JPS63173001A - 光学用低分散樹脂組成物 - Google Patents
光学用低分散樹脂組成物Info
- Publication number
- JPS63173001A JPS63173001A JP476687A JP476687A JPS63173001A JP S63173001 A JPS63173001 A JP S63173001A JP 476687 A JP476687 A JP 476687A JP 476687 A JP476687 A JP 476687A JP S63173001 A JPS63173001 A JP S63173001A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- monomer
- tricyclodecane
- titled composition
- polymerizing
- refractive index
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 title claims description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 5
- 238000005266 casting Methods 0.000 abstract description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 3
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 abstract description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 abstract 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.C=CCOC(=O)OCC=C SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate Chemical compound C=CCOC(=O)OCC=C JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 allyl carboxylate Chemical class 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSVFYHKZQNDJEV-UHFFFAOYSA-N (2,3,4-tribromophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(Br)C(Br)=C1Br ZSVFYHKZQNDJEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(4-methoxyphenyl)ethanamine;hydrochloride Chemical compound Cl.C1=CC(OC)=CC=C1CC(N)C1=CC=C(OC)C=C1 ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYMDJPGTQFHDSA-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethenoxyethoxy)-2-ethoxyethane Chemical compound CCOCCOCCOC=C AYMDJPGTQFHDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLKQHBOKULLWDQ-UHFFFAOYSA-N 1-bromonaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(Br)=CC=CC2=C1 DLKQHBOKULLWDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYDRTKVGBRTTIT-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-en-1-ol Chemical compound CC(=C)CO BYDRTKVGBRTTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMVIYCFGOTYKGI-UHFFFAOYSA-N OC.OC.C1CCCCCCCCC1 Chemical compound OC.OC.C1CCCCCCCCC1 YMVIYCFGOTYKGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- ZDNFTNPFYCKVTB-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=C(C(=O)OCC=C)C=C1 ZDNFTNPFYCKVTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005587 carbonate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- TUGLVWDSALSXCF-UHFFFAOYSA-N decane;methanol Chemical compound OC.OC.CCCCCCCCCC TUGLVWDSALSXCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUKZAGXMHTUAFE-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid methyl ester Natural products CCCCCC(=O)OC NUKZAGXMHTUAFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- CAEWJEXPFKNBQL-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl carbonochloridate Chemical compound ClC(=O)OCC=C CAEWJEXPFKNBQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
- C08F20/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
- C08F20/30—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、樹脂組成物、特に重合時の収縮の小さな低分
散光学用樹脂組成物に関するものである。
散光学用樹脂組成物に関するものである。
従来、プラスチック製光学用材料としては、ポリスチレ
ン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等の汎用
樹脂が用いられている。
ン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等の汎用
樹脂が用いられている。
一般にプラスチック製光学用材料は、ガラス製のものに
比べて軽く、耐衝撃性が高く、研摩が不要であり、その
素材からの成型が容易なことから大m生産可能である等
の利点を有してい−る。
比べて軽く、耐衝撃性が高く、研摩が不要であり、その
素材からの成型が容易なことから大m生産可能である等
の利点を有してい−る。
熱硬化性樹脂のうちで、比較的に屈折率およびアツベ数
が高いものとしては、0R−39の名称でメガネ用レン
ズとして使用されているジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネートが知られておリ、これは約/、jOの屈
折率と5g程度のアツベ数を有している。
が高いものとしては、0R−39の名称でメガネ用レン
ズとして使用されているジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネートが知られておリ、これは約/、jOの屈
折率と5g程度のアツベ数を有している。
しかしながらCR−39は、注型重合時に/3−/4’
%もその体積が収縮するため型によっては重合成型時の
歩留が低くなる欠点もある。
%もその体積が収縮するため型によっては重合成型時の
歩留が低くなる欠点もある。
本発明は、このように従来の技術では得ることが1lf
4 fFであった、屈折率おまびアツベ数が共に高く、
シかも注型重合の成型時での収縮が小さな光学用IiL
!脂組成物を提供することを目的とする。
4 fFであった、屈折率おまびアツベ数が共に高く、
シかも注型重合の成型時での収縮が小さな光学用IiL
!脂組成物を提供することを目的とする。
本発明者等は、かかる欠点を解消すべく鋭意研究を進め
た結果、特定の脂環式七ツマ−が低分散(高アツベ数)
でありながら高屈折率であり、しかも注型重合時に収縮
が少ないことを見いだした。
た結果、特定の脂環式七ツマ−が低分散(高アツベ数)
でありながら高屈折率であり、しかも注型重合時に収縮
が少ないことを見いだした。
すなわち本発明は、下記一般式CI+で表されるトリシ
クロデカン誘導体を含む単量体を重合してなる光学用低
分散樹脂組成物である。
クロデカン誘導体を含む単量体を重合してなる光学用低
分散樹脂組成物である。
一般式(I+
ORO
暑
CH2−C,C−を示し、RはCH3またはHであり、
nはO2/、λのいずれかである。) このトリシクロデカン誘導体は、好ましくはラジカル重
合開始剤の存登下で重合され、本発明の樹脂組成物が得
られる。
