JPS63175243A - 光学情報記録再生部材の製造方法 - Google Patents
光学情報記録再生部材の製造方法Info
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- JPS63175243A JPS63175243A JP62006601A JP660187A JPS63175243A JP S63175243 A JPS63175243 A JP S63175243A JP 62006601 A JP62006601 A JP 62006601A JP 660187 A JP660187 A JP 660187A JP S63175243 A JPS63175243 A JP S63175243A
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、レーザ光の照射により、加熱昇温して状態を
変化させ、情報を記録する部材の製造方法に関するもの
であり、大容量メモリ光ディスクの分野に利用できるも
のである。
変化させ、情報を記録する部材の製造方法に関するもの
であり、大容量メモリ光ディスクの分野に利用できるも
のである。
従来の技術
光吸収性の薄膜を用いたレーザ記録用部材としては、カ
ルコゲン系の化合物であるＧｅ１６Ｔｅ８１Ｓｂ２Ｓ２
や、低酸化物Ｔｏｏｘ（０（ｘ（２，０）等が知られて
いる。
ルコゲン系の化合物であるＧｅ１６Ｔｅ８１Ｓｂ２Ｓ２
や、低酸化物Ｔｏｏｘ（０（ｘ（２，０）等が知られて
いる。
特に、酸化物と半金属の混合体であるＴｅＯｘは、耐湿
特性がすぐれている。この低酸化物薄膜の形成法として
は、Ｔｅの蒸着源とＴ ｅ Ｏ２の蒸着源からなる２つ
の蒸着源から、共蒸着することにより。
特性がすぐれている。この低酸化物薄膜の形成法として
は、Ｔｅの蒸着源とＴ ｅ Ｏ２の蒸着源からなる２つ
の蒸着源から、共蒸着することにより。
ＴｅＯｘ薄嗅を基板上に形成する方法および、ＴｏをＡ
ｒおよび、０２ガス雰囲気においてスパッタリングして
Ｔｅｏ！薄膜を形成する方法等が知られている。ＴｅＯ
工薄膜薄膜酸素比Ｉにより、光学特性。
ｒおよび、０２ガス雰囲気においてスパッタリングして
Ｔｅｏ！薄膜を形成する方法等が知られている。ＴｅＯ
工薄膜薄膜酸素比Ｉにより、光学特性。
熱変態温度特性をかえることができる。Ｉ値が小なると
ころでは、熱変態に伴う光学特性の変化を大きくするこ
とができるが、熱変態温度が低下する。これに対して、
Ｃｕを添加することによシ、Ｔｏの多い領域において熱
変態温度を１１０℃から、１３０℃まで上昇させること
ができる。
ころでは、熱変態に伴う光学特性の変化を大きくするこ
とができるが、熱変態温度が低下する。これに対して、
Ｃｕを添加することによシ、Ｔｏの多い領域において熱
変態温度を１１０℃から、１３０℃まで上昇させること
ができる。
発明が解決しようとする問題点
ＴｅＯ工にＣｕを含ませてなる薄膜は、光学特性の変化
を大きくとることができる上に、熱変態温度を上昇させ
、記録部材として、熱的安定性がはかれている。
を大きくとることができる上に、熱変態温度を上昇させ
、記録部材として、熱的安定性がはかれている。
しかしながら、この膜については、レーザ光の照射後熱
変態に伴う光学特性の変化が、開始し、これが飽和に至
るまで数秒間の時間を必要とするという問題点があり、
又、これらの薄膜の形成において、多種類の蒸発源を必
要とするという問題点があった。
変態に伴う光学特性の変化が、開始し、これが飽和に至
るまで数秒間の時間を必要とするという問題点があり、
又、これらの薄膜の形成において、多種類の蒸発源を必
要とするという問題点があった。
問題点を解決するための手段
本発明は、レーザ光記録において、記録応答速度を大き
くするとともに複数の添加材料を、単一のソースから形
成することを目的とするものである。
くするとともに複数の添加材料を、単一のソースから形
成することを目的とするものである。
Ｔ ｅ Ｏｘに対し、添加材料として、Ｃｕに加えて、
Ｐｄを選ぶ。さらに、ＴｅＯ２，Ｔｅ、Ｃｕ、Ｐｄの複
数の成分を単一のソースから基板上に形成する方法とし
