CN220543870U - 一种背光吸盘及曝光设备 - Google Patents
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Abstract
一种背光吸盘及曝光设备，所述曝光设备包括背光吸盘，所述背光吸盘包括吸盘主体，所述背光吸盘还包括背光源和吸盘垫，所述背光源容置于吸盘主体，所述吸盘垫覆盖所述吸盘主体，所述吸盘主体包括真空槽，所述真空槽划分为气体流通区和背光源容置区，所述背光源设置于背光源容置区。通过气体流通区支撑所述吸盘垫，保证空气流通，在背光源容置区放置背光源，使得工件边缘更加清晰，既保证了吸盘的平面度，真空吸附效果，同时实现了背光效果。
Description
技术领域
本发明涉及光伏产品加工领域，尤其是应用于光伏产品的背光吸盘及曝光设备。
背景技术
目前，在制作光伏电池片栅线时，主要采用银浆丝网印刷技术或者铜电镀工艺。银浆丝网印刷技术成本高，效率产能低，同时栅线的导电性及电池能效转换相对偏低，使得铜电镀工艺更受关注。
铜电镀工艺包括沉积种子层、图形化、铜电镀、后处理四大步骤，其中图形化是铜电镀工艺中比较重要的环节，采用曝光工艺在基底上生成图形。光伏电池片尺寸相比印刷电路板小很多，可以采用多片同时曝光的方式，对于没有标记点的光伏电池片，需要根据通过光伏电池片的轮廓进行定位，常规的应用于印刷电路板的吸盘，对位机构无法清晰的获取光伏电池片的轮廓。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种清晰获取工件轮廓的背光吸盘及曝光设备。
为了解决上述问题，本发明提供了一种背光吸盘，其包括吸盘主体，所述背光吸盘还包括背光源和吸盘垫，所述背光源容置于吸盘主体，所述吸盘垫为透明材质，覆盖所述吸盘主体，所述吸盘主体包括真空槽，所述真空槽划分为气体流通区和背光源容置区，所述背光源设置于背光源容置区。
进一步的，所述气体流通区设置多个凸块，相邻凸块之间具有间隙。
进一步的，所述凸块的高度高于所述背光源的高度。
进一步的，所述凸块规则排列。
进一步的，所述凸块呈行列布置。
进一步的，所述背光源为红外波段的光源。
进一步的，所述吸盘主体下方设置有吸盘连接板，位于吸盘中间位置。
进一步的，所述吸盘垫所述吸盘垫设置有多个吸孔，所述吸孔对应于背光源容置区及背光源容置区之间的气体流通区设置。
进一步的，所述背光源容置区和所述气体流通区间隔设置。
一种曝光设备，其包括基座、支撑架、运动机构、对位机构和曝光机构，所述支撑架和运动机构设置于所述基座，所述对位机构和所述曝光机构设置于所述支撑架，其特征在于：所述曝光设备上述的背光吸盘，所述背光吸盘设置于所述运动机构，所述运动机构带动所述背光吸盘，分别移动至所述对位机构和所述曝光机构。
与现有技术相比，所述背光吸盘划分为气体流通区和背光源容置区，通过气体流通区支撑所述吸盘垫，保证空气流通，在背光源容置区放置背光源，使得工件边缘更加清晰，既保证了吸盘的平面度，真空吸附效果，同时实现了背光效果。
附图说明
图1是背光吸盘的示意图。
图2是背光吸盘爆炸示意图。
图3是背光吸盘的吸盘主体示意图。
图4是曝光设备的示意图。
实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面通过附图中示出的具体实施例来描述本发明。
如图1-图3所示，为背光吸盘的一个实施例，所述背光吸盘包括吸盘主体1、背光源2和吸盘垫3，所述背光源2容置于吸盘主体1，所述吸盘垫3覆盖所述吸盘主体1。
所述吸盘主体1包括底板和与底板连接的侧壁，所述底板和侧壁构成真空槽10，所述真空槽10划分为气体流通区11和背光源容置区12，所述气体流通区11设置多个凸块110，支撑所述吸盘垫3。较佳的，多个凸块110规则排列，如呈行列布置，保证强度及气体流通。相邻凸块110之间具有间隙111，为气体流通的通道。所述背光源容置区12用于收容背光源2，所述凸块110的高度高于所述背光源2的高度。所述气体流通区11和所述背光源容置区12间隔设置，通过所述气体流通区的凸块更好的支撑吸盘垫，保证吸盘垫的平面度。
