JPS63166888A - テトラアルコキシシランの製造方法 - Google Patents
テトラアルコキシシランの製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical class [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 claims abstract description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 claims abstract 3
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 26
- -1 alicyclic hydrocarbon Chemical class 0.000 abstract description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 abstract description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 abstract 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 abstract 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 description 30
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 8
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 6
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- QWUWMCYKGHVNAV-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydrostilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1CCC1=CC=CC=C1 QWUWMCYKGHVNAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNLZIZAQLLYXTC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(C)C(C)=CC=C21 QNLZIZAQLLYXTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 1-methylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CC=CC2=C1 QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N butylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1 OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- RZJRJXONCZWCBN-UHFFFAOYSA-N octadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC RZJRJXONCZWCBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- CPRMKOQKXYSDML-UHFFFAOYSA-M rubidium hydroxide Chemical compound [OH-].[Rb+] CPRMKOQKXYSDML-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N strontium oxide Chemical compound [O-2].[Sr+2] IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N tetradecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VIDOPANCAUPXNH-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC(CC)=C1CC VIDOPANCAUPXNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTPPZZQMHSLCST-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-tripropylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(CCC)=C(CCC)C(CCC)=CC2=C1 FTPPZZQMHSLCST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSSNQXJVTQOUMV-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibenzyl-3,4-dimethylbenzene Chemical group C=1C=CC=CC=1CC1=C(C)C(C)=CC=C1CC1=CC=CC=C1 WSSNQXJVTQOUMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKQYSCBUFZOAPE-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibenzyl-3-methylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC=1C(C)=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 PKQYSCBUFZOAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJECKFZULSWXPN-UHFFFAOYSA-N 1,2-didodecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1CCCCCCCCCCCC WJECKFZULSWXPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUCHLIAGHZJJER-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(CC)C(CC)=CC=C21 UUCHLIAGHZJJER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLPFBVXTEJUIIT-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylanthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=C(C)C(C)=CC=C3C=C21 PLPFBVXTEJUIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXTWDIPAGFPHCA-UHFFFAOYSA-N 1,2-dipropylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(CCC)C(CCC)=CC=C21 KXTWDIPAGFPHCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZNJSFHJUQDYHE-UHFFFAOYSA-N 1-methylanthracene Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(C)=CC=CC3=CC2=C1 KZNJSFHJUQDYHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMAMGXMFMCAOPV-UHFFFAOYSA-N 1-propylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(CCC)=CC=CC2=C1 HMAMGXMFMCAOPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSTXJOFRULEXOV-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butylanthracene Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(C(C)(C)C)=CC=CC3=CC2=C1 NSTXJOFRULEXOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-(2-fluorophenyl)ethanol Chemical compound NCC(O)C1=CC=CC=C1F MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- ALYPXXSQGNDYAH-UHFFFAOYSA-N CO[SiH](OC)OC1CCCCC1 Chemical compound CO[SiH](OC)OC1CCCCC1 ALYPXXSQGNDYAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000283986 Lepus Species 0.000 description 1
- 239000011398 Portland cement Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M caesium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Cs+] HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N caesium oxide Chemical compound [O-2].[Cs+].[Cs+] KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001942 caesium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003889 chemical engineering Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930007927 cymene Natural products 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N dodecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRBGKYYWDBAQQ-UHFFFAOYSA-N dodecylcyclohexane Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1CCCCC1 BLRBGKYYWDBAQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000012388 