JPS63161509A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPS63161509A JPS63161509A JP31061186A JP31061186A JPS63161509A JP S63161509 A JPS63161509 A JP S63161509A JP 31061186 A JP31061186 A JP 31061186A JP 31061186 A JP31061186 A JP 31061186A JP S63161509 A JPS63161509 A JP S63161509A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、非磁性セラミックス部材と磁性フェライト部
材との接合を、拡散接合してなる磁気ヘッドに関するも
のである。
材との接合を、拡散接合してなる磁気ヘッドに関するも
のである。
近年OA装置の急速な普及にともない、例えばフロッピ
ーディスク装置など需要が大幅に拡大している。この種
の磁気ヘッド装置においては、磁気記録密度を向上させ
ることが極めて強く要望されており、その一手段として
狭トラツク化することが考えられるが、そのためにはヘ
ッド組立品の各コアの厚みを薄くする必要がある。しか
しこの場合、接合部分も小さくなるために、機械的強度
の減少等ヘッド組立品の信頼性の面での問題、又被接合
部品が小型化するために扱いにくくなるなど取扱い面で
の問題など種々問題がある。
ーディスク装置など需要が大幅に拡大している。この種
の磁気ヘッド装置においては、磁気記録密度を向上させ
ることが極めて強く要望されており、その一手段として
狭トラツク化することが考えられるが、そのためにはヘ
ッド組立品の各コアの厚みを薄くする必要がある。しか
しこの場合、接合部分も小さくなるために、機械的強度
の減少等ヘッド組立品の信頼性の面での問題、又被接合
部品が小型化するために扱いにくくなるなど取扱い面で
の問題など種々問題がある。
第1図に記録再生用磁気ヘッドと消去用磁気ヘッドを一
体化した構造の従来組立品の展開図を示す。同図におい
て、Aは一対の磁性フェライトコアlb、3bをガラス
を用い接合し、さらに補強板として非磁性セラミックス
コア2bをガラスを用い接合してなる記録再生用磁気へ
ラドコアである。Bは一対の磁性フェライトコアla、
3a ; lc、3cをガラスを用い接合し、補強板と
して非磁性セラミックスコア2a。
体化した構造の従来組立品の展開図を示す。同図におい
て、Aは一対の磁性フェライトコアlb、3bをガラス
を用い接合し、さらに補強板として非磁性セラミックス
コア2bをガラスを用い接合してなる記録再生用磁気へ
ラドコアである。Bは一対の磁性フェライトコアla、
3a ; lc、3cをガラスを用い接合し、補強板と
して非磁性セラミックスコア2a。
2cを各々ガラスで接合してなる消去用磁気へラドコア
である。
である。
この様に磁気ヘッド自体の構造が複雑な上に。
各コアをガラスで接合するということから、ヘッド組立
品の信頼性あるいは組立価格の面で問題がある。特に各
コアをガラスで接合する場合。
品の信頼性あるいは組立価格の面で問題がある。特に各
コアをガラスで接合する場合。
その接合層にガラスのない部分、すなわちボイドが発生
するという問題がある。これはヘッド性能の向上による
高密度記録化または多機能化が進む上で非常に問題とな
るものであり、このような磁気ヘッドの接合部分のガラ
スにボイドが存在すると、記録再生時の摺動に際し磁粉
がボイドに入る。またはガラスクラックの起点になるな
どの問題があった。そこで本発明は上記従来技術の欠点
を解消した磁気ヘッドを提供せんとするものである。
するという問題がある。これはヘッド性能の向上による
高密度記録化または多機能化が進む上で非常に問題とな
るものであり、このような磁気ヘッドの接合部分のガラ
スにボイドが存在すると、記録再生時の摺動に際し磁粉
がボイドに入る。またはガラスクラックの起点になるな
どの問題があった。そこで本発明は上記従来技術の欠点
を解消した磁気ヘッドを提供せんとするものである。
上記目的を達成するため1本発明者らは第1図における
記録再生用磁気ヘッドAおよび消去用磁気ヘッドBにお
いて、特に非磁性セラミックス部材と磁性フェライト部
