JPS6318049A - 超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 - Google Patents
超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法Info
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- JPS6318049A JPS6318049A JP16210686A JP16210686A JPS6318049A JP S6318049 A JPS6318049 A JP S6318049A JP 16210686 A JP16210686 A JP 16210686A JP 16210686 A JP16210686 A JP 16210686A JP S6318049 A JPS6318049 A JP S6318049A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、一方向性けい素鋼板の電気・磁気的特性の
改善、なかでも鉄損の低減並びに絶縁被膜の形成を有利
に達成し得る超低鉄損一方向性【プい素鋼板の製造方法
に関する。
改善、なかでも鉄損の低減並びに絶縁被膜の形成を有利
に達成し得る超低鉄損一方向性【プい素鋼板の製造方法
に関する。
さて一方向性けい素鋼板は、よく知られているとおり製
品の2次再結晶粒を(110) < 001>、すなわ
らゴス方位に、高度に集積させたもので、主として変圧
器その他の電気機器の鉄心として使用され、電気・磁気
的特性として製品の磁束密度(BIoで代表される)が
高く、鉄損(W、715値で代表される)の低いことが
要求される。
品の2次再結晶粒を(110) < 001>、すなわ
らゴス方位に、高度に集積させたもので、主として変圧
器その他の電気機器の鉄心として使用され、電気・磁気
的特性として製品の磁束密度(BIoで代表される)が
高く、鉄損(W、715値で代表される)の低いことが
要求される。
この一方向性けい素鋼板は複雑多岐にわたる工程を経て
製造されるが、今までにおびただしい発明・改善が加え
られ、今日では板厚0.3Onの製品の磁気特性がBl
o 1.90T以上、W + 7 / 5゜1.05
W/kg以下、また板厚0.23 nの製品の磁気特性
が13.ol、897以上、VV+ 7 / s o
0090W/に8以下の超低鉄損一方向性けい素鋼板
が製造されるようになって来ている。
製造されるが、今までにおびただしい発明・改善が加え
られ、今日では板厚0.3Onの製品の磁気特性がBl
o 1.90T以上、W + 7 / 5゜1.05
W/kg以下、また板厚0.23 nの製品の磁気特性
が13.ol、897以上、VV+ 7 / s o
0090W/に8以下の超低鉄損一方向性けい素鋼板
が製造されるようになって来ている。
特に最近では省エネの見地から電力損失の低減を特徴と
する請が著しく強まり、欧米では損失の少ない変圧器を
作る場合に鉄損の減少分を金額に換算して変圧器価格に
上積みする「ロス・エバリユエーシヨン」 (鉄損評価
)制度が普及している。
する請が著しく強まり、欧米では損失の少ない変圧器を
作る場合に鉄損の減少分を金額に換算して変圧器価格に
上積みする「ロス・エバリユエーシヨン」 (鉄損評価
)制度が普及している。
(従来の技術)
このような状況下において最近、一方向性けい素鋼板の
仕上げ焼鈍後の鋼板表面に圧延方向にほぼ直角方向での
レーザ照射により局部微小ひずみを導入して磁区を細分
化し、もって鉄損を低下させることが提案された(特公
昭57−2252号、特公昭57−53419号、特公
昭58−26405号及び特公昭58−26406号各
公報参照)。
仕上げ焼鈍後の鋼板表面に圧延方向にほぼ直角方向での
レーザ照射により局部微小ひずみを導入して磁区を細分
化し、もって鉄損を低下させることが提案された(特公
昭57−2252号、特公昭57−53419号、特公
昭58−26405号及び特公昭58−26406号各
公報参照)。
この磁区細分化技術はひずみ取り焼鈍を施さない、積鉄
心向はトランス材料として効果的であるが、ひずみ取り
焼鈍を施す、主として鉄心トランス材料にあっては、レ
ーザー照射によって折角に導入された局部微小ひずみが
焼鈍処理により解放されて磁区幅が広くなるため、レー
ザー照射効果がなくなるという欠点がある。
心向はトランス材料として効果的であるが、ひずみ取り
