JPS6317258A - 炭化珪素焼結体及びその製造方法 - Google Patents
炭化珪素焼結体及びその製造方法Info
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Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目・的]
(産業上の利用分野)
本発明は炭化珪素焼結体に係り、特に、SiC以外の成
分量を低減し、高温強度に優れた炭化珪素焼結体及びそ
の製造方法に関する。
分量を低減し、高温強度に優れた炭化珪素焼結体及びそ
の製造方法に関する。
(従来の技術)
炭化珪素焼結体は耐酸化性、耐食性、耐熱衝撃性及び高
強度等の特性を有し、例えばガスタービン部品、高温用
熱交換器の如くの高温構造材料としての用途が検討され
ている。
強度等の特性を有し、例えばガスタービン部品、高温用
熱交換器の如くの高温構造材料としての用途が検討され
ている。
この炭化珪素は難焼結材料であるため加圧焼結法が用い
られているが、複雑形状の焼結体を得るため、また、製
造工程の簡略化のため、硼素等の焼結助剤を添加した常
圧焼結法が研究されているJ(特開昭50−78809
号、特開昭51−148712号等)。
られているが、複雑形状の焼結体を得るため、また、製
造工程の簡略化のため、硼素等の焼結助剤を添加した常
圧焼結法が研究されているJ(特開昭50−78809
号、特開昭51−148712号等)。
常圧焼結法によれば複雑形状の焼結体を生産性良く得る
ことができるが、一方では緻密化に寄与する硼素が他方
では炭化珪素焼結体の高温強度を低下させる一因ともな
る。また炭素はSiC粉中の酸素を除去し、炭化珪素焼
結体の緻密化に重要な役割を果たすが、他方では耐酸化
性の低下、強度の低下等の一因ともなる。
ことができるが、一方では緻密化に寄与する硼素が他方
では炭化珪素焼結体の高温強度を低下させる一因ともな
る。また炭素はSiC粉中の酸素を除去し、炭化珪素焼
結体の緻密化に重要な役割を果たすが、他方では耐酸化
性の低下、強度の低下等の一因ともなる。
そこで硼素量を減少して炭化珪素焼結体の特性を向上し
ようという試みがなされている。例えば特開昭80−1
86487号には硼素源として比表面積の大きい炭化硼
素粉を用いることにより硼素量を低減する方法が記載さ
れている。又、特開昭60−246263号には硼素及
び炭素源として溶媒に溶解するポリフェニルボロン等を
用いる方法が記載されている。
ようという試みがなされている。例えば特開昭80−1
86487号には硼素源として比表面積の大きい炭化硼
素粉を用いることにより硼素量を低減する方法が記載さ
れている。又、特開昭60−246263号には硼素及
び炭素源として溶媒に溶解するポリフェニルボロン等を
用いる方法が記載されている。
(発明が解決しようとする問題点)
前述の如く各種の方法が提案されているが、未だ炭化珪
素焼結体の高温強度、耐酸化性、耐食性は十分なもので
はない。本発明者等が炭化珪素焼結体について研究を進
めた結果、硼素、炭素等の他、炭化珪素焼結体中の酸素
が特性決定に重要であることが判明した。
素焼結体の高温強度、耐酸化性、耐食性は十分なもので
はない。本発明者等が炭化珪素焼結体について研究を進
めた結果、硼素、炭素等の他、炭化珪素焼結体中の酸素
が特性決定に重要であることが判明した。
本発明は炭化珪素焼結体中のSiC以外の成分、特に酸
素量を制御することにより、高温強度及び耐酸化性に優
れた炭化珪素焼結体を提供することを目的とする。
素量を制御することにより、高温強度及び耐酸化性に優
れた炭化珪素焼結体を提供することを目的とする。
[発明の構成]
(問題点を解決するための手段)
本発明は硼素を0.03重量%以上含有し、硼素、遊離
Si等を含めた金属元素が0.3重量%未満、遊離炭素
1.0重量%未満、遊離炭素以外の非金属元素0.15
重量%未満、残部実質的にSiCからなり、密度が3.