てＴｏを主成分とし、ＰｄとＣｕを添加してなる混合体
ターゲットを用い、スパッタ雰囲気として、Ａｒ、Ｏ。
Ｐｄを選ぶ。さらに、ＴｅＯ２，Ｔｅ、Ｃｕ、Ｐｄの複
数の成分を単一のソースから基板上に形成する方法とし
てＴｏを主成分とし、ＰｄとＣｕを添加してなる混合体
ターゲットを用い、スパッタ雰囲気として、Ａｒ、Ｏ。
ガスを導入し、光吸収性の薄膜を基板に形成することを
特徴とする方法である。
特徴とする方法である。
作 用
スパッタリングのターゲットとして、Ｔｅを主成分とし
、これにＣｕを添加するとともに、Ｐｄ添加材料を用い
ることによシ、該ターゲットを、Ａｒと０２ガス雰囲気
でスパッタすることにより、スパッタ粒子の基板への付
着過程において、一部反応が生じ、基板上に、ＴｅＯ２
，Ｔｏ、Ｃｕ、Ｐｄが均一に混合された光吸収性の薄膜
を形成できる。
、これにＣｕを添加するとともに、Ｐｄ添加材料を用い
ることによシ、該ターゲットを、Ａｒと０２ガス雰囲気
でスパッタすることにより、スパッタ粒子の基板への付
着過程において、一部反応が生じ、基板上に、ＴｅＯ２
，Ｔｏ、Ｃｕ、Ｐｄが均一に混合された光吸収性の薄膜
を形成できる。
ＴｏとＣｕとＰｄを含む単一の混合体ターゲットにより
、複数の成分を含む均一膜を形成することが可能になる
。
、複数の成分を含む均一膜を形成することが可能になる
。
さらに、Ｃｕの添加により、ＴｅＯ工薄膜薄膜いて、Ｘ
値の小なる領域において、熱変態温度の上昇が可能にな
るとともに、Ｐｄの添加により、レーザ光照射後の、記
録薄膜における光学特性の飽和時間を大幅に低減する作
用がある。
値の小なる領域において、熱変態温度の上昇が可能にな
るとともに、Ｐｄの添加により、レーザ光照射後の、記
録薄膜における光学特性の飽和時間を大幅に低減する作
用がある。
実施例
基板として、レーザガイド用の溝を形成したポリカーボ
ネイト樹脂基板を用いる。第２図に示すように２、ター
ゲット１に対向あるいは、偏心対向した基板６を設け、
これを静止あるいは自転させて、スパッタリングを行う
。スパッタ粒子６は、真空チャンバ内の酸素分圧の度合
に応じて反応し、基板上に、ＴｅＯ２，Ｔｅ、Ｃｕ、Ｐ
ｄの均一な混合体薄膜を形成する。
ネイト樹脂基板を用いる。第２図に示すように２、ター
ゲット１に対向あるいは、偏心対向した基板６を設け、
これを静止あるいは自転させて、スパッタリングを行う
。スパッタ粒子６は、真空チャンバ内の酸素分圧の度合
に応じて反応し、基板上に、ＴｅＯ２，Ｔｅ、Ｃｕ、Ｐ
ｄの均一な混合体薄膜を形成する。
チャンバの全圧は、１００ｍＴｏｒｒ以下であり、好ま
しくは、数ｍＴｏｒｒで、スパッタ膜形成速度の大きい
領域を得る。酸素分圧は、全圧によって選ぶことができ
、数ｍＴｏｒｒに対しては、およそ１ｍＴｏｒｒ前後の
値に定める。酸素分圧を選ぶことにより、低酸化物薄膜
Ｔｏｏ工におけるＩ値を定めることができる。Ｘ値とし
ては、０．４〜０．８で、感度的にすぐれる膜を得る。
しくは、数ｍＴｏｒｒで、スパッタ膜形成速度の大きい
領域を得る。酸素分圧は、全圧によって選ぶことができ
、数ｍＴｏｒｒに対しては、およそ１ｍＴｏｒｒ前後の
値に定める。酸素分圧を選ぶことにより、低酸化物薄膜
Ｔｏｏ工におけるＩ値を定めることができる。Ｘ値とし
ては、０．４〜０．８で、感度的にすぐれる膜を得る。
添加材料であるＣｕおよびＰｄは、第１図に示すように
、Ｔｅ２．Ｃｕ４゜Ｐｄｓ の粉末を均一に混合し、タ
ーゲット１の形状に固めたものを用いる。添加材料の添
加量により、記碌膜の特性は変化する。
、Ｔｅ２．Ｃｕ４゜Ｐｄｓ の粉末を均一に混合し、タ
ーゲット１の形状に固めたものを用いる。添加材料の添
加量により、記碌膜の特性は変化する。
第３図Ｋ、添加材料（Ｐｄ＋Ｃｕ）ａｔ％と、記録部材
の記録に伴う反射率の変化量ΔＲおよび、必要な記録パ
ワーの相関を示す。
の記録に伴う反射率の変化量ΔＲおよび、必要な記録パ
ワーの相関を示す。
いずれもＴｏと酸素の比をｘ＝０．５に固定して、これ
に対する添加材料の効果をもとめたものである。ΔＲに
ついては、添加材料組成比が少い領域で大きい値になり
、３０ａｔ％ の添加量で、約３０％のΔＲの低下がみ
られる。
に対する添加材料の効果をもとめたものである。ΔＲに
