて光検知器６よりずれた方向に
反射し、光検知器６に入射しない。

この場合はオリエンテーションフラット２が正しい位置
になく、ブリアライメン１−を行い正しい位置に修正す
る。ウェハーに欠けが存在する場合でも、ウェハーの欠
けた部分がプリアライメント用ピンへ押しつけられたと
きに、長方形のピンでおるために、オリエンテーション
フラット２以外のものが押しつけられればピンは傾く。

このため、オリエンテーションフラット２の誤った位置
設定は生じない（第１図（ｂ））。またウェハー上に高
反射率の膜が付着されている場合、光検知器６に対して
ウェハー１か平行でおるために、ウェハー１からの反射
光か光検知器６に入らない。このため、オリエンテーシ
ョンフラット２の誤、検出は生じない。

（実施例２） 第２図（ａ）は本発明の第２の実施例を示す平面図で、
オリエンテーションフランｌ〜２か正しい位置におる場
合を示したものであり、第２図（ｂ）はオリエンテーシ
ョンフラット２がずれている場合を示したもので必る。

本実施例は長方形状のプリアライメント用ピン３に押し
つけ板８を取りつけ、その押しつけ根８に圧電素子９を
隣接さけた溝造としたものでおる。目金・露光装置かプ
リアライメントを行う際、第２図（ａ）に示すようにオ
リエンテーションフラット２が正しい位置におれば、押
しつけ根８により圧電素子９には電圧が発生しない。こ
れによりオリエンテーションフラット２が正しい位置に
あることを検知している。目金・露光装置がプリアライ
メントを行う際、第２図（ｂ）に示すようにオリエンテ
ーションフラット２がずれているときには、その向きの
変化に応じてピン３が回動するため、ピン３に取付けた
押しつけ仮８により圧電素子９が押されて電圧か発生す
る。このため、オリエンテーションフラットの誤った位
置設定は生じない。

尚、面実施例では長方形状のピン３を用いたか、楕円形
状のピンを用いてもよい。

［発明の効果１ 以上説明したように本発明はプリアライメント用ピンの
姿勢によりウェハーのオリエンテーションフラットを検
知するため、プリアライメントの際のウェハーのオリエ
ンテーションフラットの誤検出を防止することかできる
効果を有するものでおる。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）、　（ｂ）は本発明の第１の実施例を示す
平面図、第２図（ａ）、　（ｂ）は本発明の第２の実施
例を示す平面図、第３図（ａ）は従来例を示す平面図、
第３図（ｂ）は同縦断面図でおる。 １・・・ウェハー

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）ウェハーのオリエンテーションフラットを検知し
   て該ウェハーのプリアライメントを行つた後ウェハーの
   縮小投影露光を行う装置において、ウェハーのオリエン
   テーションフラットに当接し該オリエンテーションフラ
   ットの向きの変化に追随して姿勢転換するプリアライメ
   ント用ピンを装備したことを特徴とする半導体製造装置
   。