lOg/cd以上であることを特徴とする炭化珪素焼結
体である。そしてこのような本発明炭化珪素焼結体は、 a)焼結前の昇温過程で分解し硼素を残留する溶媒可溶
性の硼素化合物と焼結前の昇温過程で分解し炭素を残留
する溶媒可溶性の炭素化合物とSiC粉末との混合物の
成形体を得る第1の工程:b)焼結開始温度未満であり
、炭素によりSiC粉末中の酸素が除去される温度で前
記成形体を保持する第2の工程; C)真空又は不活性ガス雰囲気中で焼結する第3の工程
; を具備した炭化珪素焼結体の製造方法により得ることが
できる。
Si等を含めた金属元素が0.3重量%未満、遊離炭素
1.0重量%未満、遊離炭素以外の非金属元素0.15
重量%未満、残部実質的にSiCからなり、密度が3.
lOg/cd以上であることを特徴とする炭化珪素焼結
体である。そしてこのような本発明炭化珪素焼結体は、 a)焼結前の昇温過程で分解し硼素を残留する溶媒可溶
性の硼素化合物と焼結前の昇温過程で分解し炭素を残留
する溶媒可溶性の炭素化合物とSiC粉末との混合物の
成形体を得る第1の工程:b)焼結開始温度未満であり
、炭素によりSiC粉末中の酸素が除去される温度で前
記成形体を保持する第2の工程; C)真空又は不活性ガス雰囲気中で焼結する第3の工程
; を具備した炭化珪素焼結体の製造方法により得ることが
できる。
(作用)
以下本発明の詳細な説明する。
本発明に於いて出発原料として用いるSiC粉末は非等
軸晶系のα−5iC,等軸晶系のβ−S iCs及びこ
れらの混合物のいずれでも良いが、平均粒径1μm以下
で比表面積5 rri’ / g以上さらには平均粒径
0.5μm以下で比表面積10rr?/g以上に分級さ
れた粉末が辿ましい。これ以上の粗大粒子になると不活
性ガス雰囲気による昇温の途中過程に於ける粒成長抑制
による焼結性の向上が殆ど得られなく成り、焼結密度が
3.10r / c c以上で均一な微細構造の焼結体
を得るのが困難である。
軸晶系のα−5iC,等軸晶系のβ−S iCs及びこ
れらの混合物のいずれでも良いが、平均粒径1μm以下
で比表面積5 rri’ / g以上さらには平均粒径
0.5μm以下で比表面積10rr?/g以上に分級さ
れた粉末が辿ましい。これ以上の粗大粒子になると不活
性ガス雰囲気による昇温の途中過程に於ける粒成長抑制
による焼結性の向上が殆ど得られなく成り、焼結密度が
3.10r / c c以上で均一な微細構造の焼結体
を得るのが困難である。
前記のごくきSiC粉末は各種の方法で製造出来るが、
得られたままのSiC粉末中には遊離Si、遊離SiO
2、遊離C及び各種金属不純物等の焼結を阻害したり焼
結体内の欠陥と成り易い混入物か存在する。通常は酸洗
処理などの方法で純化されるが、いずれの金属不純物含
有量も0.05%以下であるのが望ましい。
得られたままのSiC粉末中には遊離Si、遊離SiO
2、遊離C及び各種金属不純物等の焼結を阻害したり焼
結体内の欠陥と成り易い混入物か存在する。通常は酸洗
処理などの方法で純化されるが、いずれの金属不純物含
有量も0.05%以下であるのが望ましい。
まず成形体(朱、焼結)を形成する。このときSiC粉
末以外にSiC粉末表面の酸素を除去する炭素及び焼結
助剤となる硼素を加え、溶媒とともに十分に混合し、造
粒した後、所望。形状に加圧成形することにより成形体
を得る(第1の工程)。成形上必要ならば一時的な結合
剤(ステアシワ′ リン酸、パラフィン、エレクトロし−メ′ツクス。
末以外にSiC粉末表面の酸素を除去する炭素及び焼結
助剤となる硼素を加え、溶媒とともに十分に混合し、造
粒した後、所望。形状に加圧成形することにより成形体
を得る(第1の工程)。成形上必要ならば一時的な結合
剤(ステアシワ′ リン酸、パラフィン、エレクトロし−メ′ツクス。