gravitational sedimentation Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUWFEBAXEOLKSG-UHFFFAOYSA-N hexamethylbenzene Chemical compound CC1=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C YUWFEBAXEOLKSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N lithium oxide Chemical compound [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001947 lithium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940038384 octadecane Drugs 0.000 description 1
- HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N p-cymene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1 HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 125000005575 polycyclic aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N potassium oxide Chemical compound [O-2].[K+].[K+] CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 229910001952 rubidium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- CWBWCLMMHLCMAM-UHFFFAOYSA-M rubidium(1+);hydroxide Chemical compound [OH-].[Rb+].[Rb+] CWBWCLMMHLCMAM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- UUCCCPNEFXQJEL-UHFFFAOYSA-L strontium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Sr+2] UUCCCPNEFXQJEL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001866 strontium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DCFYRBLFVWYBIJ-UHFFFAOYSA-M tetraoctylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCCCCCCC[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC DCFYRBLFVWYBIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- UCSBCWBHZLSFGC-UHFFFAOYSA-N tributoxysilane Chemical compound CCCCO[SiH](OCCCC)OCCCC UCSBCWBHZLSFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZVJFEBNNXRSMY-UHFFFAOYSA-N tributyl tributoxysilyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)O[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC PZVJFEBNNXRSMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBFRIFLOBVAOCD-UHFFFAOYSA-N trioctylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCCCCCCC[NH+](CCCCCCCC)CCCCCCCC JBFRIFLOBVAOCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQTYRTSKQFQYPQ-UHFFFAOYSA-N trisiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH2]O[SiH3] ZQTYRTSKQFQYPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はテトラアルコキシシランの製造法に関する。詳
しくは、触媒の存在下にトリアルコキシ7ランと低級ア
ルコールを反応させて、テトラアルコキシシランを製造
する方法に関する。
しくは、触媒の存在下にトリアルコキシ7ランと低級ア
ルコールを反応させて、テトラアルコキシシランを製造
する方法に関する。
テトラアルコキシシランの製造法としては、下記(1)
式のように、テトラクロルシランと低級アルコールを反
応させる方法が知られている。
式のように、テトラクロルシランと低級アルコールを反
応させる方法が知られている。
日1014 +4’ROH−81(OR)4 +uTI
QL (1)(式中、ROHは脂肪族低級アル