ついては、添加材料組成比が少い領域で大きい値になり
、３０ａｔ％ の添加量で、約３０％のΔＲの低下がみ
られる。
一方、感度については、（Ｐｄ＋Ｃｕ）を添加すること
により、記録パワーを下げることができ、感度が向上す
る。一方、添加量の大きい領域で、膜反射率が増大し、
光吸収特性が低下し再び、感度が低下しはじめる。添加
４４．１０〜２０チの領域で、感度の高い膜が得られる
。添加量３０ ａ ｔ％ で感度は約２０％低下し、（
Ｐｄ＋Ｃｕ）の添加量としては、５〜３０ａｔ％ の領
域で記録部材として使用できる。好ましくはＣｕは１６
ａｔ％より少い領域に選ばれる。
により、記録パワーを下げることができ、感度が向上す
る。一方、添加量の大きい領域で、膜反射率が増大し、
光吸収特性が低下し再び、感度が低下しはじめる。添加
４４．１０〜２０チの領域で、感度の高い膜が得られる
。添加量３０ ａ ｔ％ で感度は約２０％低下し、（
Ｐｄ＋Ｃｕ）の添加量としては、５〜３０ａｔ％ の領
域で記録部材として使用できる。好ましくはＣｕは１６
ａｔ％より少い領域に選ばれる。
膜形成後、接着材料を用い、保護板を密着し、記録部材
が得られる。
が得られる。
情報記録再生用の光源としては、λ”８３０ ｎｍの半
導体レーザが使用できる。
導体レーザが使用できる。
発明の効果
以上のように本発明のＴｏに添加材料としてＰｄ、Ｃｕ
を加えて固めたターゲットを用いて、リアクティブスパ
ッタリングによって得る記録部材の製造方法は、記録部
材の熱変態温度が高く、レーザ光に対して高速に応答す
る部材を得ることができ、また、単一のターゲットから
Ｔｏ、ＴｅＯ３゜Ｃｕ、Ｐｄの複数の種類の成分を含む
記録膜を一つの過程で得ることが可能になるものである
。
を加えて固めたターゲットを用いて、リアクティブスパ
ッタリングによって得る記録部材の製造方法は、記録部
材の熱変態温度が高く、レーザ光に対して高速に応答す
る部材を得ることができ、また、単一のターゲットから
Ｔｏ、ＴｅＯ３゜Ｃｕ、Ｐｄの複数の種類の成分を含む
記録膜を一つの過程で得ることが可能になるものである
。
第１図は本発明の光情報記録再生部材の製造方法におけ
るＴｅに添加材料としてＣｕ、Ｐｄを含ませて成型して
なる混合体スパッタリングターゲットの断面図、第２図
は混合体ターゲットからスパッタリングにより基板に均
一混合膜を形成する状態をあられす図、第３図は形成し
た膜の記録に伴う膜反射率の変化と、感度の添加材料（
Ｃｕ＋Ｐｄ）の添加量依存性をあられす特性図である。 １・・・・・・ターゲット、２・・・−Ｔｅ、３・・・
・・・Ｐｄ、＋・・・・・・Ｃｕ、６・・・・・・スパ
ッタ粒子、６・・・・・・基板。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第 ３ 図
るＴｅに添加材料としてＣｕ、Ｐｄを含ませて成型して
なる混合体スパッタリングターゲットの断面図、第２図
は混合体ターゲットからスパッタリングにより基板に均
一混合膜を形成する状態をあられす図、第３図は形成し
た膜の記録に伴う膜反射率の変化と、感度の添加材料（
Ｃｕ＋Ｐｄ）の添加量依存性をあられす特性図である。 １・・・・・・ターゲット、２・・・−Ｔｅ、３・・・
・・・Ｐｄ、＋・・・・・・Ｃｕ、６・・・・・・スパ
ッタ粒子、６・・・・・・基板。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第 ３ 図
Claims (4)
- （１）レーザ光を照射することにより加熱し、状態を変
化させて情報を記録および再生する薄膜において、スパ
ッタリング薄膜形成法を用い、このスパッタリングのタ
ーゲットとして、Ｔｅを主成分とし、ＰｄとＣｕを添加
してなる混合体を用い、スパッタ雰囲気として、Ａｒ、
Ｏ＿２ガスを導入し、光吸収性の薄膜を基板に形成する
ことを特徴とする光学情報記録再生部材の製造方法。 - （２）スパッタ雰囲気として、Ｏ＿２の分圧が、１ｍＴ
ｏｒｒ以下になるように選ぶことを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の光学情報記録再生部材の製造方法。 - （３）基板として、レーザガイド用のトラックを設けた