PVA等)も上記溶液に加えてSiC粉末と充分均一に
混合した後、噴霧乾燥、凍結乾燥等の手段により乾燥造
粒する。溶媒としてはパラフィン系炭化水素(ペンタン
からセタンまて)、アルコール類(メタノール、エタノ
ール、ブタノール、プロパツール等々)、アセトン、ト
リクレン、メタクレン、エチレングコールなどの有機系
溶媒を用いる方が製造工程上容易であるため、上記物質
は有機溶媒可溶性のものが好ましい。
混合した後、噴霧乾燥、凍結乾燥等の手段により乾燥造
粒する。溶媒としてはパラフィン系炭化水素(ペンタン
からセタンまて)、アルコール類(メタノール、エタノ
ール、ブタノール、プロパツール等々)、アセトン、ト
リクレン、メタクレン、エチレングコールなどの有機系
溶媒を用いる方が製造工程上容易であるため、上記物質
は有機溶媒可溶性のものが好ましい。
焼結した後、SiC以外の成分の必要以上の残留は高温
強度低下の要因になるため、できるだけ少量に抑える必
要がある。また、均一に分散させる必要がある。そのた
め炭素はコールタールピッチ、石油ピッチ、重質油、フ
ェノール樹脂、ノボラック樹脂等の非酸化性の雰囲気に
おける加熱処理により分解して遊離炭素を生成する溶媒
化溶性、特に有機溶媒化溶性の炭素化合物で添加する必
要がある。更には、昇温により有機溶媒が揮散した時に
固化し、その後融解することなく分解し均一に炭素を分
散することのできるノボラック等の樹脂が好ましい。ま
た炭素の添加量であるが、量は同様に製造されたSiC
粉末中の酸素量を測定しておくことにより容易に決定で
きる。炭素添加量が少ないとSiC粉末中の酸素の除去
を完全に行なうことができず、また過剰の添加は焼結体
中に多量の遊離炭素が残存することになり、緻密化の障
害となる。
強度低下の要因になるため、できるだけ少量に抑える必
要がある。また、均一に分散させる必要がある。そのた
め炭素はコールタールピッチ、石油ピッチ、重質油、フ
ェノール樹脂、ノボラック樹脂等の非酸化性の雰囲気に
おける加熱処理により分解して遊離炭素を生成する溶媒
化溶性、特に有機溶媒化溶性の炭素化合物で添加する必
要がある。更には、昇温により有機溶媒が揮散した時に
固化し、その後融解することなく分解し均一に炭素を分
散することのできるノボラック等の樹脂が好ましい。ま
た炭素の添加量であるが、量は同様に製造されたSiC
粉末中の酸素量を測定しておくことにより容易に決定で
きる。炭素添加量が少ないとSiC粉末中の酸素の除去
を完全に行なうことができず、また過剰の添加は焼結体
中に多量の遊離炭素が残存することになり、緻密化の障
害となる。
硼素は高温でSiC粒子に拡散して焼結性を向上させる
物質であるが、炭素と同様に焼結前の昇温過程で分解し
硼素を残留する溶媒可溶性、特に有機溶媒可溶性の硼素
化合物で添加する必要がある。このような硼素化合物と
しては BH(デカボラン)、B1oH131(ヨドデカボラン
)、1(C2H5) 3NHI 2 (BloHl。
物質であるが、炭素と同様に焼結前の昇温過程で分解し
硼素を残留する溶媒可溶性、特に有機溶媒可溶性の硼素
化合物で添加する必要がある。このような硼素化合物と
しては BH(デカボラン)、B1oH131(ヨドデカボラン
)、1(C2H5) 3NHI 2 (BloHl。
)。
(CH) NH−BH3等が挙げられ、特にB含有率
が高いため硼素化合物としての添加量が所望の硼素を添
加する場合に少量で済み、また融解することなく分解し
均一に硼素を分散することのし・ できるBloHl。C2等の力ソど宗ラン系の硼素化合
物が好ましい。
が高いため硼素化合物としての添加量が所望の硼素を添
加する場合に少量で済み、また融解することなく分解し
均一に硼素を分散することのし・ できるBloHl。C2等の力ソど宗ラン系の硼素化合
物が好ましい。