コールを示す。)この方法によれば、目的とするテトラ
アルコキシシランのほかに、塩酸が副生ずる。塩酸は反
応生成物からの分離回収が困難で、反応装置などの機器
を腐食させるばかシでなく、生成したテトラアルコキシ
シランの一部を分解するので、プロセス上好ましくない
。
QL (1)(式中、ROHは脂肪族低級アル
コールを示す。)この方法によれば、目的とするテトラ
アルコキシシランのほかに、塩酸が副生ずる。塩酸は反
応生成物からの分離回収が困難で、反応装置などの機器
を腐食させるばかシでなく、生成したテトラアルコキシ
シランの一部を分解するので、プロセス上好ましくない
。
一方、テトラアルコキシ7ランの他の製造法として、下
記(2)式のように、金属ケイ素と低級アルコールを反
応させる方法も知られている。
記(2)式のように、金属ケイ素と低級アルコールを反
応させる方法も知られている。
S1+参I’jOH−一81(OR)4+ JHり
(2)この反応のための触媒としては、アルカリアル
コレート等の塩基触媒(例えば特開昭52−/、2/3
3)と塩化鋼等の銅触媒(例えば特公昭j0−3弘!3
/)が知られている。塩基触媒を使用する場合の問題は
、十分な反応速度を確保するために、多量の触媒を必要
とすることである。従って、触媒費や触媒の回収に要す
るプロセス上の負担は決して軽微ではない。他方、銅触
媒を使った反応では主としてトリアルコキシシランが生
成しテトラアルコキシシランを高選択率で得る之めには
、反応を密閉系で実施し。
(2)この反応のための触媒としては、アルカリアル
コレート等の塩基触媒(例えば特開昭52−/、2/3
3)と塩化鋼等の銅触媒(例えば特公昭j0−3弘!3
/)が知られている。塩基触媒を使用する場合の問題は
、十分な反応速度を確保するために、多量の触媒を必要
とすることである。従って、触媒費や触媒の回収に要す
るプロセス上の負担は決して軽微ではない。他方、銅触
媒を使った反応では主としてトリアルコキシシランが生
成しテトラアルコキシシランを高選択率で得る之めには
、反応を密閉系で実施し。
十分な接触時間をとる必要がある。通常、この反応には
100℃以上の反応温度が必要なので、必然的にかなり
の高圧反応になるという欠点がある。
100℃以上の反応温度が必要なので、必然的にかなり
の高圧反応になるという欠点がある。
本発明者らは、以上の事実に鑑み、テトラアルコキシシ
ランを合理的な手法で経済的に有利に製造する方法につ
いて研究した結果、トリアルコキシシランと低級アルコ
ールとを特定の触媒の存在下反応させると、穏和な条件
下に高収率でテトラアルコキシシランを製造することが
可能であることを見出した。すなわち本発明はトリアル
コキシシランを出発原料とするテトラアルコキシシラン
の工業的有利な製造方法の提供を目的とするものである
。
ランを合理的な手法で経済的に有利に製造する方法につ
いて研究した結果、トリアルコキシシランと低級アルコ
ールとを特定の触媒の存在下反応させると、穏和な条件
下に高収率でテトラアルコキシシランを製造することが
可能であることを見出した。すなわち本発明はトリアル
コキシシランを出発原料とするテトラアルコキシシラン
の工業的有利な製造方法の提供を目的とするものである
。
本発明の要旨はアルカリ金属の酸化物および水酸化物、
アルカリ土類金属の酸化物および水酸化物並びに水酸化
アンモニウム類から選ばれる少くとも1種の化合物の存
在下、トリアルコキシ7ランと低級アルコールを反応さ
せることを特徴とするテトラアルコキシシランの製造方
法に存する。
アルカリ土類金属の酸化物および水酸化物並びに水酸化
アンモニウム類から選ばれる少くとも1種の化合物の存
在下、トリアルコキシ7ランと低級アルコールを反応さ
せることを特徴とするテトラアルコキシシランの製造方
法に存する。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明方法で使用されるトリアルコキシシランは下記一
般式(1)で示される。
般式(1)で示される。
H8i (ORs ) (OR2) (ORB)
(1)式中s R1、’l、R3は同一でも異
なっていても良く炭素数7〜乙の脂肪族または脂環族の
炭化水素基である。トリアルコキシシランの具体的な例
としては、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、
トリ1−プロポキシシラン、トリn−ブトキシシラン、
メトキシジェトキシシラン、ジメトキシモノシクロへキ
シルオキシシラン等が挙げられる。トリアルコキシシラ
/は例えばケイ素とアルコールを銅触媒の存在下穏和な
粂件で反応させることにより得られる。
(1)式中s R1、’l、R3は同一でも異
なっていても良く炭素数7〜乙の脂肪族または脂環族の
炭化水素基である。トリアルコキシシランの具体的な例
としては、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、
トリ1−プロポキシシラン、トリn−ブトキシシラン、
メトキシジェトキシシラン、ジメトキシモノシクロへキ
シルオキシシラン等が挙げられる。トリアルコキシシラ
/は例えばケイ素とアルコールを銅触媒の存在下穏和な
粂件で反応させることにより得られる。
本発明方法で使用される低級アルコールは一般式(2)
で示されるところの炭素数/〜≦の脂肪族低級アルコー
ルである。
で示されるところの炭素数/〜≦の脂肪族低級アルコー
ルである。
R,OH(2)
その具体例としては、メタノール、エタノール、n−プ
ロパツール、i−プロパツール、111−フタノール、
1−ブタノール、5ee−ブタノール、to公t−ブタ
ノール、n−ペンタノール、1−ペンタノールおよびシ
クロヘキサノール等である。
ロパツール、i−プロパツール、111−フタノール、
1−ブタノール、5ee−ブタノール、to公t−ブタ