焼鈍を施す、主として鉄心トランス材料にあっては、レ
ーザー照射によって折角に導入された局部微小ひずみが
焼鈍処理により解放されて磁区幅が広くなるため、レー
ザー照射効果がなくなるという欠点がある。
一方これより先に特公昭52−24499号公報におい
ては、一方向性けい素鋼板の仕上げ焼鈍後の鋼板表面を
鏡面仕上げするか又はその鏡面仕上げ面上に金属めっき
やさらにその上に絶縁被膜を塗布焼付けすることによる
、超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法が提案されて
いる。
ては、一方向性けい素鋼板の仕上げ焼鈍後の鋼板表面を
鏡面仕上げするか又はその鏡面仕上げ面上に金属めっき
やさらにその上に絶縁被膜を塗布焼付けすることによる
、超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法が提案されて
いる。
しかしながらこの鏡面仕上げによる鉄損向上手法は、工
程的に採用するには、著しいコストアップになる割りに
鉄損低減への寄与が充分でない上、とくに鏡面仕上げ後
に不可欠な絶縁被膜を塗布焼付した後の密着性に問題が
あるため、現在の製造工程において採用されるに至って
はいない。また特公昭56−4150号公報においても
鋼板表面を鏡面仕上げした後、酸化物系セラミックス薄
膜を蒸着する方法が提案されている。しかしながらこの
方法も600℃以上の高温焼鈍を施すと鋼板とセラミッ
ク層とが剥離するため、実際の製造工程では採用できな
い。
程的に採用するには、著しいコストアップになる割りに
鉄損低減への寄与が充分でない上、とくに鏡面仕上げ後
に不可欠な絶縁被膜を塗布焼付した後の密着性に問題が
あるため、現在の製造工程において採用されるに至って
はいない。また特公昭56−4150号公報においても
鋼板表面を鏡面仕上げした後、酸化物系セラミックス薄
膜を蒸着する方法が提案されている。しかしながらこの
方法も600℃以上の高温焼鈍を施すと鋼板とセラミッ
ク層とが剥離するため、実際の製造工程では採用できな
い。
(発明が解決とようとする問題点)
上記した鏡面仕上げによる鉄損向上の実効をより有利に
引き出すことも含めその場合でも、今日の省エネ材料開
発の観点では上記したごときコストアップの不利を凌駕
することが必要となる。
引き出すことも含めその場合でも、今日の省エネ材料開
発の観点では上記したごときコストアップの不利を凌駕
することが必要となる。
そこで一方向性けい素鋼板に被成した張力付与被膜上に
、さらに絶縁被膜を低コストで被成する方法を提案する
ことが、この発明の目的である。
、さらに絶縁被膜を低コストで被成する方法を提案する
ことが、この発明の目的である。
(問題点を解決するための手段)
発明者らは、鏡面仕上げした一方向性けい素鋼板の表面
にTiN被膜を形成することにより、母材に張力が作用
して鉄損が著しく低減すること、しかしながらTiN被
膜は導電体であるため、TiN被膜上にさらに絶縁被膜
を形成する必要があることを見い出した。
にTiN被膜を形成することにより、母材に張力が作用
して鉄損が著しく低減すること、しかしながらTiN被
膜は導電体であるため、TiN被膜上にさらに絶縁被膜
を形成する必要があることを見い出した。
絶縁被膜の形成については、一般にりん酸塩子コロイダ
ルシリカによる方法が知られているが、よりコスト面で
有利な絶縁被膜の形成方法を採用することが望ましく、
種々検討した結果、この発明を得るに至った。
ルシリカによる方法が知られているが、よりコスト面で
有利な絶縁被膜の形成方法を採用することが望ましく、
種々検討した結果、この発明を得るに至った。
すなわちこの発明は、仕上げ焼鈍を経た一方向性けい素
鋼板につき、その表面上の非金属物質を除去し、次いで
研磨処理にて平滑面に仕上げたのち、ドライプレーティ
ングによりTiN被膜を形成し、その後大気中にて30
0〜600℃で30〜120分間の焼鈍を施すことを特
徴とする超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法である
、。
鋼板につき、その表面上の非金属物質を除去し、次いで
研磨処理にて平滑面に仕上げたのち、ドライプレーティ
ングによりTiN被膜を形成し、その後大気中にて30
0〜600℃で30〜120分間の焼鈍を施すことを特
徴とする超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法である