樹脂基板を用い、薄膜の膜厚と、レーザ光照射前後にお
いて、反射率の変化が最大になるように選ぶことを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の光学情報記録再生部
材の製造方法。 - （４）ターゲットの組成として、添加材料の構成比が、
３０ａｔ％以下になるように選ぶことを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の光学情報記録再生部材の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62006601A JPS63175243A (ja) | 1987-01-14 | 1987-01-14 | 光学情報記録再生部材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62006601A JPS63175243A (ja) | 1987-01-14 | 1987-01-14 | 光学情報記録再生部材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63175243A true JPS63175243A (ja) | 1988-07-19 |
Family
ID=11642857
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62006601A Pending JPS63175243A (ja) | 1987-01-14 | 1987-01-14 | 光学情報記録再生部材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63175243A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009072285A1 (ja) * | 2007-12-04 | 2009-06-11 | Panasonic Corporation | 情報記録媒体、及びその製造法、ならびに記録再生装置 |
| WO2011034153A1 (ja) * | 2009-09-18 | 2011-03-24 | 株式会社神戸製鋼所 | 光情報記録媒体用記録層、光情報記録媒体およびスパッタリングターゲット |
-
1987
- 1987-01-14 JP JP62006601A patent/JPS63175243A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009072285A1 (ja) * | 2007-12-04 | 2009-06-11 | Panasonic Corporation | 情報記録媒体、及びその製造法、ならびに記録再生装置 |
| JP5148629B2 (ja) * | 2007-12-04 | 2013-02-20 | パナソニック株式会社 | 情報記録媒体、及びその製造法、ならびに記録再生装置 |
| US8426003B2 (en) | 2007-12-04 | 2013-04-23 | Panasonic Corporation | Information recording medium, method for manufacturing the same, and recording/reproducing apparatus |
| WO2011034153A1 (ja) * | 2009-09-18 | 2011-03-24 | 株式会社神戸製鋼所 | 光情報記録媒体用記録層、光情報記録媒体およびスパッタリングターゲット |
| US8597757B2 (en) | 2009-09-18 | 2013-12-03 | Kobe Steel, Ltd. | Recording layer for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target |
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