ノール、n−ペンタノール、1−ペンタノールおよびシ
クロヘキサノール等である。
低級アルコールの使用量はトリアルコキシシラン1モル
に対して0001〜104モル、好ましくは7〜100
モルの範囲から選択される。
に対して0001〜104モル、好ましくは7〜100
モルの範囲から選択される。
テトラアルコキシシランを製造する反応は一般式(3)
で示される。
で示される。
Tlal(oRl)(ou、)(op、) +R,oH
−−→5t(oR,)(ou、)(oR,)(ou、)
+ H倉 (3)なお、この反応のほかに、トリ
アルコキシシランと低級アルコール、あるいは生成した
テトラアルコキシシランと低級アルコールとの間のアル
コキシ基の交換反応が併発することもあり得ると推測さ
れる。
−−→5t(oR,)(ou、)(oR,)(ou、)
+ H倉 (3)なお、この反応のほかに、トリ
アルコキシシランと低級アルコール、あるいは生成した
テトラアルコキシシランと低級アルコールとの間のアル
コキシ基の交換反応が併発することもあり得ると推測さ
れる。
本発明の触媒として用いられるアルカリ金属の酸化物と
しては、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム
、酸化ルビジウム、および酸化セシウム等が挙げられる
。アルカリ金属の水酸化物としては、水酸化リチウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジウム
、および水酸化セシウム等が挙げられる。
しては、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム
、酸化ルビジウム、および酸化セシウム等が挙げられる
。アルカリ金属の水酸化物としては、水酸化リチウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジウム
、および水酸化セシウム等が挙げられる。
アルカリ土類金属の酸化物としては、酸化マグネシウム
、酸化カルシウム、酸化バリウム、および酸化ストロン
チウム等が挙げられる。アルカリ土類金属の水酸化物と
しては、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸
化バリウム、および水酸化ストロンチウム等が挙げられ
る。
、酸化カルシウム、酸化バリウム、および酸化ストロン
チウム等が挙げられる。アルカリ土類金属の水酸化物と
しては、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸
化バリウム、および水酸化ストロンチウム等が挙げられ
る。
水酸化アンモニウム類の例としては、水酸化アンモニウ
ム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエ
チルアンモニウム、水酸化f トラ(n−ブチル)アン
モニウム、水酸化テトラ(n−オクチル)アンモニウム
、水酸化メチルトリス(ドデシル)アンモニウム、およ
び水酸化トリ(n−オクチル)アンモニウム等が挙げら
れる。以上の酸化物あるいは水酸化物はそれ自身単独の
形でも、またシリカ、アルミナ、活性炭等の好適な担体
上に担持した形のいずれでも使用可能である。これ等の
酸化物あるいは水酸化物の使用量はトリアルコキシシラ
ン1モルに対して10−6〜10モル、好ましくはlo
−4〜10−1モルの範囲から選択される。
ム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエ
チルアンモニウム、水酸化f トラ(n−ブチル)アン
モニウム、水酸化テトラ(n−オクチル)アンモニウム
、水酸化メチルトリス(ドデシル)アンモニウム、およ
び水酸化トリ(n−オクチル)アンモニウム等が挙げら
れる。以上の酸化物あるいは水酸化物はそれ自身単独の
形でも、またシリカ、アルミナ、活性炭等の好適な担体
上に担持した形のいずれでも使用可能である。これ等の
酸化物あるいは水酸化物の使用量はトリアルコキシシラ
ン1モルに対して10−6〜10モル、好ましくはlo
−4〜10−1モルの範囲から選択される。
本発明方法においては、反応溶媒の使用は必須ではない
が、反応を円滑に実施するために、溶媒を使用すること
が好ましい。溶媒の具体例としては、クメン、n−ブチ
ルベンゼン、シメン、ヘキサメチルベンゼン、トリエチ
ルベンゼン、ドデシルベンゼン、ジドデシルベンゼン、
ビフェニル、ターフェニル等の置換ベンゼン類、ナフタ
レン、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、ジエチ
ルナフタレン、プロピルナフタレン、ジプロピルナフタ
レン、トリプロピルナフタレン、アントラセン、メチル
アントラセン、ジメチルアントラセン、t−ブチルアン
トラセン等の無置換および置換の多環芳香族炭化水素類
、 n−デカン、ドデカン、テトラデカン、オクタデカン、
流動n−パラフィン、イソパラフィン、ドデシルシクロ
ヘキサン、ジシクロヘキシル、トリシクロヘキシル等の
脂肪族炭化水素類、ジフェニルメタン、トリフェニルメ
タン、≠半生*−−−4ジトリルメタン、ベンジルトル
エン、ジベンジルトルエン、ジベンジルキシレン、ジフ
ェニルエタン、lJフェニルエタン等ノアリジーアルカ
ン類、 ジフェニルエーテル、シヘンy−//−クラ’)ツー≦
、ジシクロへキシル−7/−クラウン−4等のエーテル
類、 ヘキサ(n−ブトキシ)ジシロキサン、オクタ(n−プ
ロポキシ)トリシロキサン、ヘプタメトキシジェトキシ
テトラシロキサン、ドデカメトキシペンタシロキサン等
が挙げられる。
が、反応を円滑に実施するために、溶媒を使用すること
が好ましい。溶媒の具体例としては、クメン、n−ブチ
ルベンゼン、シメン、ヘキサメチルベンゼン、トリエチ
ルベンゼン、ドデシルベンゼン、ジドデシルベンゼン、
