JPS6317249Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 この考案は半導体装置のペレツトマウント工程
に用いる製造装置に関するものである。

半導体装置製造におけるペレツトマウント装置
はスウイングアーム方式によるものが一般的で、
その一例を第１図及び第２図で説明すると１は半
導体ペレツト（以下単にペレツトと称す）、２は
複数のペレツト１を互いに離隔させてＸ−Ｙ方向
の格子状パターンで固着したシート、３はシート
２の周縁部を固定したリング、４はリング３を位
置決め固定するＸ−Ｙテーブルである。Ｘ−Ｙテ
ーブル４は水平なＸ方向及びＹ方向に間歇移動し
て個々のペレツト１をペレツト取出しの定ポジシ
ヨンＡに順次に送り込む。５は定ポジシヨンＡで
上下動してシート２からペレツト１を１個ずつ真
空吸着して引き剥す第１コレツト、６は第１コレ
ツト５を定ポジシヨンＡとペレツト位置決めの定
ポジシヨンＢの間を水平に揺動させる揺動アー
ム、７は定ポジシヨンＢに配置された中間ステー
ジ、８は中間ステージ７上に配置された４枚のペ
レツト位置決め用爪である。前記第１コレツト５
は定ポジシヨンＡでペレツト１を吸着して取出す
と定ポジシヨンＢまで揺動して下降し、中間ステ
ージ７上の中央部にペレツト１を供給する。する
と４枚の爪８が同時に内方へ移動して中間ステー
ジ７上の中央部のペレツト１を四方から挾んで位
置決めする。また９は中間ステージ７上で位置決
めされたペレツト１を真空吸着して取出して、ペ
レツトマウントの定ポジシヨンＣに運ぶ第２コレ
ツト、１０は第２コレツト９を定ポジシヨンＢと
定ポジシヨンＣの間を水平に移動させる揺動アー
ム、１１は定ポジシヨンＣで水平に間歇送りされ
るリードフレーム等の被ペレツトマウント物であ
る。前記各揺動アーム６，１０は例えば各々の末
端部が同一の駆動軸２４に固定され、各々は同期
して上下動及び左右揺動する。

即ち、第１コレツト５は定ポジシヨンＡで下降
して１個のペレツト１を吸着すると上昇してから
定ポジシヨンＢまで揺動して再び下降し、中間ス
テージ７上にペレツト１を供給すると上昇して再
び定ポジシヨンＡに戻る一連の動きを繰り返す。
一方、第２コレツト９は第１コレツト５が定ポジ
シヨンＡでペレツト１を吸着して上昇する時に中
間ステージ７上で位置決めされたペレツト１を吸
着して上昇し、第１コレツト５が定ポジシヨンＢ
に移動して中間ステージ７にペレツト１を供給す
る間に第２コレツト９は定ポジシヨンＣに移動し
て下降し、吸着したペレツト１をリードフレーム
等の被ペレツトマウント物１１上にマウントす
る。この第２コレツト９によるペレツトマウント
は被ペレツトマウント物１１上に予め供給されて
溶けた溶融半田１２上にペレツト１を載置するこ
とにより行われる。

ところで、このようなトランスフアーアーム方
式のペレツトマウント装置のインデツクスは主と
して各コレツト５，９の揺動ストロークの大きさ
で決まるが、この揺動ストロークはＸ−Ｙテーブ
ル４の水平方向の移動量を見込して決める必要が
あつて小さくするには限界があり、インデツクス
向上が難しい問題があつた。また、Ｘ−Ｙテーブ
ル４と中間ステージ７及び被ペレツトマウント物
１１を横方向に配列するため、装置全体の設置ス
ペースが大きくなつて大型化する傾向にあつた。

本考案はかかる問題点に鑑みてなされたもの
で、以下本考案の構成を図面の各実施例でもつて
順次説明する。

第３図の第１実施例において、１３は水平に間
歇送りされる被ペレツトマウント物１１の上方定
位置に配置された円筒状のホイール、１４はホイ
ール１３の上方に配置されたペレツト供給部であ
る。ホイール１３は第４図に示すように外周面に
ペレツト１が嵌まつて位置決めされる凹溝１５を
複数個等間隔で有し、各凹溝１５の底部にはホイ
ール１３の中心に向う真空吸着穴１６が形成され
ている。また、ホイール１３は定位置に固定され
た支軸１７の外周面に同心に嵌挿され、支軸１７
の回りを一方向に間歇回転する。前記支軸１７の
外周面には上部から下部にわたつて約180゜の中心
角を有する円弧状の溝１８が形成され、この溝１
８は支軸１７の中心に設けた真空吸引穴１９と連
通する。また支軸１７の溝１８はホイール１３の
内周面に開口する真空吸着穴１６の通過線上に形
成される。つまり、ホイール１３が回転して１つ
の真空吸着穴１６が支軸１７の上部にくると溝１
８と連通して、この上部位置から真空吸引が行わ
れる。この真空吸引は真空吸着穴１６が支軸１７
の下部位置に移動して溝１８から外れるまで続
く。またホイール１３の凹溝１５の深さはペレツ
ト１の厚さより若干小さく、ペレツト１を真空吸
着した時にペレツト１が凹溝１５より少し突出す
るようになす。またホイール１３と被ペレツトマ
ウント物１１との間隔は被ペレツトマウント物１
１上の溶融半田１２の厚さと凹溝１５からのペレ
ツト突出高さの合計より若干小さく設定する。