硼素の添加形態としてはBN、B2O3゜B4C,B等
が考えられるが、いずれも少量均一の混合が困難である
。またB 4 Cでは1800−1900°Cから昇華
が始まり、硼素量が減少してしまい、BNの場合N原子
が焼結の障害となり、B2O3では液相・第2相を形成
しやすく強度がおちる。このように粉末添加では、所望
の特性を維持しつつ、焼結助剤量を減少せしめることは
困難である。
が考えられるが、いずれも少量均一の混合が困難である
。またB 4 Cでは1800−1900°Cから昇華
が始まり、硼素量が減少してしまい、BNの場合N原子
が焼結の障害となり、B2O3では液相・第2相を形成
しやすく強度がおちる。このように粉末添加では、所望
の特性を維持しつつ、焼結助剤量を減少せしめることは
困難である。
なお上記炭素化合物、硼素化合物は一種で兼用してもか
まわないし、別々の化合物として添加しても良い。
まわないし、別々の化合物として添加しても良い。
乾式プレスなどで所望の形状にした成形体は脱脂のため
焼結する前に通常、不活性雰囲気中で穏やかに約700
℃まで加熱昇温される。この過程で一次的結合剤は分解
揮散し、次に炭素化合物、硼素化合物が固化した後に分
解し、遊離炭素、硼素となり、SiC粉末表面に均一に
分散した状態となる。
焼結する前に通常、不活性雰囲気中で穏やかに約700
℃まで加熱昇温される。この過程で一次的結合剤は分解
揮散し、次に炭素化合物、硼素化合物が固化した後に分
解し、遊離炭素、硼素となり、SiC粉末表面に均一に
分散した状態となる。
この温度領域の急激な加熱温度上昇は成形体にクラック
や気孔を導入し破損原因と成りやすいため、出来るだけ
穏やかに昇温することが好ましい。
や気孔を導入し破損原因と成りやすいため、出来るだけ
穏やかに昇温することが好ましい。
この時SiC粉末の酸化を少しでも抑制するため真空又
は不活性雰囲気あるいは非酸化性雰囲気中で出来る限り
均一環境下で温度上昇させて脱脂する必要か有る。
は不活性雰囲気あるいは非酸化性雰囲気中で出来る限り
均一環境下で温度上昇させて脱脂する必要か有る。
更に温度上昇し1300〜1500℃でSiC粉末表面
の酸化被膜及びS L O2に対する遊離Cによる還元
とSi、SiO2の融解が生じ、C01S i、 S
L O2の形での揮散が進む。更に高温になりSiC
粒成長が始まる段階に至っても未だこれらSiC粉末表
面の酸化被膜、遊離Si、及び遊離S 102が残留/
していると、SiC粉末表面での蒸発・凝固及び拡散を
局部的に促進又は抑制するために異常粒成長を生じ易く
成る。そのため、約1500°Cまでは真空中で緩かに
温度上昇させ更には約1450−1550℃で温度保持
する事(第2の工程)により、SiC粉禾粉面表面周辺
要不純物を極力排除するのが好ましい。このため10−
”torr以下の減圧下で昇温し、この温度保持は、C
Oガスの揮散等の影響で真空度が一旦低下した後、低下
する前の真空度にまで真空度が回復するまで保持すれば
良い。
の酸化被膜及びS L O2に対する遊離Cによる還元
とSi、SiO2の融解が生じ、C01S i、 S
L O2の形での揮散が進む。更に高温になりSiC
粒成長が始まる段階に至っても未だこれらSiC粉末表
面の酸化被膜、遊離Si、及び遊離S 102が残留/
していると、SiC粉末表面での蒸発・凝固及び拡散を
局部的に促進又は抑制するために異常粒成長を生じ易く
成る。そのため、約1500°Cまでは真空中で緩かに
温度上昇させ更には約1450−1550℃で温度保持
する事(第2の工程)により、SiC粉禾粉面表面周辺
要不純物を極力排除するのが好ましい。このため10−
”torr以下の減圧下で昇温し、この温度保持は、C
Oガスの揮散等の影響で真空度が一旦低下した後、低下