材の接7合部分の検討を種々行った結果1両部材の接合
予定面のうちいずれか一方または両方に、両部材と反応
し液相を生成する化合物をあらかじめスパッター法、蒸
着法等の薄膜形成法により膜を形成または塗布しておき
、その後接合面同士を接触させ加熱処理を行うものであ
る。すなわち、加熱することにより、化合物が両部材と
反応し薄い液相を生成する。そしてこの液相が両部材の
結晶粒子を溶かしこむことによって両部材の各成分イオ
ンを拡散移動させ接合するものである。この方法により
接合すれば、両部材の直接的な同相反応による拡散接合
に比べ、接合速度が速く。
記録再生用磁気ヘッドAおよび消去用磁気ヘッドBにお
いて、特に非磁性セラミックス部材と磁性フェライト部
材の接7合部分の検討を種々行った結果1両部材の接合
予定面のうちいずれか一方または両方に、両部材と反応
し液相を生成する化合物をあらかじめスパッター法、蒸
着法等の薄膜形成法により膜を形成または塗布しておき
、その後接合面同士を接触させ加熱処理を行うものであ
る。すなわち、加熱することにより、化合物が両部材と
反応し薄い液相を生成する。そしてこの液相が両部材の
結晶粒子を溶かしこむことによって両部材の各成分イオ
ンを拡散移動させ接合するものである。この方法により
接合すれば、両部材の直接的な同相反応による拡散接合
に比べ、接合速度が速く。
しかも接合界面にボイドがない良好な接合部材が得られ
ることを見出したものである。ここで液相成分として本
発明者らが種々検討を加えた結果、 Ca、 Zr、
Snt Na、 Si、 Pb、 Cu。
ることを見出したものである。ここで液相成分として本
発明者らが種々検討を加えた結果、 Ca、 Zr、
Snt Na、 Si、 Pb、 Cu。
V、Cr、Ba、Mgの酸化物のうち少なくとも1種以
上が非磁性セラミックス部材と磁性フェライト部材の接
合面にあれば、液相が生成されることがわかった。
上が非磁性セラミックス部材と磁性フェライト部材の接
合面にあれば、液相が生成されることがわかった。
本発明に使用される非磁性セラミック材としてはBaT
i0j、CaTi0.やスピネルのMg0−At、o3
. ホ)Ii7テライト(SiO,−2Mg0)などが
使用できる。また、磁性フェライト材としてはMnZn
系及びNiZn系のものが使用できる。
i0j、CaTi0.やスピネルのMg0−At、o3
. ホ)Ii7テライト(SiO,−2Mg0)などが
使用できる。また、磁性フェライト材としてはMnZn
系及びNiZn系のものが使用できる。
さらに、薄膜の厚みは、薄すぎると接合温度を上げるか
または保持時間を長くするかの処理をしなければならず
、逆に厚すぎる場合は接合界面が直線的でなくなるため
、−薄膜の厚みとしては両部材合わせて100λ以上、
4μm程度以下が望ましい。
または保持時間を長くするかの処理をしなければならず
、逆に厚すぎる場合は接合界面が直線的でなくなるため
、−薄膜の厚みとしては両部材合わせて100λ以上、
4μm程度以下が望ましい。
以下1本発明を実施例により詳しく説明する。
実施例I
Tie、を90@oL%、BaOをIQ+mo1%。
A1.03を数vt%含む非磁性セラミックスコアとN
iO18mo1%、 ZnO33mo1%、 Fe20
349■o1%からなるNi−Znフェライトコアを1
0 wm X 30 wm X 3 tに切断後、接合
面とする1 0 wa X 30 ttmの片面をGC
#2500砥粒で荒研磨した後、1μmダイヤモンド砥
粒にて鏡面ラップ仕上げをした。この鏡面に仕上げた面
にスパッター法によりAr雰囲気中でCaO。
iO18mo1%、 ZnO33mo1%、 Fe20
349■o1%からなるNi−Znフェライトコアを1
0 wm X 30 wm X 3 tに切断後、接合
面とする1 0 wa X 30 ttmの片面をGC
#2500砥粒で荒研磨した後、1μmダイヤモンド砥
粒にて鏡面ラップ仕上げをした。この鏡面に仕上げた面
にスパッター法によりAr雰囲気中でCaO。
ZrO,SnO,、Na、O,,5in2.PbO。
Cub、V、O,、Cr、O,、Bad、MgOの薄膜
を各々1μmの厚みで形成した。次に両コアを治具によ
り約2瞳/■2の圧力で圧接して空気中で1220℃、
保持0.5〜4時間加熱処理した。また、比較のため、
上記化合物をスパッターしていない上記両部材について