ビフェニル、ターフェニル等の置換ベンゼン類、ナフタ
レン、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、ジエチ
ルナフタレン、プロピルナフタレン、ジプロピルナフタ
レン、トリプロピルナフタレン、アントラセン、メチル
アントラセン、ジメチルアントラセン、t−ブチルアン
トラセン等の無置換および置換の多環芳香族炭化水素類
、 n−デカン、ドデカン、テトラデカン、オクタデカン、
流動n−パラフィン、イソパラフィン、ドデシルシクロ
ヘキサン、ジシクロヘキシル、トリシクロヘキシル等の
脂肪族炭化水素類、ジフェニルメタン、トリフェニルメ
タン、≠半生*−−−4ジトリルメタン、ベンジルトル
エン、ジベンジルトルエン、ジベンジルキシレン、ジフ
ェニルエタン、lJフェニルエタン等ノアリジーアルカ
ン類、 ジフェニルエーテル、シヘンy−//−クラ’)ツー≦
、ジシクロへキシル−7/−クラウン−4等のエーテル
類、 ヘキサ(n−ブトキシ)ジシロキサン、オクタ(n−プ
ロポキシ)トリシロキサン、ヘプタメトキシジェトキシ
テトラシロキサン、ドデカメトキシペンタシロキサン等
が挙げられる。
溶媒の使用量は、必ずしも限定されるものではないが、
溶媒中のアルコキシシランの容積百分率が、通常/〜9
5%、好ましくは!〜roチの範囲となる青が採用され
る。
溶媒中のアルコキシシランの容積百分率が、通常/〜9
5%、好ましくは!〜roチの範囲となる青が採用され
る。
本発明方法の反応は、液相系で回分的あるいは連続的に
実施される0回分法は密閉形式でも、或いはまた、生成
アルコキシシラン類の一部を反応経過中に反応帯域外に
とシ出す方式を含む開放形式のいずれでも実施可能であ
る。特に固体触媒あるいは担体担持触媒を用いて液相懸
濁方式、あるいは固定床又は流動床方式で反応を行なう
ことが好ましい。反応圧力はQ、0/〜200 atm
の中の任意の条件が選ばれるが、反応経過中にアルコキ
シシラン類を反応帯域外にとり出す九めには、反応圧力
を比較的低く設定することが望ましい。好ましい反応圧
力は0.05〜コθatm 、更に好ましくは0.7〜
!atmの範囲である。反応温度は一10〜300℃、
好ましくは一70〜/θO℃の範囲から選択される。
実施される0回分法は密閉形式でも、或いはまた、生成
アルコキシシラン類の一部を反応経過中に反応帯域外に
とシ出す方式を含む開放形式のいずれでも実施可能であ
る。特に固体触媒あるいは担体担持触媒を用いて液相懸
濁方式、あるいは固定床又は流動床方式で反応を行なう
ことが好ましい。反応圧力はQ、0/〜200 atm
の中の任意の条件が選ばれるが、反応経過中にアルコキ
シシラン類を反応帯域外にとり出す九めには、反応圧力
を比較的低く設定することが望ましい。好ましい反応圧
力は0.05〜コθatm 、更に好ましくは0.7〜
!atmの範囲である。反応温度は一10〜300℃、
好ましくは一70〜/θO℃の範囲から選択される。
また、プロセスを円滑にすすめる目的で、不活性気体を
通じながら反応を行なうことが可能である。不活性気体
の具体的例としては、窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ア
ルゴン、および水素等が挙げられる。不活性気体の使用
量は、とくに限定されないが、通常は反応帯域の液相部
と気相部の合計容積を基準として、その平均滞留時間が
o、oθ0/〜10kxr、好ましくはθ、00/〜o
、o s hrの範囲である。
通じながら反応を行なうことが可能である。不活性気体
の具体的例としては、窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ア
ルゴン、および水素等が挙げられる。不活性気体の使用
量は、とくに限定されないが、通常は反応帯域の液相部
と気相部の合計容積を基準として、その平均滞留時間が
o、oθ0/〜10kxr、好ましくはθ、00/〜o
、o s hrの範囲である。
反応終了後、要すれば反応液中よりテトラアルコキシシ
ランを回収する。回収方法は、特に限定されるものでは
なく慣用技術が採用され、例えば反応液を蒸留すること
により行なわれる。
ランを回収する。回収方法は、特に限定されるものでは
なく慣用技術が採用され、例えば反応液を蒸留すること
により行なわれる。
同様に必要あれば未反応原料、溶媒、触媒を夫夫回収し
、再使用することができる。触媒の回取決も特に限定さ
れるものではないが、例えばテトラアルコキシシラン、
未反応原料を留去し九後、沈降法や濾過法によ少溶媒と
触媒を容易に分離することができる。
、再使用することができる。触媒の回取決も特に限定さ
れるものではないが、例えばテトラアルコキシシラン、
未反応原料を留去し九後、沈降法や濾過法によ少溶媒と
触媒を容易に分離することができる。
沈降法および濾過法の実際操作に関してはとくに限定さ
れるものではなく、例えば、光武量著「化学工学」、産
業図書、/り≦参年、?−〜///頁に記述されるとこ
ろの公知の重力沈降法、遠心沈降法、ならびK濾過法が
採用可能である。重力沈降法の具体例としては沈降濃縮
槽法(Th1ckener )等が挙げられる。遠心沈
降法の具体例としては、円筒型遠心沈降機法(5har
ples !3upercentrifuge )、分
離板型遠心沈降機法(Delaval Centrif
uge )、および沈澱分離機法(Decanter
)等が挙げられる。−適法の具体例としては、重カテ過
器法(GrPvity Filter )。
れるものではなく、例えば、光武量著「化学工学」、産
業図書、/り≦参年、?−〜///頁に記述されるとこ
ろの公知の重力沈降法、遠心沈降法、ならびK濾過法が
採用可能である。重力沈降法の具体例としては沈降濃縮
槽法(Th1ckener )等が挙げられる。遠心沈