、。
以下この発明の成功が導かれた具体的実験に従って説明
を進める。
を進める。
C: 0.045wt%(以下単に%で示す)、Si
:3.42 %、 Mn : 0.071%、
3e : 0.020%。
:3.42 %、 Mn : 0.071%、
3e : 0.020%。
Sb : 0.025%およびMO: 0,023
%を含有する組成になる番プい素鋼スラブを、1350
℃で4時間加熱後、熱間圧延して2.4n厚さの熱延板
どした。
%を含有する組成になる番プい素鋼スラブを、1350
℃で4時間加熱後、熱間圧延して2.4n厚さの熱延板
どした。
ついで950℃の中間焼鈍を挾み2回の冷間圧延を施し
て0.23 n厚の最終冷延板とした。その後820℃
の湿水素中で脱炭を兼ねる1次再結晶焼鈍を施した債、
鋼板表面上にAA20s(70%)。
て0.23 n厚の最終冷延板とした。その後820℃
の湿水素中で脱炭を兼ねる1次再結晶焼鈍を施した債、
鋼板表面上にAA20s(70%)。
MIJO(25%>、Zr0z (5%)を主成分と
する焼鈍分離剤を塗布してから850℃で50時間の2
次再結晶焼鈍ついで乾水素雰囲気中で1200℃、10
時間の純化焼鈍を施した。
する焼鈍分離剤を塗布してから850℃で50時間の2
次再結晶焼鈍ついで乾水素雰囲気中で1200℃、10
時間の純化焼鈍を施した。
その後鋼板表面上の酸化物を除去したのち、化学研磨に
より鋼板表面を鏡面状態に仕上げた。
より鋼板表面を鏡面状態に仕上げた。
次いでボローカソード放電を利用した反応性イオンブレ
ーティングにより、鋼板表面に1.0μm厚のTiN被
膜を被成した。ホーローカソードの電子ビームの出力は
500A、40V1反応時の窒素分几は6.9x 10
’ T orr 、雰囲気温度400℃、そしてバイア
ス電圧100■とした。
ーティングにより、鋼板表面に1.0μm厚のTiN被
膜を被成した。ホーローカソードの電子ビームの出力は
500A、40V1反応時の窒素分几は6.9x 10
’ T orr 、雰囲気温度400℃、そしてバイア
ス電圧100■とした。
イオンブレーティング後、鋼板に大気中にて200〜7
00℃で15〜150分間の焼鈍を施して試料とした。
00℃で15〜150分間の焼鈍を施して試料とした。
その後、JIS C2550に従って該試料の磁気特
性を測定し、また1011φ曲げによる密着性試験およ
び肋間抵抗測定も行った。その結果を、第1図に示す。
性を測定し、また1011φ曲げによる密着性試験およ
び肋間抵抗測定も行った。その結果を、第1図に示す。
同図から、300〜600℃の温度範囲で30〜120
分間の焼鈍によって、磁気特性の劣化がなく、かつ密着
性も良好な絶縁被膜が形成されたことがわかる。300
℃未満又は30分間未満の焼鈍条件では絶縁被膜は形成
されず、600℃をこえるか、又は120分間をこえる
焼鈍では、絶縁被膜の密着性が劣化する。
分間の焼鈍によって、磁気特性の劣化がなく、かつ密着
性も良好な絶縁被膜が形成されたことがわかる。300
℃未満又は30分間未満の焼鈍条件では絶縁被膜は形成
されず、600℃をこえるか、又は120分間をこえる
焼鈍では、絶縁被膜の密着性が劣化する。
なお焼鈍後の試料をX線回折したところ、Ti 02の
生成が確認された、すなわちTiNの表面酸化によって
Ti0zが生成し、絶縁性が付与されたわけである。
生成が確認された、すなわちTiNの表面酸化によって
Ti0zが生成し、絶縁性が付与されたわけである。
次にこの発明による、一方向性けい素鋼板の製造工程に
ついて説明する。
ついて説明する。
出発素材は従来公知の一方向性けい素鋼素材成分、例え
ば ■C:o、oi〜0.05%、 Si : 2.0
〜4.0%、Mn : 0.01〜0.2%、 MO
: 0.003〜0.1%、Sb : 0.005
0〜0.2%、S又はSeの1種あるいは2種合計r、
0.005〜0.05%を含有する組成 ■C:0.01〜0.08%、 3i : 2,0
〜4.0%、3 : 0.005〜0.05%、 N
: 0.001〜0.01%、SOぶ A、9:0
,01〜0.06%、3n : 0.01〜0.5%
、Cu:0.01〜0.3%、Mn : 0.01〜
0.2%を含有する組成■C:0,01〜0.06%、
Si : 2,0〜4.0%、S: 0.00
5〜0.05%、 B: 0,0003〜0.000
4%、N : 0.001〜0.01%、Mn:0.