も、同条件で作成した。得られた試料のほぼ中央部を切
断し1面仕上げをして接合面状態を調べた。その結果1
本発明のCab、ZrO,SnO,。
を各々1μmの厚みで形成した。次に両コアを治具によ
り約2瞳/■2の圧力で圧接して空気中で1220℃、
保持0.5〜4時間加熱処理した。また、比較のため、
上記化合物をスパッターしていない上記両部材について
も、同条件で作成した。得られた試料のほぼ中央部を切
断し1面仕上げをして接合面状態を調べた。その結果1
本発明のCab、ZrO,SnO,。
Na、O,、Sin、、PbO,Cub、VzOs*c
r20.t Bad、MgOをスパッターした試料は、
保持時間が0.5時間ですでに接合層にボイドがなく、
接合界面は直線的であり、良好な接合部材が得られた。
r20.t Bad、MgOをスパッターした試料は、
保持時間が0.5時間ですでに接合層にボイドがなく、
接合界面は直線的であり、良好な接合部材が得られた。
これに対し、化合物をスバッターしなかった試料は、保
持時間が0.5時間では接合面にボイドが点在し、部分
的にしか接合されなかった。ただ保持を 1.5時間以
上行えば、ボイドは全くなく、良好な接合部材が得られ
た。また両部材接合予定面のうちいずれか一方にスパッ
ターしても、あるいは塗布しても同様の効果があった。
持時間が0.5時間では接合面にボイドが点在し、部分
的にしか接合されなかった。ただ保持を 1.5時間以
上行えば、ボイドは全くなく、良好な接合部材が得られ
た。また両部材接合予定面のうちいずれか一方にスパッ
ターしても、あるいは塗布しても同様の効果があった。
実施例2
実施例1で使用したものと同じ非磁性セラミックスコア
とMn025mo1%、Zn020mo1%。
とMn025mo1%、Zn020mo1%。
Fe、O355mo1%からなるMn−Znフェライト
コアを前記実施例1と同様の方法で鏡面ラップ仕上げし
た。この鏡面にCab、CuOの各々を100人〜4.
2μmの厚みにてスパッターし、治具により両コアを圧
接保持してN 2 ff囲気中で1000℃、保持0.
5時間にて加熱処理した。得られた試料のほぼ中央部を
切断し、鏡面仕上げを行い接合状態を調べた。結果を第
1表に示す。表でO印は接合面にボイドがない場合。
コアを前記実施例1と同様の方法で鏡面ラップ仕上げし
た。この鏡面にCab、CuOの各々を100人〜4.
2μmの厚みにてスパッターし、治具により両コアを圧
接保持してN 2 ff囲気中で1000℃、保持0.
5時間にて加熱処理した。得られた試料のほぼ中央部を
切断し、鏡面仕上げを行い接合状態を調べた。結果を第
1表に示す。表でO印は接合面にボイドがない場合。
Δ印は接合面にボイドが点在している場合を示す。
第1表
表から明らかなように、薄膜の厚みを100Å以上にし
、接合すれば良好な接合面を得られることが知れた。し
かしながら、膜厚が4.2μmの試料は、接合面にボイ
ドは存在していないが、接合界面がやや直線性にかけて
いることが知れた。よって膜の厚みとしては、100Å
以上4μm程度以下が良い。
、接合すれば良好な接合面を得られることが知れた。し
かしながら、膜厚が4.2μmの試料は、接合面にボイ
ドは存在していないが、接合界面がやや直線性にかけて
いることが知れた。よって膜の厚みとしては、100Å
以上4μm程度以下が良い。
二種類の金属酸化物の組み合せとしては、Ca Oと5
in2.BaOとCaO,BaOとMgOなどが適当で
ある。
in2.BaOとCaO,BaOとMgOなどが適当で
ある。
実施例3
実施例2で使用したものと同じ材質の
BaTiO3非磁性セラミック材と M n Z nフ
ェライト材を、各々長さ2.8mで断面が5 、5 r
m X063mとなるように加工し、その接合面にCa
OとSiO□の混合物を300人の厚さにスパッターし
て付着させた。この加工片をスパッター面同志を対向さ
せて、圧接接着保持(2,2kg / nvn2) シ
、窒素雰囲気中で1000℃に加熱し、1時隔保持して
、CaOとSio2を非磁性セラミック材とMnZnフ
ェライト材と反応させて、液相拡散させた。
ェライト材を、各々長さ2.8mで断面が5 、5 r
m X063mとなるように加工し、その接合面にCa
OとSiO□の混合物を300人の厚さにスパッターし
て付着させた。この加工片をスパッター面同志を対向さ