する前の真空度にまで真空度が回復するまで保持すれば
良い。
その後、焼結温度である1800〜2200 ’C程度
の温度に昇温するが、約1600 ’Cから緻密化を生
じ無い気相焼結となるSiCの蒸発・凝縮及び表面拡散
が徐々に顕著に成り粉末粒の粗大化が始まるが、緻密化
につながる液相焼結及び固相なる1800〜1900℃
の温度に達した時にはSiC粒子は約1μmに粗大化し
た後であり、出発原料として超微細粉末を求めた効果を
消失させてしまっている。
の温度に昇温するが、約1600 ’Cから緻密化を生
じ無い気相焼結となるSiCの蒸発・凝縮及び表面拡散
が徐々に顕著に成り粉末粒の粗大化が始まるが、緻密化
につながる液相焼結及び固相なる1800〜1900℃
の温度に達した時にはSiC粒子は約1μmに粗大化し
た後であり、出発原料として超微細粉末を求めた効果を
消失させてしまっている。
発明者らは非酸化性雰囲気(H,N、C○)が気相焼結
を抑制し粒の粗大化をほぼ完全に阻止することを見出し
た。従って気相焼結が主である温度範囲をこれら非酸化
性の粒の粗大化抑止雰囲気中で温度上昇して、固体拡散
が顕著となる1800〜2200℃付近で粒の粗大化抑
止雰囲気から真空又は不活性ガス(He、Ne、Ar他
)雰囲気に切替え温度保持する方法は、超微細粉末状態
から焼結を開始させることができるため、好ましい(粗
大化抑制工程)。SiCは高温になると炭素とSiリッ
チな蒸気(S L、S i20等)に分解する。Ar、
He、Ne等の不活性雰囲気ガスは上記SiC粉末の昇
華分解を多少なりと抑制する効果を有し、焼結はこれら
不活性ガ橘壜囲気下で進める事か好ましい。しかし、こ
の不活性ガスはSiCの昇温分解を抑制する一方で、焼
結体内の気孔に溜り閉気孔の消滅を阻害するため、その
導入には注意を払う必要が有る。
を抑制し粒の粗大化をほぼ完全に阻止することを見出し
た。従って気相焼結が主である温度範囲をこれら非酸化
性の粒の粗大化抑止雰囲気中で温度上昇して、固体拡散
が顕著となる1800〜2200℃付近で粒の粗大化抑
止雰囲気から真空又は不活性ガス(He、Ne、Ar他
)雰囲気に切替え温度保持する方法は、超微細粉末状態
から焼結を開始させることができるため、好ましい(粗
大化抑制工程)。SiCは高温になると炭素とSiリッ
チな蒸気(S L、S i20等)に分解する。Ar、
He、Ne等の不活性雰囲気ガスは上記SiC粉末の昇
華分解を多少なりと抑制する効果を有し、焼結はこれら
不活性ガ橘壜囲気下で進める事か好ましい。しかし、こ
の不活性ガスはSiCの昇温分解を抑制する一方で、焼
結体内の気孔に溜り閉気孔の消滅を阻害するため、その
導入には注意を払う必要が有る。
以上説明したような方法により得られた焼結体は、Si
C以外の構成成分が必要最小限度に抑えられ、特に高温
強度に優れたものとなる。
C以外の構成成分が必要最小限度に抑えられ、特に高温
強度に優れたものとなる。
硼素は常圧焼結に必須の成分であり、焼結体残量で0.
03重量%以上必要であるが、過剰の残量は第2相の析
出等による強度の低下をまねき、また耐酸化性、耐食性
も低下する。またAp、Fe。
03重量%以上必要であるが、過剰の残量は第2相の析
出等による強度の低下をまねき、また耐酸化性、耐食性
も低下する。またAp、Fe。
原因となるため、硼素を含めた量で3.0重量%以下と
する。なお硼素は0.15重量%未満、さらにはは耐酸
化性の低下、強度の低下をまねくため、多くても 1.
0重量%、好ましくは0.5重量%以下である。しかし
ながら余り少ないとSiC粉末中の酸素除去が不完全と
なり密度が低下してしまうため、実用上は焼結体中残量
で0.05重量%以上である。
する。なお硼素は0.15重量%未満、さらにはは耐酸
化性の低下、強度の低下をまねくため、多くても 1.