01〜0.2%を含有する組成 ■C:0.1〜0.06%、 Si : 2.0〜
4.0%、Mn:0.01〜0.2% S又はS(3の1種あるいは2種合計で0.005〜0
.05%を含有する組成 の如きにおいて適用可能である。
ば ■C:o、oi〜0.05%、 Si : 2.0
〜4.0%、Mn : 0.01〜0.2%、 MO
: 0.003〜0.1%、Sb : 0.005
0〜0.2%、S又はSeの1種あるいは2種合計r、
0.005〜0.05%を含有する組成 ■C:0.01〜0.08%、 3i : 2,0
〜4.0%、3 : 0.005〜0.05%、 N
: 0.001〜0.01%、SOぶ A、9:0
,01〜0.06%、3n : 0.01〜0.5%
、Cu:0.01〜0.3%、Mn : 0.01〜
0.2%を含有する組成■C:0,01〜0.06%、
Si : 2,0〜4.0%、S: 0.00
5〜0.05%、 B: 0,0003〜0.000
4%、N : 0.001〜0.01%、Mn:0.
01〜0.2%を含有する組成 ■C:0.1〜0.06%、 Si : 2.0〜
4.0%、Mn:0.01〜0.2% S又はS(3の1種あるいは2種合計で0.005〜0
.05%を含有する組成 の如きにおいて適用可能である。
次に熱延板は800〜1100℃の均一化焼鈍を経て1
回の冷間圧延で最終板厚とする1回冷延法か又は、通常
850℃から1050℃の中間焼鈍をはさんでさらに冷
延する2回冷延法にて、後者の場合最初の圧下率は50
%から80%程度、最終の圧下率は50%から85%程
度で0.15nから0.35 mm厚の最終冷延板厚と
する。
回の冷間圧延で最終板厚とする1回冷延法か又は、通常
850℃から1050℃の中間焼鈍をはさんでさらに冷
延する2回冷延法にて、後者の場合最初の圧下率は50
%から80%程度、最終の圧下率は50%から85%程
度で0.15nから0.35 mm厚の最終冷延板厚と
する。
最終冷延を終わり製品板厚に仕上げた鋼板は、表面脱脂
後150℃から850℃の湿水素中で脱炭・1次再結晶
焼鈍処理を施す。
後150℃から850℃の湿水素中で脱炭・1次再結晶
焼鈍処理を施す。
その後鋼板表面にAj!203 、MgO等を主成分と
する焼鈍分離剤を塗布する。この発明の場合は、フォル
ステライトが形成される場合であっても形成されない場
合であっても適用可能である。
する焼鈍分離剤を塗布する。この発明の場合は、フォル
ステライトが形成される場合であっても形成されない場
合であっても適用可能である。
仕上げ焼鈍後のフォルステライト被膜を形成させないた
めにはAJ!20s等の不活性焼鈍分離剤の含有率を高
めることが必要である。
めにはAJ!20s等の不活性焼鈍分離剤の含有率を高
めることが必要である。
その後2次再結晶焼鈍を行うが、この工程は< 11
01) < 001>方位の2次再結晶粒を充分発達さ
せるために施されるもので、通常箱焼鈍によって直らに
1000℃以上に昇温し、その温度に保持することによ
って行われる。
01) < 001>方位の2次再結晶粒を充分発達さ
せるために施されるもので、通常箱焼鈍によって直らに
1000℃以上に昇温し、その温度に保持することによ
って行われる。
この場合(110) < 001>7’i位に高度に揃
った2次再結晶粒組成を発達させるためには820℃か
ら900℃の低温で保定焼鈍する方が有利であり、その
ほか例えば0.5〜b 焼鈍でもよい。
った2次再結晶粒組成を発達させるためには820℃か
ら900℃の低温で保定焼鈍する方が有利であり、その
ほか例えば0.5〜b 焼鈍でもよい。
2次再結晶焼鈍後の純化焼鈍は、乾水素中で1100℃
以上で1〜20時間焼鈍を行って、鋼板の純化を達成す
ることが必要である。
以上で1〜20時間焼鈍を行って、鋼板の純化を達成す
ることが必要である。
次に純化焼鈍後に鋼板表面の酸化物被膜を硫酸、硝酸又
は弗酸などの強酸により除去する。またこの酸化物除去
は機械研削により行ってもよい。
は弗酸などの強酸により除去する。またこの酸化物除去
は機械研削により行ってもよい。
この酸化物除去処理の後、化学研磨あるいは電解研磨、
あるいはパフ研磨による機械的研磨等従来の手法により
鋼板表面を鏡面状態、例えば中心線平均粗さRaで0.