nはO2/、λのいずれかである。) このトリシクロデカン誘導体は、好ましくはラジカル重
合開始剤の存登下で重合され、本発明の樹脂組成物が得
られる。
さらに本発明では、成型体としての樹脂物体の耐衝撃性
、収縮性、染色性等の物理的、機械的性質を向上させる
ために、あるいは屈折率とアツベ数の光学的バランス等
を変化させるために、上記一般式(1)で表わされるト
リシクロデカン誘導体だけでなくこれと別の七ツマ−と
を併用することができる。そのモノマーとしてはラジカ
ル重合性を有し、重合したのちその重合体が透明性を損
なわない七ツマ−であれば如何なるものでも良く、たと
えばメチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレ
ート、トリブロモフェニルメタクリレート等のアクリル
酸あるいはメタクリル酸のエステル類、スチレン、P−
クロロスチレン、ブロモスチレン、ジビニルベンゼン、
ビニルナフタレン等の芳香族ビニル化合物類、エチレン
グリコール、トリエチレングリコール、l、6−ヘキサ
ンジオール等の多価アルコールと(メタ)アクリル酸と
のエステル類、あるいはテレフタル酸ジアリル、イソフ
タル酸ジアリル、ジエチレングリコールビスアリルカー
ボ早−ト等である。併用されるモノマーは、重量%で/
−9q%の範囲で任意に選択することができる。
、収縮性、染色性等の物理的、機械的性質を向上させる
ために、あるいは屈折率とアツベ数の光学的バランス等
を変化させるために、上記一般式(1)で表わされるト
リシクロデカン誘導体だけでなくこれと別の七ツマ−と
を併用することができる。そのモノマーとしてはラジカ
ル重合性を有し、重合したのちその重合体が透明性を損
なわない七ツマ−であれば如何なるものでも良く、たと
えばメチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレ
ート、トリブロモフェニルメタクリレート等のアクリル
酸あるいはメタクリル酸のエステル類、スチレン、P−
クロロスチレン、ブロモスチレン、ジビニルベンゼン、
ビニルナフタレン等の芳香族ビニル化合物類、エチレン
グリコール、トリエチレングリコール、l、6−ヘキサ
ンジオール等の多価アルコールと(メタ)アクリル酸と
のエステル類、あるいはテレフタル酸ジアリル、イソフ
タル酸ジアリル、ジエチレングリコールビスアリルカー
ボ早−ト等である。併用されるモノマーは、重量%で/
−9q%の範囲で任意に選択することができる。
上記一般式(1)で示されるトリシクロデカン誘導体を
含む単量体を、熱硬化する際に使用するラジカル重合開
始剤としては、例えば、ジインブロピルパーオキシジ4
カーボネート、ベンゾイルパーオキサイド、t−プチル
パーオキシピパレイト、t−ブチルパーオキシ(コーエ
チルヘキサノエー))、t−ブチルパーオキシイソブチ
レート、あるいはその他の過酸化物、またはアゾビスイ
ソブチロニトリルなどのアゾ系化合物を挙げることがで
きる。また、紫外線で硬化する際には、その重合開始剤
としてはベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェ
ノン、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン
等を挙げることができる。
含む単量体を、熱硬化する際に使用するラジカル重合開
始剤としては、例えば、ジインブロピルパーオキシジ4
カーボネート、ベンゾイルパーオキサイド、t−プチル
パーオキシピパレイト、t−ブチルパーオキシ(コーエ
チルヘキサノエー))、t−ブチルパーオキシイソブチ
レート、あるいはその他の過酸化物、またはアゾビスイ
ソブチロニトリルなどのアゾ系化合物を挙げることがで
きる。また、紫外線で硬化する際には、その重合開始剤
としてはベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェ
ノン、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン
等を挙げることができる。
該重合開始剤の量は、モノマーに対して通常0.00/
−10重1}%、好ましくは0.0/−!重信%であ
る。また重合に際し、必要に応じて離型剤、紫外線吸収
剤、酸化防止剤、帯電防止剤、各種安定剤等の添加剤を
含有していてもがまわない。
−10重1}%、好ましくは0.0/−!重信%であ
る。また重合に際し、必要に応じて離型剤、紫外線吸収
剤、酸化防止剤、帯電防止剤、各種安定剤等の添加剤を
含有していてもがまわない。
本発明の上記一般式(I)で表される新規なトリシクロ
デカン誘導体を含む単ff1Kはトリシクロデカンジメ
タツールとアリルクロロ7オーメート、β−メタリルカ
ーボネート、または(メタ)アクリロイルクロライドと
を塩酸捕獲剤の存在下で反応させることにより得られる
。これらの反応は溶媒中で行ない、その溶媒としてはア