所述吸盘垫3设置有多个吸孔30，所述吸孔30对应于背光源容置区12及背光源容置区之间的气体流通区11设置，所述工件放置于吸孔30所在区域。所述吸盘垫3为透明材质，如玻璃。
所述背光源2较佳的采用红外波段的光源，所述背光源2可以穿透干膜，避免通过对位机构获取工件位置信息时，工件上涂覆的干膜对获取工件轮廓的影响。
所述吸盘主体1下方设置有吸盘连接板4，所述吸盘连接板4位于吸盘主体1的中间位置，用于支撑所述吸盘主体1，保证吸盘的平面度，尤其是对于大尺寸吸盘，更好的保证吸盘的平面度。
所述吸盘主体1下方设置有与吸真空设备连接的连通件5。对于大尺寸吸盘，所述连通件可以设置多个，如：在所述背光源容置区各设置一个。
工件放置于所述吸盘垫3，吸真空设备对背光吸盘进行吸真空操作，使得工件吸附于吸盘垫。开启所述背光光源，使得工件轮廓更加清晰，通过对位机构获取工件轮廓，获得工件的位置信息。
所述背光吸盘在金属的吸盘本体中开槽，嵌入背光光源，采用透明材质的吸盘垫，这样极大的降低了成本，同时也提高了吸盘本身的精度，实现了真空吸附效果，也实现了背光效果
如图4所示，为应用所述背光吸盘的曝光设备，所述曝光设备包括基座200、支撑架300、运动机构400、背光吸盘500、对位机构600和曝光机构700。所述支撑架300和运动机构400设置于所述基座200，所述对位机构600和所述曝光机构700设置于所述支撑架300，所述背光吸盘500设置于所述运动机构400，所述运动机构400带动所述背光吸盘500，分别移动至所述对位机构600和所述曝光机构700，所述对位机构600获取工件的位置信息，所述曝光机构700根据所述对位机构600获取的工件的位置信心进行曝光。所述对位机构600包括至少一对位相机，所述曝光机构700包括多个曝光镜头，所述曝光镜头包含数字微镜阵列，通过控制所述数字微镜阵列获得曝光图形。
曝光设备对工件进行加工时，首先将多个工件放置于背光吸盘500的相应位置，开启吸真空设备，将工件吸附于背光吸盘500，同时开启背光吸盘的背光光源，运动机构400带动所述背光吸盘500匀速运动到曝光位置，再匀速运动的过程中，所述背光吸盘500匀速运动通过所述对位机构600，所述对位机构600对位于背光吸盘的工件进行拍照对位，根据所述对位机构600的对位结果，关闭背光光源，控制所述曝光机构700对工件进行曝光操作。
Claims (8)
1.一种背光吸盘，其包括吸盘主体，其特征在于：所述背光吸盘还包括背光源和吸盘垫，所述背光源容置于吸盘主体，所述吸盘垫为透明材质，覆盖所述吸盘主体，所述吸盘主体包括真空槽，所述真空槽划分为气体流通区和背光源容置区，所述背光源设置于背光源容置区，所述背光源容置区和所述气体流通区间隔设置，所述气体流通区设置多个凸块，相邻凸块之间具有间隙，所述凸块支撑所述吸盘垫。
2.根据权利要求1所述的背光吸盘，其特征在于：所述凸块的高度高于所述背光源的高度。
3.根据权利要求1所述的背光吸盘，其特征在于：所述凸块规则排列。
4.根据权利要求1所述的背光吸盘，其特征在于：所述凸块呈行列布置。
5.根据权利要求1所述的背光吸盘，其特征在于：所述背光源为红外波段的光源。
6.根据权利要求1所述的背光吸盘，其特征在于：所述吸盘主体下方设置有吸盘连接板，位于吸盘中间位置。
7.根据权利要求1所述的背光吸盘，其特征在于：所述吸盘垫所述吸盘垫设置有多个吸孔，所述吸孔对应于背光源容置区及背光源容置区之间的气体流通区设置。
8.一种曝光设备，其包括基座、支撑架、运动机构、对位机构和曝光机构，所述支撑架和运动机构设置于所述基座，所述对位机构和所述曝光机构设置于所述支撑架，其特征在于：所述曝光设备还包括权利要求1-7所述的任一背光吸盘，所述背光吸盘设置于所述运动机构，所述运动机构带动所述背光吸盘，分别移动至所述对位机构和所述曝光机构。
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