上記ペレツト供給部１４はホイール１３の回転
で最上位置にきた凹溝１５に１個のペレツト１を
供給する機構で、例えば第１図のＸ−Ｙテーブル
４を上下逆にしたものが使用される。この場合Ｘ
−Ｙテーブル４は中空のものが使用され、この中
空を利用してシート２の上方定位置に１本のツー
ル２０を上下動自在に配置する。またシート２の
透明性を利用してシート２の裏面（上面）からペ
レツト１の配列パターンをITVカメラ等で認識
させ、この認識信号によつてＸ−Ｙテーブル４を
間歇動させてペレツト１を１個ずつホイール１３
の最上位置の上方近傍に送り込む。

次に上記実施例によるペレツトマウント動作を
説明する。ホイール１３を１ピツチ回転させて１
つの空の凹溝１５をホイール１３の最上位置に送
ると同時に、Ｘ−Ｙテーブル４の間歇動で１つの
ペレツト１を前記凹溝１５の上方に送り込み、ツ
ール２０を下降させてペレツト１を最上位置の凹
溝１５に軽く押し付けてから再び定位置まで上昇
させる。すると最上位置の凹溝１５の真空吸着穴
１６は支軸１７の溝１８に通じているので、ペレ
ツト１はシート２から剥れて凹溝１５内に真空吸
着されて残る。以後、ホイール１３の１ピツチ回
転毎に上記動作を行つて凹溝１５，１５…にペレ
ツト１，１…を１個ずつ順次に供給する。一方、
ホイール１３の１ピツチ回転毎に被ペレツトマウ
ント物１１を１ピツチ送りする。そして、ペレツ
ト１を吸着した凹溝１５が最下位置にくる直前
で、この凹溝１５の真空吸着穴１６を支軸１７の
溝１８から外してペレツト１の真空吸着を止める
と同時にこのペレツト１を被ペレツトマウント物
１１上の溶融半田１２に押し付けて半田付けを行
う。

次に第５図及び第６図の第２実施例を説明する
と、第３図と同一符号は同一物を示し、異なるの
はペレツト供給部１４′のみである。このペレツ
ト供給部１４′は裏面に多数のペレツト１，１…
を一列に等間隔で接着した長尺なテープ２１をホ
イール１３の上方近傍に張設して長手方向に間歇
送りしながら、ツール２０でペレツト１を１個ず
つホイール１３の最上位置にきた凹溝１５に供給
する構成である。尚、２２はテープ２１が巻回さ
れたリール、２３はリール２２からテープ２１を
引き出す送りローラである。この第２実施例のペ
レツトマウント動作はペレツト供給方式が異なる
だけで、第１実施例と同様に行われ、詳細を略
す。

また第２実施例は被ペレツトマウント物１１の
複数箇所に複数のペレツト１，１…を同時にマウ
ントするバツチ式ペレツトマウント装置への応用
に適す。例えば第７図に示すように長尺な１本の
支軸１７′に複数のホイール１３，１３…を一定
の間隔で同軸的に嵌挿し、この各ホイール１３，
１３…に対応して複数のリール２２，２２…を平
行に配置して各リール２２，２２…からテープ２
１，２１…を各ホイール１３，１３…上方に送り
出す。また各ホイール１３，１３…の上方に夫々
ツール２０，２０…を上下動自在に配置してお
く。そして、一連の各ホイール１３，１３…の下
方でホイール並び方向に被ペレツトマウント物１
１を間歇送りする。このようにすると、簡単な構
造も而も設置スペースが小さな装置でバツチ式ペ
レツトマウントが可能となる。

尚、本考案は上記各実施例にのみ限定されるも
のではなく、例えばホイール１３の真空吸着穴１
６の選択的真空吸引は外部でコントロールするよ
うにしてもよい。

以上説明したように、本考案によればホイール
の１ピツチ回転毎にホイールへのペレツト供給、
及びホイールによる被ペレツトマウント物へのペ
レツトマウントが連続して行われるのでインデツ
クス的な動きの無駄が大幅に縮少されインデツク
ス向上が図れる。またペレツト供給とペレツトマ
ウントのポジシヨンがホイールの上下にくるの
で、装置全体の設置スペースの縮小化が図れ、小
型化が可能であり、またバツチ式ペレツトマウン
ト装置の実用化が容易になる。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は一般的ペレツトマウント装
置の概略側面図及び平面図、第３図は本考案の第
１実施例を示す一部断面概略側面図、第４図は第
３図のホイールの斜視図、第５図及び第６図は本
考案の第２実施例を示す概略側面図及び−線
に沿う断面図、第７図は第５図の応用例を説明す
るバツチ式ペレツトマウント装置の概略斜視図で
ある。 １……半導体ペレツト、１１……被ペレツトマ
ウント物、１３……ホイール、１４，１４′……
ペレツト供給部、１５……凹溝。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 半導体ペレツトを適宜位置決め吸着する凹溝を
   外周面に複数個有し、定位置で中心軸を中心に回
   転するホイールと、ホイール上方からホイールの
   回転と同期して前記凹溝に半導体ペレツトを１個
   ずつ供給するペレツト供給部とを具備し、ホイー
   ル下方でホイールの回転と同期して被ペレツトマ
   ウント物を間歇送りすると共に、ホイール下部の
   定ポジシヨンで半導体ペレツトをホイールから被
   ペレツトマウント物上に順次に供給してマウント
   するようにしたことを特徴とする半導体製造装
   置。