4μm以下に仕上げる。
あるいはパフ研磨による機械的研磨等従来の手法により
鋼板表面を鏡面状態、例えば中心線平均粗さRaで0.
4μm以下に仕上げる。
イの後の処理は上記した通りである。
(作用)
次にTiN被膜形成後の焼鈍条件について説明する。
まず焼鈍温度を300〜600℃としたのは、300℃
未満ではTi 02膜は形成されず、600℃をこえる
と密着性が悪化してはく離し易くなるからである。
未満ではTi 02膜は形成されず、600℃をこえる
と密着性が悪化してはく離し易くなるからである。
また焼鈍時間を30〜120分間としたのは、30分間
未満ではTi 02膜は形成されず、120分間をこえ
ると密着性ばかりでなく磁気特性も劣化することによる
。
未満ではTi 02膜は形成されず、120分間をこえ
ると密着性ばかりでなく磁気特性も劣化することによる
。
(実施例)
実施例1
C:0.046%、3i : 3.44%、Mn
: 0,069%、Mo : 0.020%、Se
: 0.020%およびSb:0.025%を含有
する組成になる熱延板を、900℃で3分間の均−化焼
鈍後、950℃の中間焼鈍をはさんで2回の冷間圧延を
打つ’C()、23 n厚の最終冷延板とした。
: 0,069%、Mo : 0.020%、Se
: 0.020%およびSb:0.025%を含有
する組成になる熱延板を、900℃で3分間の均−化焼
鈍後、950℃の中間焼鈍をはさんで2回の冷間圧延を
打つ’C()、23 n厚の最終冷延板とした。
その侵820℃の湿水素中で脱炭焼鈍を兼ねた1次再結
晶焼鈍後、鋼板表面にAj!203(70%)。
晶焼鈍後、鋼板表面にAj!203(70%)。
M(10(30%)を主成分とする焼鈍分離剤を塗布し
たv&850℃で50時間の2次再結晶焼鈍し、ついで
吃水素中で1200℃、8時間の純化焼鈍を行った。
たv&850℃で50時間の2次再結晶焼鈍し、ついで
吃水素中で1200℃、8時間の純化焼鈍を行った。
その後酸洗により酸化被膜を除去後、電解研磨して鏡面
に仕上げた。
に仕上げた。
その後高周波励起イオンブレーティング法によって、1
.0μm厚のTiNを被成した。なお電子ビームの出力
はIOK V 、 200[IA 、高周波励起出力8
00W、 バイア スtJI4.t 500V 、 雰
囲気温度300℃そして反応時のN2分圧は1.6x
1O−4torrテあった。
.0μm厚のTiNを被成した。なお電子ビームの出力
はIOK V 、 200[IA 、高周波励起出力8
00W、 バイア スtJI4.t 500V 、 雰
囲気温度300℃そして反応時のN2分圧は1.6x
1O−4torrテあった。
次いでTiN被覆被覆後生気中400℃で1時間の焼鈍
を行ったところ、得られたけい素鋼板の磁気特性は、W
+ 7 / 50 = 0.70 W/kg、 Blo
=1.92 Tであり、層間抵抗も50Ωcj/枚と
良好で、1011φ曲げによる密着試験においてもはく
離はみとめられなかった。
を行ったところ、得られたけい素鋼板の磁気特性は、W
+ 7 / 50 = 0.70 W/kg、 Blo
=1.92 Tであり、層間抵抗も50Ωcj/枚と
良好で、1011φ曲げによる密着試験においてもはく
離はみとめられなかった。
また絶縁被膜の形成を、りん酸士]ロイダルシリカによ
る方法で行ったところ、実施例に比較して著しいコスト
増を招いた。
る方法で行ったところ、実施例に比較して著しいコスト
増を招いた。
実施例2
C:0,059%、Si : 3.39%、Mn
: 0.071%、AJ2.: 0.024%、S
: 0,026%、N:0.0069%、Cu :
0.1%およびSn : 0,05%を含有する
組成になる熱延板を、1150℃で3分間の均−化焼鈍
後急冷処理を行い、その後300℃の温間圧延を施して
0.2On厚の最終冷延板とした。
: 0.071%、AJ2.: 0.024%、S
: 0,026%、N:0.0069%、Cu :
0.1%およびSn : 0,05%を含有する
組成になる熱延板を、1150℃で3分間の均−化焼鈍
後急冷処理を行い、その後300℃の温間圧延を施して
0.2On厚の最終冷延板とした。
その後850℃の湿水素中で脱炭焼鈍後、表面に八β2
03(80%)、M(10(20%)を主成分とする焼
鈍分離剤を塗布した後、850℃から1150℃まで8
℃/hで昇温して2次再結晶させた後、吃水素中で12
00℃、8時間の純化焼鈍を行った。
03(80%)、M(10(20%)を主成分とする焼
鈍分離剤を塗布した後、850℃から1150℃まで8
℃/hで昇温して2次再結晶させた後、吃水素中で12
00℃、8時間の純化焼鈍を行った。
その後機械研磨により酸化物被膜を除去し、ついで3%
HFと8202液中で化学研磨して鏡面に仕上げた。
HFと8202液中で化学研磨して鏡面に仕上げた。
次いでプラズマ化学的蒸着法(CVD)によって、1.