降法の具体例としては、円筒型遠心沈降機法(5har
ples !3upercentrifuge )、分
離板型遠心沈降機法(Delaval Centrif
uge )、および沈澱分離機法(Decanter
)等が挙げられる。−適法の具体例としては、重カテ過
器法(GrPvity Filter )。
圧戸器法(Filtar Press )、葉状p過器
法(Leaf Filter )、オリバー−過器法(
011verFilter )、アメリカン濾過器法(
AmericanFilter )、ドルコテ過器法(
Dorrco Filter )、バード・ヤングp過
器法(Bird −Yong IFilter )、プ
レコート・カッティング法(Preaoat −Cut
tingFilter )、遠心濾過機法(Centr
ifugal Filter )等が挙げられる。以上
の諸法により分離された触媒成分は、そのi!ま、ある
いは所望によシ所定の活性化操作等を経た後に、テトラ
アルコキシシラン類を合成する工程に再循環することが
可能である。
法(Leaf Filter )、オリバー−過器法(
011verFilter )、アメリカン濾過器法(
AmericanFilter )、ドルコテ過器法(
Dorrco Filter )、バード・ヤングp過
器法(Bird −Yong IFilter )、プ
レコート・カッティング法(Preaoat −Cut
tingFilter )、遠心濾過機法(Centr
ifugal Filter )等が挙げられる。以上
の諸法により分離された触媒成分は、そのi!ま、ある
いは所望によシ所定の活性化操作等を経た後に、テトラ
アルコキシシラン類を合成する工程に再循環することが
可能である。
以下に1本発明を実施例によシ具体的に説明するが、本
発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定さ
れるものではない。
発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定さ
れるものではない。
実施例/
流出口を備えた直径/、0 (m長さ30(Mの円筒型
固定床反応器に粒状酸化カルシウム(j?〜キシシラン
および未反応メタノールを捕集できる受器を備えた。
固定床反応器に粒状酸化カルシウム(j?〜キシシラン
および未反応メタノールを捕集できる受器を備えた。
反応器下部より、メタノール参弘、4重11%、トリメ
トキシシラン参へ♂重量%およびテトラメトキシシラン
/J、6重景チの混合液を導入した。導入速度は3θC
C/時で一定とした。
トキシシラン参へ♂重量%およびテトラメトキシシラン
/J、6重景チの混合液を導入した。導入速度は3θC
C/時で一定とした。
5時間経過した時点で混合液の導入を停止し、さらに3
0分間反応させ九。反応後流出液および反応器内残留換
金てをガスクロマトグラフィーによって分析した。その
結果、未反応トリメトキシシランは全く認められず、テ
トラメトキシシラン量は/3.弘?であった。仕込テト
ラメトキシシランに対して、6j、りを増加したことが
確認された。
0分間反応させ九。反応後流出液および反応器内残留換
金てをガスクロマトグラフィーによって分析した。その
結果、未反応トリメトキシシランは全く認められず、テ
トラメトキシシラン量は/3.弘?であった。仕込テト
ラメトキシシランに対して、6j、りを増加したことが
確認された。
実施例−
酸化カルシウムのかわりに炭酸ナトリウムを使用した以
外は、実施例1と全く同様に反応を行った。
外は、実施例1と全く同様に反応を行った。
その結果、未反応トリメトキシシランは全く認められず
、テトラメトキシシラン量はr i、Jfであった。
、テトラメトキシシラン量はr i、Jfであった。
実施例3
水酸化バリウム(/水塩)70部、ポルトランドセメン
トココ、5部、タルク7、j部および水を直径2隼長さ
/硼に押出成型し、乾燥した触媒/、Ofを酸化カルシ
ウムのかわりに使用した以外は実施例1と全く同様に反
応を行った。
トココ、5部、タルク7、j部および水を直径2隼長さ
/硼に押出成型し、乾燥した触媒/、Ofを酸化カルシ
ウムのかわりに使用した以外は実施例1と全く同様に反
応を行った。
その結果、未反応トリメトキシシランは全く認められず
、テトラメトキシシラン量は?0.22であった。
、テトラメトキシシラン量は?0.22であった。
実施例弘
混合液導入管、還流器および温度計を備えた/lJつ口
丸底フラスコに触媒として酸化カルシウム粉末(tsO
メツシュ以下)fiOfおよびメタノール5ocxを仕
込んだ。
丸底フラスコに触媒として酸化カルシウム粉末(tsO
メツシュ以下)fiOfおよびメタノール5ocxを仕
込んだ。
混合液導入管よシ、メタノール弘≠、ご重量%、トリメ
トキシシラン≠/、?重量慢およびテトラメトキシシラ
ン/3.6重量%の混合液を導入した。導入速度は10
Occ/時で一定とした。
トキシシラン≠/、?重量慢およびテトラメトキシシラ
ン/3.6重量%の混合液を導入した。導入速度は10
Occ/時で一定とした。
5時間経過した時点で混合液の導入を停止し、さらに3
0分間反応させた。
0分間反応させた。
次に3時間静置し、デカンテーション法によって反応液
と触媒成分を分離した。触媒成分は5ocx、のメタノ
ールによって一回洗浄し、洗浄液は反応液と合わせた。
と触媒成分を分離した。触媒成分は5ocx、のメタノ
ールによって一回洗浄し、洗浄液は反応液と合わせた。
ガスクロマトグラフ傘型を使用して、反応液を分析した
ところ、未反応のトリメトキシシランは全く検出されな
かった。テトラメトキシシラン量は277.911であ
り、仕込テトラメトキシシランに対して2/り、弘?増
加した。
ところ、未反応のトリメトキシシランは全く検出されな
かった。テトラメトキシシラン量は277.911であ