0重量%、好ましくは0.5重量%以下である。しかし
ながら余り少ないとSiC粉末中の酸素除去が不完全と
なり密度が低下してしまうため、実用上は焼結体中残量
で0.05重量%以上である。
炭素以外の非金属元素である酸素、窒素等も強度低下の
原因となるため、合計量で0.15重量%以下とする。
原因となるため、合計量で0.15重量%以下とする。
特に酸素は密度の低下をもたらし、強度を低下させるた
め0.1重量%以下とする。
め0.1重量%以下とする。
焼結体密度は3.10g / c c以上とする。これ
未満だと気孔が多数存在し強度に劣る。 −(実施例
) 以下本発明を実施例に基づいて更に詳しく説明する。
未満だと気孔が多数存在し強度に劣る。 −(実施例
) 以下本発明を実施例に基づいて更に詳しく説明する。
実施例−1
出発原料として比表面積15rr?/g、全酸素含有量
1.4wt%、その他金属不純物は全て0.05wt%
未満である市販のα−5iC粉末100gを秤量するカ
ルボランを13fiに換算して0.4g 。
1.4wt%、その他金属不純物は全て0.05wt%
未満である市販のα−5iC粉末100gを秤量するカ
ルボランを13fiに換算して0.4g 。
ノボラック樹脂を残留C量に換算して3.0g、エチレ
ングリコール10ccをアセトン100ccに溶解する
。前記SiC粉末を上記アセトン溶液に浸漬撹はんし、
乾燥造粒する。4.35X 3.35cdの金型を使い
20 g/Pの試料を1ton/c+Jで加圧成形後3
ton/cjでラバープレスする。成形体を窒素雰囲気
中で700℃まで8時間かけて加熱することにより脱脂
済み成形体を得る。この脱脂体を黒鉛製二重容器に入れ
てヒーター加熱炉内部にセットし、真空排気したのち室
温より約1200℃まで手動で通電加熱し試料よりのC
O系ガス放出により真空度が低下する1300〜150
0℃における温度上昇速度を500°C/ Hと緩やか
にし、更に約1550°cxao分で真空保持する事に
よりガス放出脱気を徹底させた後、1000℃/Hで2
050°Cまで昇温し、Ar気流中で2時間焼結した。
ングリコール10ccをアセトン100ccに溶解する
。前記SiC粉末を上記アセトン溶液に浸漬撹はんし、
乾燥造粒する。4.35X 3.35cdの金型を使い
20 g/Pの試料を1ton/c+Jで加圧成形後3
ton/cjでラバープレスする。成形体を窒素雰囲気
中で700℃まで8時間かけて加熱することにより脱脂
済み成形体を得る。この脱脂体を黒鉛製二重容器に入れ
てヒーター加熱炉内部にセットし、真空排気したのち室
温より約1200℃まで手動で通電加熱し試料よりのC
O系ガス放出により真空度が低下する1300〜150
0℃における温度上昇速度を500°C/ Hと緩やか
にし、更に約1550°cxao分で真空保持する事に
よりガス放出脱気を徹底させた後、1000℃/Hで2
050°Cまで昇温し、Ar気流中で2時間焼結した。
焼結密度3.15g / c c 。
(Fe)、 0.4%(遊離C) 、 0.08%(
酸素)。
酸素)。
0.01%(N)であった。JIS規格に準じて断面3
X4−の抗折強度試験片を作製してスパン30關で3点
曲げ試験を行ったところ、80kg/i(室温) 、
83jcg/rrvA (1500’C) テあった
。
X4−の抗折強度試験片を作製してスパン30關で3点
曲げ試験を行ったところ、80kg/i(室温) 、
83jcg/rrvA (1500’C) テあった
。
室温の破壊靭性値は4 PvI P a J mであっ
た。
た。
実施例−2
実施例−1と同様にガス放出脱気を徹底さセタ後、N2
気流中で1800℃ま”7: 1000 ’C/Hで昇
温し、保持しながら真空排気した後更に2050℃まで
昇温しでAr気流中2時間の焼結をした。得られた焼結
密度は3.15g/ c c 、平均粒径は1.5μm
、分析結果は0.13%(B) 、 0.04%(Al
)、 0.4%(遊離C)、0.04%(酸素)。
気流中で1800℃ま”7: 1000 ’C/Hで昇
温し、保持しながら真空排気した後更に2050℃まで
昇温しでAr気流中2時間の焼結をした。得られた焼結
密度は3.15g/ c c 、平均粒径は1.5μm
、分析結果は0.13%(B) 、 0.04%(Al
)、 0.4%(遊離C)、0.04%(酸素)。
0.04(N)であった。強度試験結果は81kg/s
i(室温)、84kg/m(1500℃)で、靭性値は
5 M P a J mであった。
i(室温)、84kg/m(1500℃)で、靭性値は
5 M P a J mであった。
実施例−3
実施例−1と同様にガス放出脱気を徹底させた後、N2
気流中で1900°Cまで昇温後真空排気して2050
℃のAr気流中で2時間焼結した。得られた密度は3.
11n / c cで、平均粒径は1.1μm1分析結
果は実施例−2とほぼ同じであった。強度試験結果は8
7 kg/、mtA (室温)、90kg/mir (
1500℃)で靭性値は6 M P a −7mであっ
た。
気流中で1900°Cまで昇温後真空排気して2050
℃のAr気流中で2時間焼結した。得られた密度は3.