ルコール性水酸基、クロロ7オーメート基、および酸ク
ロライドのいずれとも反応性を有しないものが好ましい
。
デカン誘導体を含む単ff1Kはトリシクロデカンジメ
タツールとアリルクロロ7オーメート、β−メタリルカ
ーボネート、または(メタ)アクリロイルクロライドと
を塩酸捕獲剤の存在下で反応させることにより得られる
。これらの反応は溶媒中で行ない、その溶媒としてはア
ルコール性水酸基、クロロ7オーメート基、および酸ク
ロライドのいずれとも反応性を有しないものが好ましい
。
たとえばヘキサン、ベンゼン、シクロヘキサン等の炭化
水素類、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭
素等のハ鴛ゲン化炭化水素類、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサノン等のケトン類を使用する。
水素類、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭
素等のハ鴛ゲン化炭化水素類、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサノン等のケトン類を使用する。
反応は上記溶媒中でトリシクロデカンジメタツール1モ
ルに対し塩酸捕獲剤、たとえば、トリアルキルアミン、
ピリジン、炭酸ソーダ、苛性ソーダ等を2モル以上、好
ましくは2.2−ダモル当景加えてかきまぜながら、反
応液を−/ j −J 0℃、好ましくは一10〜10
℃に保ち、アリルクロロ7オーメート、β−メタリルク
ロロ7オーメート、または(メタ)アクリロイルクーラ
イドを2へ7モル、好ましくは2.2〜1モルを滴下し
、滴下終了後、攪拌を数時間継続し、反応終了後、反応
液を希塩酸、希アルカリ、ついで水で洗浄し、溶媒を留
去して、上記一般式(1)で表されるトリシクロデカン
誘導体を得ることができる。
ルに対し塩酸捕獲剤、たとえば、トリアルキルアミン、
ピリジン、炭酸ソーダ、苛性ソーダ等を2モル以上、好
ましくは2.2−ダモル当景加えてかきまぜながら、反
応液を−/ j −J 0℃、好ましくは一10〜10
℃に保ち、アリルクロロ7オーメート、β−メタリルク
ロロ7オーメート、または(メタ)アクリロイルクーラ
イドを2へ7モル、好ましくは2.2〜1モルを滴下し
、滴下終了後、攪拌を数時間継続し、反応終了後、反応
液を希塩酸、希アルカリ、ついで水で洗浄し、溶媒を留
去して、上記一般式(1)で表されるトリシクロデカン
誘導体を得ることができる。
また他の合成法として、特にアリルカーゲネートを得た
い場合はトリシクロデカンジメタツールを理論量より過
剰のホスゲンを用いてクロロ7オーメート化反応を行っ
た後、過剰のホスゲンを留去してトリシクロデカンジメ
タツールクロロ7オーメートに誘導した後、これをアリ
ルアルコールまたはβ−メタリルアルコールと反応させ
て得ることもできる。この方沙での反応条件は上記のト
リシクロデカンジメタツールとアリルクロロ7オーメー
ト、β−メタリルクロロ7オーメートまたは(メタ)ア
クリロイルクロライドとの反応に準じればよい。
い場合はトリシクロデカンジメタツールを理論量より過
剰のホスゲンを用いてクロロ7オーメート化反応を行っ
た後、過剰のホスゲンを留去してトリシクロデカンジメ
タツールクロロ7オーメートに誘導した後、これをアリ
ルアルコールまたはβ−メタリルアルコールと反応させ
て得ることもできる。この方沙での反応条件は上記のト
リシクロデカンジメタツールとアリルクロロ7オーメー
ト、β−メタリルクロロ7オーメートまたは(メタ)ア
クリロイルクロライドとの反応に準じればよい。
さらにトリシクロデカンジメタツールとアリルカーボネ
ート基、β−メタリルカーボネート基または(メタ)ア
クリル基との間にエトキシ基を既知の反応で導入するこ
ともできる。
ート基、β−メタリルカーボネート基または(メタ)ア
クリル基との間にエトキシ基を既知の反応で導入するこ
ともできる。
本発明によって得られた重合体樹脂はジエチレングリコ
ールビスアリルカーボネート(屈折率nd−八よ00.
アツベ数−tr、比重−八32)に比して、より高い屈
折率nd 1.!;10へへjコよ、より高いアツベ数
6コ〜7/、 およびより低い比重/、/!i〜7.
22をそれぞれ有し、しかも注型時の重合収縮性がジエ
チレングリコールビスアリルカーボネートに比べて著し
く改良された特徴も合わせ持つため、光学用材料として
極めて優れている。尚、本発明の光学用樹脂物体が成型
体の光学用素子である場合には光学的あるいは機械的安
定性を向上させるために、素子の表面にコーティングを
施すこともできる。
ールビスアリルカーボネート(屈折率nd−八よ00.
アツベ数−tr、比重−八32)に比して、より高い屈
折率nd 1.!;10へへjコよ、より高いアツベ数
6コ〜7/、 およびより低い比重/、/!i〜7.