0μm厚のTiN被膜を被成した。ここでCVDは基板
温度を500℃、ベーパーソースをTiCJ!+とし、
雰囲気ガスにはN2とN )l 3とを1:1に混合し
たものを用い、ガス流速を2cc/sinに設定して行
った。
0μm厚のTiN被膜を被成した。ここでCVDは基板
温度を500℃、ベーパーソースをTiCJ!+とし、
雰囲気ガスにはN2とN )l 3とを1:1に混合し
たものを用い、ガス流速を2cc/sinに設定して行
った。
その後大気中にて300℃、90分間の焼鈍を行った。
得られた鋼板の磁気特性は、W+7150−0.72
W/ kg 、 B +e = 1.937と良好で、
層間抵抗も70Ω・cd/枚と良好な値を示し、101
1φ曲げによる密着性試験においてもはく離は認められ
なかった。
W/ kg 、 B +e = 1.937と良好で、
層間抵抗も70Ω・cd/枚と良好な値を示し、101
1φ曲げによる密着性試験においてもはく離は認められ
なかった。
また絶縁被膜の形成を、リン酸塩+コロイダルシリカに
よる方法で行ったところ、実施例に比較して著しいコス
ト増を招いた。
よる方法で行ったところ、実施例に比較して著しいコス
ト増を招いた。
(発明の効果)
この発明によれば、一方向性けい素鋼板につきTiN被
成後の大気中での焼鈍によって、磁気特性を損わない絶
縁被膜の形成を低コストで行うことができる。
成後の大気中での焼鈍によって、磁気特性を損わない絶
縁被膜の形成を低コストで行うことができる。
第1図は、大気中焼鈍によって形成された絶縁被膜の特
性を示すグラフである。
性を示すグラフである。
Claims (1)
- 1、仕上げ焼鈍を経た一方向性けい素鋼板につき、その
表面上の非金属物質を除去し、次いで研磨処理にて平滑
面に仕上げたのち、ドライプレーティングによりTiN
被膜を形成し、その後大気中にて300〜600℃で3
0〜120分間の焼鈍を施すことを特徴とする超低鉄損
一方向性けい素鋼板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16210686A JPS6318049A (ja) | 1986-07-11 | 1986-07-11 | 超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16210686A JPS6318049A (ja) | 1986-07-11 | 1986-07-11 | 超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6318049A true JPS6318049A (ja) | 1988-01-25 |
Family
ID=15748161
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16210686A Pending JPS6318049A (ja) | 1986-07-11 | 1986-07-11 | 超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6318049A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992000032A1 (fr) * | 1990-06-29 | 1992-01-09 | Niigata Engineering Co., Ltd. | Procede pour former un revetement de nitrure de titane et poele fabriquee par ce procede |
-
1986
- 1986-07-11 JP JP16210686A patent/JPS6318049A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992000032A1 (fr) * | 1990-06-29 | 1992-01-09 | Niigata Engineering Co., Ltd. | Procede pour former un revetement de nitrure de titane et poele fabriquee par ce procede |
US5447803A (en) * | 1990-06-29 | 1995-09-05 | Niigata Engineering Co., Ltd. | Method for forming titanium nitride film and vessel coated by same |
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