11n / c cで、平均粒径は1.1μm1分析結
果は実施例−2とほぼ同じであった。強度試験結果は8
7 kg/、mtA (室温)、90kg/mir (
1500℃)で靭性値は6 M P a −7mであっ
た。
実施例−4
実施例−1と同様にガス放出脱気を徹底させた後、N2
気流中で2000℃まで昇温後真空排気して2050℃
のA「気流中で2時間焼結した。得られた密度は3.1
ftg / ((で平均粒径は0.9μm1分析結果は
実施例−2,3とほぼ同じであった。強度試験結果は8
5kg/mff1(室温)。
気流中で2000℃まで昇温後真空排気して2050℃
のA「気流中で2時間焼結した。得られた密度は3.1
ftg / ((で平均粒径は0.9μm1分析結果は
実施例−2,3とほぼ同じであった。強度試験結果は8
5kg/mff1(室温)。
87kg/NA(1500℃)で靭性値は6 M P
a4mであった。
a4mであった。
実施例−5
実施例−1と同様にガス放出脱気を徹底させた後N2気
流中で2050℃まで昇温後排気してArを導入し、2
時間焼結した。得られた密7度ハ344g / c c
で平均粒径は2.0μmであった。
流中で2050℃まで昇温後排気してArを導入し、2
時間焼結した。得られた密7度ハ344g / c c
で平均粒径は2.0μmであった。
強度試験結果は82 kg/ rtvA (室温) 、
80 kg/rtvA(1500℃)で、靭性値は
5PaA/mであった。
80 kg/rtvA(1500℃)で、靭性値は
5PaA/mであった。
実施例−6
各種条件をかえた場合の特性を第1表に示す。
第1表から明らかなように、本発明実施例においては、
いずれも高温強度が優れていることがわかる。
いずれも高温強度が優れていることがわかる。
試料Nα12は硼素量か少ないため密度が低く、強度に
劣る。試料NQ、13は脱酸工程(第2の工程をとらな
かったのであるが、炭素、酸素ともに多量に残留し、強
度に劣る。試料No、14は硼素を非晶質硼素粉の形で
添加したのであるが、密度が低く、強度に劣る。試料N
o、 15は炭素を非晶質炭素粉の形で添加したもので
あるが、密度が低く、強度に劣る。また試料No、16
は硼素量が多く、やはり強度に劣る。
劣る。試料NQ、13は脱酸工程(第2の工程をとらな
かったのであるが、炭素、酸素ともに多量に残留し、強
度に劣る。試料No、14は硼素を非晶質硼素粉の形で
添加したのであるが、密度が低く、強度に劣る。試料N
o、 15は炭素を非晶質炭素粉の形で添加したもので
あるが、密度が低く、強度に劣る。また試料No、16
は硼素量が多く、やはり強度に劣る。
本発明実施例において硼素0.03〜0.15重量%。
遊離炭素0.5重量%未満、酸素0.1重量%未満の場
合σ[’(1500’c)≧60kg/mIAと高温強
度に優れたものとなる。
合σ[’(1500’c)≧60kg/mIAと高温強
度に優れたものとなる。
又、耐酸化性及び耐食性について比較を行なった。第2
表から明らかなように本発明は耐酸化性。
表から明らかなように本発明は耐酸化性。
耐食性に優れている。
[発明の効果]
以上説明したように本発明による炭化珪素焼結体は、S
iC以外の成分であるB、Cが少なく、特に酸素量を少
なくしたことにより、高温まで機械的強度が劣化せず、
強靭な特質を示す。
iC以外の成分であるB、Cが少なく、特に酸素量を少
なくしたことにより、高温まで機械的強度が劣化せず、
強靭な特質を示す。
Claims (11)
- (1)硼素を0.03重量%以上含有し、硼素を含めた
金属元素が0.3重量%未満、遊離炭素1.0重量%未
満、遊離炭素以外の非金属元素0.15重量%未満、残
部実質的にSiCからなり、密度が3.10g/cm^
3以上であることを特徴とする炭化珪素焼結体。 - (2)非金属元素としての酸素が0.1重量%未満であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の炭化珪
素焼結体。 - (3)硼素が0.15重量%未満であることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の炭化珪素焼結体。 - (4)硼素が0.14重量%未満であることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の炭化珪素焼結体。 - (5)遊離炭素が0.5重量%未満であることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の炭化珪素焼結体。 - (6)焼結助剤として硼素を用いる炭化珪素焼結体の製
造方法において a)焼結前の昇温過程で分解し硼素を残留する溶媒可溶
性の硼素化合物と焼結前の昇温過程で分解し炭素を残留
する溶媒可溶性の炭素化合物とSiC粉末との混合物の
成形体を得る第1の工程;b)焼結開始温度未満であり
、炭素により SiC粉末中の酸素が除去される温度で前記成形体を保
持する第2の工程; c)真空又は不活性ガス雰囲気中で焼結する第3の工程
; を具備したことを特徴とする炭化珪素焼結体の製造方法
。 - (7)第2の工程を10^−^3torr以下の減圧下
で行なうことを特徴とする特許請求の範囲第6項記載の
炭化珪素焼結体の製造方法。 - (8)第2の工程では真空度が一旦低下した後、低下す
る前の真空度に回復するまで1450〜1550℃の温
度での保持を持続することを特徴とする特許請求の範囲
第6項記載の炭化珪素焼結体の製造方法。 - (9)第2の工程の後、焼結開始温度以下の昇温過程は
、N_2、H_2及びCOの少なくとも一種の雰囲気下
で行なうことを特徴とする特許請求の範囲第6項記載の
炭化珪素焼結体の製造方法。 - (10)第1の工程における添加炭素量はSiC粉末に
含有される酸素量の重量比で1.5〜3.0倍であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第6項記載の炭化珪素焼