22をそれぞれ有し、しかも注型時の重合収縮性がジエ
チレングリコールビスアリルカーボネートに比べて著し
く改良された特徴も合わせ持つため、光学用材料として
極めて優れている。尚、本発明の光学用樹脂物体が成型
体の光学用素子である場合には光学的あるいは機械的安
定性を向上させるために、素子の表面にコーティングを
施すこともできる。
上記光学用材料としては、例えば、眼鏡用、スチールカ
メラ用、ビデオカメラ用、望遠鏡用、太陽光集光用等の
いわゆるレンズ類、プリズム類、ビデオディスク、オー
ディオディスク等のディスク類、凹面鏡、凸面鏡、ポリ
ゴン等の鏡類、オプティカルファイバー、ざらには、光
導波路等の先導性素子等が挙げられる。
メラ用、ビデオカメラ用、望遠鏡用、太陽光集光用等の
いわゆるレンズ類、プリズム類、ビデオディスク、オー
ディオディスク等のディスク類、凹面鏡、凸面鏡、ポリ
ゴン等の鏡類、オプティカルファイバー、ざらには、光
導波路等の先導性素子等が挙げられる。
次に本発明の詳細な説明するが、本発明はこれらに限定
されるものではない。
されるものではない。
実施例1
(al )リシクロデカンジメタノールビスアリルカ
ーボネートの製造 トリシクロ(j、2./、0.2.乙)デカンジメタツ
ール196g(/、0モル)を環化メチレンsoog中
に加え、かくはんしなから0℃に保つ。そこへピリジン
コ069(2,6モル)加えてかきまぜながら、クロロ
ギ酸アリル219り(2,6モル)を徐々に滴下した。
ーボネートの製造 トリシクロ(j、2./、0.2.乙)デカンジメタツ
ール196g(/、0モル)を環化メチレンsoog中
に加え、かくはんしなから0℃に保つ。そこへピリジン
コ069(2,6モル)加えてかきまぜながら、クロロ
ギ酸アリル219り(2,6モル)を徐々に滴下した。
滴下伊、史に5時間かくはんした。
その後、沈殿を取り除き、溶液な希塩酸、希NaOH水
溶液、希NaCl水溶液で洗浄し、熱水硫酸ナトリウム
を加えて一昼夜放置した。その移、ろ過により乾燥させ
たろ液を取り出した。最後に、そのろ液から減圧下で塩
化メチレンを留去し、トリシクロ(j、i/、(I),
J、4) デカンジメタツールビスアリルカーボネー
トを得た。
溶液、希NaCl水溶液で洗浄し、熱水硫酸ナトリウム
を加えて一昼夜放置した。その移、ろ過により乾燥させ
たろ液を取り出した。最後に、そのろ液から減圧下で塩
化メチレンを留去し、トリシクロ(j、i/、(I),
J、4) デカンジメタツールビスアリルカーボネー
トを得た。
生成物のH−NMRスペクトルを調べたところ、−C0
0CHCH−OH基のメチレンプロトンのピークがL4
ppm(FH) K 、 −0000)10H−OH基
のオレフィン部に結合するプロトンのピークがL/−!
;、3ppm(4’H) 、およびs、7−6、 xp
pm (2H)に、−0HOCOO−部のメチレンプロ
トンのピークが3.に−*、 /pI)m(1)にそれ
ぞれ現れた。またF’r−IRスペクトルはC−0に由
来するピークが17117cmに、C−Cに由来するピ
ークが1631cmにそれぞれ認められた。
0CHCH−OH基のメチレンプロトンのピークがL4
ppm(FH) K 、 −0000)10H−OH基
のオレフィン部に結合するプロトンのピークがL/−!
;、3ppm(4’H) 、およびs、7−6、 xp
pm (2H)に、−0HOCOO−部のメチレンプロ
トンのピークが3.に−*、 /pI)m(1)にそれ
ぞれ現れた。またF’r−IRスペクトルはC−0に由
来するピークが17117cmに、C−Cに由来するピ
ークが1631cmにそれぞれ認められた。
以上の結果から、生成物はトリシクロデカンジメタツー
ルのジアリルカーボネートであることが確認できた。
ルのジアリルカーボネートであることが確認できた。
(b)トリシクロデカンジメタツールジメタクリルエス
テルの製造 上記fa)と同様の方法で、クロロギ酊アリルの代わり
に塩化メタクリロイルを使用して生成物を得た0 生成物のH−NMRおよびFT−IRスペクトルからト
リシクロデカンジメタツールジメタクリルエステルであ
ることが確認できた。
テルの製造 上記fa)と同様の方法で、クロロギ酊アリルの代わり
に塩化メタクリロイルを使用して生成物を得た0 生成物のH−NMRおよびFT−IRスペクトルからト
リシクロデカンジメタツールジメタクリルエステルであ
ることが確認できた。
(C1重合体樹脂(Alの製造
上記(atで得られたトリシクロデカンジメタツールビ
スアリルカーボネートにジイソブロピルパーオキシジカ
ーボ不一トを/重音%、t−ブ・チルバーオキンピバレ
イトを7重量%を溶解したモノマー溶液を、2枚のガラ
ス板とガスケットで組まれたモールド中に注入し、Jj
’CからjQ″Cまで12時間、SO℃から60℃まで
2時間、60℃から10℃まで2時間、tO℃で2時間
、順次加熱硬化させた後、離型して重合体(Atを得た
。該重合体(Atは非常に硬く、加色透明であり、/、
/、バートリクロロエタン、クロロホルム、1,2.−
’;クロロエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ア
セトン、メチルエチルケトン、および酢酸ブチル等の溶
剤には溶解しなかった。該重合体(Atの屈折率および
アツベ数などのデータを表−ノに示す。
スアリルカーボネートにジイソブロピルパーオキシジカ
ーボ不一トを/重音%、t−ブ・チルバーオキンピバレ
イトを7重量%を溶解したモノマー溶液を、2枚のガラ
ス板とガスケットで組まれたモールド中に注入し、Jj
’CからjQ″Cまで12時間、SO℃から60℃まで
2時間、60℃から10℃まで2時間、tO℃で2時間
、順次加熱硬化させた後、離型して重合体(Atを得た
。該重合体(Atは非常に硬く、加色透明であり、/、
/、バートリクロロエタン、クロロホルム、1,2.−
’;クロロエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ア
セトン、メチルエチルケトン、および酢酸ブチル等の溶
剤には溶解しなかった。該重合体(Atの屈折率および
アツベ数などのデータを表−ノに示す。
なお屈折率およびアツベ数はアツベの屈折率計により、
接着液としてα−ブロモナフタレンを用いて測定した。
接着液としてα−ブロモナフタレンを用いて測定した。
また重合体(にの比重および注型重合詩の収縮率を表−
2に示す。この収縮率は注型重合前のモノマーの比重ρ
1と注型重合後の重合体の比重ρ2とを測定し、(l−
ρ1/ρ2)X10(7・の値を収縮率として求めた。
2に示す。この収縮率は注型重合前のモノマーの比重ρ
1と注型重合後の重合体の比重ρ2とを測定し、(l−
ρ1/ρ2)X10(7・の値を収縮率として求めた。
なおトリシクロ(j、コ、t、o、2.6)デカンジメ
タノールビスアリルカーボネー) (TDAC)モノマ
ーの比重を表−2に示した。
タノールビスアリルカーボネー) (TDAC)モノマ
ーの比重を表−2に示した。
表−2
(d) 重合体樹脂(B)〜(DJの製造上記(a)
で得られたトリシクロデカンジメタツールビスアリルカ
ーボネートを七ツマ−として使用し、開始剤の種類と重
量%を表−/に示すように変えた以外は上記(C1と同
一の方法で注型重合し、得た本合体(Bl −(DJの
物性データを表−7および表−2に示す。
で得られたトリシクロデカンジメタツールビスアリルカ
ーボネートを七ツマ−として使用し、開始剤の種類と重
量%を表−/に示すように変えた以外は上記(C1と同
一の方法で注型重合し、得た本合体(Bl −(DJの
物性データを表−7および表−2に示す。
比較例1
ジエチレングリコールビスアリルヵーボネート<cR−
3q)を実施例3と同様の方法で注型重合し、重合体(
Elを得た。該重合体の物性データを表−lおよび表−
2に示した。
3q)を実施例3と同様の方法で注型重合し、重合体(
Elを得た。該重合体の物性データを表−lおよび表−
2に示した。
なお0R−39モノマーの比重を表−2に示した。
Claims (2)
- (1)下記一般式( I )で表されるトリシクロデカン
誘導体を含む単量体を重合してなる光学用低分散樹脂組
成物 - (2)前記単量体は一般式( I )で表されるトリシク
ロデカン誘導体を重量%で1−99%とその他のラジカ
ル重合可能なモノマーとの合計量が100%である特許
請求の範囲第1項記載の光学用低分散樹脂組成物 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Xは同一の▲数式、化学式、表等があります▼
または、 ▲数式、化学式、表等があります▼を示し、RはCH_
3またはHであり、nは、0、1、2のいずれかである
。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP476687A JPS63173001A (ja) | 1987-01-12 | 1987-01-12 | 光学用低分散樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP476687A JPS63173001A (ja) | 1987-01-12 | 1987-01-12 | 光学用低分散樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63173001A true JPS63173001A (ja) | 1988-07-16 |
Family
ID=11592985