り、仕込テトラメトキシシランに対して2/り、弘?増
加した。
実施例j
実施例参と全く同様に反応させた。ただし、反応後3時
間静置した後、ガラス製濾過器(G−≠フィルター)を
使用して、触媒成分と反応液を分離し念。触媒は5oc
tのメタノールを用いて一回洗浄し、洗浄液は反応液と
合わせた。
間静置した後、ガラス製濾過器(G−≠フィルター)を
使用して、触媒成分と反応液を分離し念。触媒は5oc
tのメタノールを用いて一回洗浄し、洗浄液は反応液と
合わせた。
次にガスクロマトグラフィーで分析した結果。
未反応のトリメトキシシランは全く検出されなかった。
テトラメトキシシラン量は27♂、0?であった。
実施例6
実施例!で回収した触媒成分を酸化カルシウムの代りに
使用した以外は実施例参と全く同様に反応を行った。反
応後の分析結果は、未反応のトリメトキシシランは全く
検出されず、テトラメトキシシラン量2 r O,Of
を示した。
使用した以外は実施例参と全く同様に反応を行った。反
応後の分析結果は、未反応のトリメトキシシランは全く
検出されず、テトラメトキシシラン量2 r O,Of
を示した。
本発明はトリアルコキシシランを原料とし特定の触媒を
用いてテトラアルコキシシランを製造することによって
、温和な条件で収率よくテトラアルコキシシランを製造
することができる。
用いてテトラアルコキシシランを製造することによって
、温和な条件で収率よくテトラアルコキシシランを製造
することができる。
出 願 人 三菱化成工業株式会社
代 理 人 弁理士 長谷用 −ほか/名
Claims (1)
- (1)アルカリ金属の酸化物、および水酸化物、アルカ
リ土類金属の酸化物、および水酸化物、並びに水酸化ア
ンモニウム類から選ばれる少くとも1種の化合物の存在
下に、トリアルコキシシランと低級脂肪族アルコールを
反応させることを特徴とするテトラアルコキシシランの
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61310113A JPH0723384B2 (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 | テトラアルコキシシランの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61310113A JPH0723384B2 (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 | テトラアルコキシシランの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63166888A true JPS63166888A (ja) | 1988-07-11 |
JPH0723384B2 JPH0723384B2 (ja) | 1995-03-15 |
Family
ID=18001333
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61310113A Expired - Lifetime JPH0723384B2 (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 | テトラアルコキシシランの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0723384B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19990085368A (ko) * | 1998-05-16 | 1999-12-06 | 이종학 | 테트라알콕시실란의 제조방법 |
JPWO2019131600A1 (ja) * | 2017-12-27 | 2020-12-24 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 酸化カルシウムを用いるテトラアルコキシシランの製造方法 |
CN112280038A (zh) * | 2020-10-28 | 2021-01-29 | 廉江市政业新材料有限公司 | 一种烷氧基硅烷产品中杂质的转化方法 |
JP2021193104A (ja) * | 2016-02-22 | 2021-12-23 | カリフォルニア インスティチュート オブ テクノロジー | 新規な安定性シリル化試薬 |
-
1986
- 1986-12-29 JP JP61310113A patent/JPH0723384B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19990085368A (ko) * | 1998-05-16 | 1999-12-06 | 이종학 | 테트라알콕시실란의 제조방법 |
JP2021193104A (ja) * | 2016-02-22 | 2021-12-23 | カリフォルニア インスティチュート オブ テクノロジー | 新規な安定性シリル化試薬 |
JPWO2019131600A1 (ja) * | 2017-12-27 | 2020-12-24 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 酸化カルシウムを用いるテトラアルコキシシランの製造方法 |
CN112280038A (zh) * | 2020-10-28 | 2021-01-29 | 廉江市政业新材料有限公司 | 一种烷氧基硅烷产品中杂质的转化方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0723384B2 (ja) | 1995-03-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |