JPS63165738A - 透明基板用欠陥検査装置 - Google Patents

透明基板用欠陥検査装置

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JPS63165738A
JPS63165738A JP30930986A JP30930986A JPS63165738A JP S63165738 A JPS63165738 A JP S63165738A JP 30930986 A JP30930986 A JP 30930986A JP 30930986 A JP30930986 A JP 30930986A JP S63165738 A JPS63165738 A JP S63165738A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
flaw
transparent substrate
defect
laser beam
Prior art date
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Pending
Application number
JP30930986A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenji Asaka
健二 浅香
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP30930986A priority Critical patent/JPS63165738A/ja
Publication of JPS63165738A publication Critical patent/JPS63165738A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/958Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明はフォトマスク、カラーフィルタ、フラットディ
スプレイ等に用いられるガラスもしくは光学プラスラッ
クなど透明性を有する基板の欠陥検査装置に関する。
(従来の技術) 従来より、シュリーレン光学系を用いて透明性を有する
基板を目視で観察し、該基板内部の脈理、クランク、異
物、キズなどの欠陥の検査を行う手段、または透過暗視
野照明による顕微鏡観察によって基板の内部欠陥の検出
を行う手段、あるいは反射暗視野照明による顕微鏡観察
によって基板の表面のキズの検出を行う手段が知られて
いる。
(発明が解決しようとする問題点) 上記の従来の技術によれば、検査用の照明光を被検査基
板の平面より照射するため、該照明光の通過したところ
全ての欠陥(屈折率変化、異物、キズなと)が検出され
ることになり、被検査基板の内部の欠陥もしくは該基板
の表面の欠陥と該基板の表面の付着物とを分離した検査
ができないという問題点がある。
そこで本発明は透明性を有する基板の内部の欠陥と該基
板の表面の欠陥もしくは付着物とを分離して検査するこ
との出来る欠陥検査装置の提供を目的とする。
〔発明の構成〕
(問題点を解決するための手段) 透明性を有する基板の側面より該基板の平面に対して垂
直方向に帯状に拡がりのある光を該基板の内部に照射す
る光照射手段と、該基板の内部で散乱した欠陥光を検出
する欠陥光検出手段とを具備した装置を構成し、該基板
の内部もしくは表面の欠陥と該基板の表面の付着物とを
分離して検査できることを見出し、上記の問題点を解決
したものである。
(作用) 本発明によれば、透明性を有する基板の側面より前記帯
状に拡がりのある光を該基板の内部に投射すると、この
光は該基板の内部において全反射して伝播するため、該
基板の内部の欠陥により散乱した光のみが該基板の平面
より検出されるという作用がある。
(実施例) 本発明を図示する実施例に基づいて、さらにに詳しく説
明する。
第1図は本発明の透明基板用欠陥検査装置の実施例の概
要を示す構成図である。同図において、3はレーザ発振
器、4はレーザ発振器3からのレーザ光、2はレーザ光
4を帯状に拡げるためのシリンドリカルレンズ、1は検
査対象の透明基板、8は透明基板1を所定の位置に固定
し移動させるためのX−Yステージ、9は透明基板lの
内部もしくは表面の欠陥により散乱した欠陥光を検出す
るためのTVカメラ、10はTVカメラ9からの映像信
号TSを処理するための画像処理装置、11は画像処理
装置lOからの画像信号PSを表示するためのモニタ装
置である。
こうして第1図に示した実施例の動作内容を説明すると
、まず、レーザ発振器3より発せられたレーザ光4はシ
リンドリカルレンズ1を介して透明基板1の平面に対し
て垂直方向に帯状に拡がりのあるレーザ光に変換されて
透明基板1に投射される。また、x−yステージ8をレ
ーザ光4の照射方向と直行方向に順次移動させることに
より前記帯状に拡がりのあるレーザ光は透明基板1の全
体に投射される。そして、前記帯状に拡がりのあるレー
ザ光の伝播路の中に欠陥が存在すると、この欠陥により
散乱された欠陥光のみが透明基板1の平面より放出され
る。このようにして得られた前記欠陥光はTV(テレビ
ジョン)カメラ1によって撮像され映像信号TSに変換
されて画像処理装置10に入力される0画像処理装置1
0では映像信号TSのディジタル化された映像信号TS
に対応する画像データの画像メモリ装置への記憶、該画
像データに対するノイズ除去、二値化処理あるいは輪郭
協調などの画像処理が必要に応じて施される0画像処理
して得られた画像信号PSをモニタ装置11に入力され
、前記透明基板1の内部もしくは表面に存在する全ての
欠陥に対応する欠陥像がモニタ装置11より映しだされ
る。
以上のような構成により、透明基板1の内部もしくは表
面の欠陥を透明基板1の全面にわたって均等な検出感度
で検査することができ、検査工程の作業効率の向上に寄
与するという効果がある。
第2図は本発明の欠陥検査の原理を説明するために透明
基板用欠陥検査装置の光照射手段および透明基板lの平
面に対して垂直方向に帯状に拡がりのあるレーザ光の投
射された状態を示す側面図である。同図において、3は
レーザ発振器、4はレーザ発振器3からのレーザ光、2
はレーザ光4を透明基板1の平面に対して垂直方向に帯
状に拡げるためのシリンドリカルレンズ、2aはシリン
ドリカルレンズ2の平坦部、2bはシリンドリカルレン
ズ2の湾曲部、1は検査対象の透明基板、laは透明基
板lの側面部、lb、lcは透明基板lの平面部、5は
透明基板1の異物欠陥、6は透明基板1のキズ欠陥、7
は透明基板lの泡欠陥、20は透明基板lの表面に付着
した塵埃を示す。
同図において、まず、レーザ発振器3からのレーザ光4
はシリンドリカルレンズ2の湾曲部2bに入射され平坦
部2aより帯状に拡がりのある光に変換されて、透明基
板1の側面部1bに投射される。そして、透明基板lの
側面部1bに投射された光は平面部1b、lcの基板内
面で全反射して透明基板1の内部を伝播する。
この時、透明基板lの表面に塵埃20が付着していても
前記伝播による光は何等の影響も受けない、ところが、
透明基板lに例えば図示のような異物欠陥5、キズ欠陥
6、泡欠陥7が存在すると、これらの欠陥によって前記
伝播による光が散乱し、この散乱した光(以下、欠陥光
という、)の一部が透明基板lの平面部1b(またはI
c)より外部に放射する。この外部に放射した光を捉え
ることにより透明基板1の前記欠陥のみが検出される。
なお、シリンドリカルレンズ2の平坦部2aと透明基板
1の側面部1bとを離して配置した構成のものを示した
が、シリンドリカルレンズ2の平坦部2aと透明基板1
の側面部1bとは接触するように配置してもよい。
〔発明の効果] 本発明によれば透明性を有する基板の内部もしくは表面
の欠陥と該基板の表面の付着物とを分離して検査できる
という効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の透明基板用欠陥検査装置の実施例の概
要を示す構成図、第2図は本発明の欠陥検査の原理を説
明するために示した透明基板用欠陥検査装置の光照射手
段および透明基板の側面図である。 1・・・透明基板 2・・・シリンドリカルレンズ 3・・・レーザ発振器 4・・・レーザ光 5・・・異物欠陥 6・・・キズ欠陥 7・・・泡欠陥 8・・・X−Yステージ 9・・・TVカメラ 10・・・画像処理装置 11・・・モニタ装置 TS・・・映像信号 ps・・・画像信号 20・・・塵埃

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 透明性を有する基板の内部もしくは表面の欠陥と該基板
    の表面の付着物とを分離して検査する装置であって、該
    基板の平面に対して垂直方向に帯状に拡がりのある光を
    該基板の側面より該基板の内部に照射する光照射手段と
    、該基板の内部で散乱した欠陥光を検出する欠陥光検出
    手段とを具備したことを特徴とする透明基板用欠陥検査
    装置。
JP30930986A 1986-12-27 1986-12-27 透明基板用欠陥検査装置 Pending JPS63165738A (ja)

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JP30930986A JPS63165738A (ja) 1986-12-27 1986-12-27 透明基板用欠陥検査装置

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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11337496A (ja) * 1998-03-24 1999-12-10 Ngk Insulators Ltd 透明体の欠陥検出方法及び透明体の製造方法
JP2001201462A (ja) * 2000-01-20 2001-07-27 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 透明材料または透明材料で包まれた物体の検査装置及び検査方法
JP2002340804A (ja) * 2002-02-15 2002-11-27 Sumitomo Heavy Ind Ltd マークの観察方法及び観察装置
KR20040034003A (ko) * 2002-10-16 2004-04-28 주식회사 고영테크놀러지 기판 모듈 검사 장치
JP2004150971A (ja) * 2002-10-31 2004-05-27 Nitto Denko Corp フィルムの検査方法および検査装置
JP2004309481A (ja) * 2003-04-04 2004-11-04 Carl-Zeiss-Stiftung 透明材料中の欠陥の検出方法及び装置
JP2006214917A (ja) * 2005-02-04 2006-08-17 Sharp Corp 基板の欠陥検出方法および欠陥検出装置
WO2010079771A1 (ja) * 2009-01-09 2010-07-15 Hoya株式会社 マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び露光用フォトマスクの製造方法
JP2010160450A (ja) * 2009-01-09 2010-07-22 Hoya Corp マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び露光用フォトマスクの製造方法
JP2010175655A (ja) * 2009-01-27 2010-08-12 Hoya Corp マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び露光用フォトマスクの製造方法
JP2012181135A (ja) * 2011-03-02 2012-09-20 Kobelco Kaken:Kk 内部欠陥検査装置および内部欠陥検査方法

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11337496A (ja) * 1998-03-24 1999-12-10 Ngk Insulators Ltd 透明体の欠陥検出方法及び透明体の製造方法
JP2001201462A (ja) * 2000-01-20 2001-07-27 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 透明材料または透明材料で包まれた物体の検査装置及び検査方法
JP2002340804A (ja) * 2002-02-15 2002-11-27 Sumitomo Heavy Ind Ltd マークの観察方法及び観察装置
KR20040034003A (ko) * 2002-10-16 2004-04-28 주식회사 고영테크놀러지 기판 모듈 검사 장치
JP2004150971A (ja) * 2002-10-31 2004-05-27 Nitto Denko Corp フィルムの検査方法および検査装置
JP2012037538A (ja) * 2003-04-04 2012-02-23 Schott Ag 透明材料中の欠陥の検出
JP2004309481A (ja) * 2003-04-04 2004-11-04 Carl-Zeiss-Stiftung 透明材料中の欠陥の検出方法及び装置
JP2006214917A (ja) * 2005-02-04 2006-08-17 Sharp Corp 基板の欠陥検出方法および欠陥検出装置
JP2010160450A (ja) * 2009-01-09 2010-07-22 Hoya Corp マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び露光用フォトマスクの製造方法
KR20110119689A (ko) * 2009-01-09 2011-11-02 호야 가부시키가이샤 마스크 블랭크용 글래스 기판의 제조 방법, 마스크 블랭크의 제조 방법 및 노광용 포토마스크의 제조 방법
WO2010079771A1 (ja) * 2009-01-09 2010-07-15 Hoya株式会社 マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び露光用フォトマスクの製造方法
TWI461831B (zh) * 2009-01-09 2014-11-21 Hoya Corp 光罩基底用玻璃基板之製造方法、光罩基底之製造方法及曝光用光罩之製造方法
JP2010175655A (ja) * 2009-01-27 2010-08-12 Hoya Corp マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び露光用フォトマスクの製造方法
JP2012181135A (ja) * 2011-03-02 2012-09-20 Kobelco Kaken:Kk 内部欠陥検査装置および内部欠陥検査方法

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