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP476687A Pending JPS63173001A (ja) | 1987-01-12 | 1987-01-12 | 光学用低分散樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63173001A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5310841A (en) * | 1987-12-18 | 1994-05-10 | Enichem Synthesis S.P.A. | Liquid composition polymerizable to yield organic glasses with low water absorption and high thermal stability |
EP0828766A1 (en) * | 1995-05-30 | 1998-03-18 | Sola International Holdings, Ltd. | High index/high abbe number composition |
JP2009079225A (ja) * | 2001-11-30 | 2009-04-16 | Nikon Corp | 光学用樹脂前駆体組成物、光学用樹脂、光学素子及び光学物品 |
-
1987
- 1987-01-12 JP JP476687A patent/JPS63173001A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5310841A (en) * | 1987-12-18 | 1994-05-10 | Enichem Synthesis S.P.A. | Liquid composition polymerizable to yield organic glasses with low water absorption and high thermal stability |
EP0828766A1 (en) * | 1995-05-30 | 1998-03-18 | Sola International Holdings, Ltd. | High index/high abbe number composition |
EP0828766A4 (ja) * | 1995-05-30 | 1998-04-22 | ||
JP2009079225A (ja) * | 2001-11-30 | 2009-04-16 | Nikon Corp | 光学用樹脂前駆体組成物、光学用樹脂、光学素子及び光学物品 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3130555B2 (ja) | プラスチックレンズ材料、プラスチックレンズおよび眼鏡用レンズ | |
JP2509622B2 (ja) | アダマンチルジアクリレ―トもしくはジメタクリレ―ト誘導体 | |
JPS63173001A (ja) | 光学用低分散樹脂組成物 | |
JPH01128966A (ja) | イオウ含有脂肪族系アクリル化合物 | |
JPS63145310A (ja) | 光学用プラスチツク材料 | |
JPH0430410B2 (ja) | ||
JPH0652321B2 (ja) | 有機光学材料 | |
JP2896261B2 (ja) | ビニル化合物、それを用いて得られた光学材料用重合体及び光学製品 | |
JPH01182314A (ja) | 高アッベ数レンズ用組成物 | |
JPH0320123B2 (ja) | ||
JPH0593121A (ja) | レンズ用熱可塑性樹脂の製造法 | |
JPH0251481B2 (ja) | ||
JPH02268170A (ja) | トリアジン化合物及びその製造方法 | |
JPH02247205A (ja) | 高屈折率樹脂の製造方法 | |
JP2759321B2 (ja) | 合成樹脂製レンズ用組成物 | |
JP3595615B2 (ja) | 含硫黄(メタ)アクリル酸エステル | |
JP2969816B2 (ja) | 光学材料用組成物、光学材料及びプラスチックレンズ | |
JPH04296307A (ja) | 光学用樹脂 | |
JP2844631B2 (ja) | 光学用樹脂 | |
JPS63251408A (ja) | 高屈折率樹脂 | |
JPH05188201A (ja) | 光学用材料 | |
JPH051116A (ja) | 光学用樹脂 | |
JP5213100B2 (ja) | 新規含硫黄エチレン性不飽和基含有化合物、及びその重合体 | |
JPH05209021A (ja) | 高屈折率樹脂組成物 | |
JPH01198611A (ja) | 高屈折率樹脂レンズ |