結体の製造方法。 - (11)第1の工程における硼素化合物としてカルボラ
ン系を用いたことを特徴とする特許請求の範囲第6項記
載の炭化珪素焼結体の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61159773A JPH0784343B2 (ja) | 1986-07-09 | 1986-07-09 | 炭化珪素焼結体及びその製造方法 |
US06/903,141 US4853299A (en) | 1985-09-06 | 1986-09-03 | Silicon carbide sintered body and method of manufacturing the same |
DE3645097A DE3645097C2 (ja) | 1985-09-06 | 1986-09-05 | |
DE19863630369 DE3630369A1 (de) | 1985-09-06 | 1986-09-05 | Siliziumcarbid-sinterkoerper und verfahren zu seiner herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61159773A JPH0784343B2 (ja) | 1986-07-09 | 1986-07-09 | 炭化珪素焼結体及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6317258A true JPS6317258A (ja) | 1988-01-25 |
JPH0784343B2 JPH0784343B2 (ja) | 1995-09-13 |
Family
ID=15700948
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61159773A Expired - Fee Related JPH0784343B2 (ja) | 1985-09-06 | 1986-07-09 | 炭化珪素焼結体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0784343B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6360159A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-16 | 住友化学工業株式会社 | 高密度炭化ケイ素焼結体の製造方法 |
US6240733B1 (en) | 1998-11-23 | 2001-06-05 | Delphi Technologies, Inc. | Method for the diagnosis of an air conditioning system |
JP2017031034A (ja) * | 2015-08-06 | 2017-02-09 | 信越化学工業株式会社 | SiC単結晶の製造方法 |
WO2017022536A1 (ja) * | 2015-08-06 | 2017-02-09 | 信越化学工業株式会社 | SiC坩堝およびSiC焼結体ならびにSiC単結晶の製造方法 |
US9945047B2 (en) | 2013-12-06 | 2018-04-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for growing silicon carbide crystal |
-
1986
- 1986-07-09 JP JP61159773A patent/JPH0784343B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US9945047B2 (en) | 2013-12-06 | 2018-04-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for growing silicon carbide crystal |
US9951439B2 (en) | 2013-12-06 | 2018-04-24 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for growing silicon carbide crystal |
JP2017031034A (ja) * | 2015-08-06 | 2017-02-09 | 信越化学工業株式会社 | SiC単結晶の製造方法 |
WO2017022536A1 (ja) * | 2015-08-06 | 2017-02-09 | 信越化学工業株式会社 | SiC坩堝およびSiC焼結体ならびにSiC単結晶の製造方法 |
JP2017031036A (ja) * | 2015-08-06 | 2017-02-09 | 信越化学工業株式会社 | SiC坩堝およびSiC焼結体ならびにSiC単結晶の製造方法 |
WO2017022535A1 (ja) * | 2015-08-06 | 2017-02-09 | 信越化学工業株式会社 | SiC単結晶の製造方法 |
US11440849B2 (en) | 2015-08-06 | 2022-09-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | SiC crucible, SiC sintered body, and method of producing SiC single crystal |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0784343B2 (ja) | 1995-09-13 |
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