せて、圧接接着保持(2,2kg / nvn2) シ
、窒素雰囲気中で1000℃に加熱し、1時隔保持して
、CaOとSio2を非磁性セラミック材とMnZnフ
ェライト材と反応させて、液相拡散させた。
同様な大きさで、同じ材質をした別の非磁性セラミック
材とMnZnフェライト材について、その接合面にガラ
スをスパッターして、それを圧着保持し1通常のガラス
接合温度で加熱接合した。
材とMnZnフェライト材について、その接合面にガラ
スをスパッターして、それを圧着保持し1通常のガラス
接合温度で加熱接合した。
これらの試験片(5,6mco長さで断面5.5mX0
.3nyn)の両端を支持して、中央部に荷重をかけて
破断させたところ、本発明によるものは1.5kg、ガ
ラス接合によるものは1.2kgであった。
.3nyn)の両端を支持して、中央部に荷重をかけて
破断させたところ、本発明によるものは1.5kg、ガ
ラス接合によるものは1.2kgであった。
以上の説明から明らかなように、本発明によ九ば接合面
にボイドがなく、強度的にも充分良好で、しかも非磁性
セラミックス部材と磁性フェライト部材との直接的な同
相反応による拡散接合比べてその接合速度が速いことか
ら、信頼性の高い磁気ヘッドを工業的に量産でき、その
工業上の効果は極めて大きい。
にボイドがなく、強度的にも充分良好で、しかも非磁性
セラミックス部材と磁性フェライト部材との直接的な同
相反応による拡散接合比べてその接合速度が速いことか
ら、信頼性の高い磁気ヘッドを工業的に量産でき、その
工業上の効果は極めて大きい。
第1図は、磁気ヘッドの展開図である。
la、lb、lc二磁性フェライトコア、2a、2b、
2c:非磁性セラミックスコア(補強板)、 3a、 3b、 3c :磁性フェライトコア。 第 1 目 昭和 年 月 日 1、事件の表示 昭和61年特許願第310611号 2、発明の名称 磁気ヘッド 3、補正をする者 事件との関係 特 許 出願人 性 所 東京都千代田区丸の内磁丁目1番2号名称
(508)日立金属株式会社 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 (1)明細書の「発明の詳細な説明の欄」の第10頁第
8行目の「接合比べて」を「接合に比べて」に訂正する
。 以上
2c:非磁性セラミックスコア(補強板)、 3a、 3b、 3c :磁性フェライトコア。 第 1 目 昭和 年 月 日 1、事件の表示 昭和61年特許願第310611号 2、発明の名称 磁気ヘッド 3、補正をする者 事件との関係 特 許 出願人 性 所 東京都千代田区丸の内磁丁目1番2号名称
(508)日立金属株式会社 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 (1)明細書の「発明の詳細な説明の欄」の第10頁第
8行目の「接合比べて」を「接合に比べて」に訂正する
。 以上
Claims (2)
- (1)非磁性セラミックス部材と磁性フェライト部材と
を接合してなる磁気ヘッドに関し、両部材接合面間に、
上記部材と反応し液相を生成する化合物の薄膜を形成し
て、接合したことを特徴とした磁気ヘッド。 - (2)前記液相成分として、Ca、Zr、Sn、Na、
Si、Pb、Cu、V、Cr、Ba、Mgの酸化物のう
ち1種、または2種以上用いたことを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31061186A JPS63161509A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31061186A JPS63161509A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63161509A true JPS63161509A (ja) | 1988-07-05 |
Family
ID=18007344
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31061186A Pending JPS63161509A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63161509A (ja) |
-
1986
- 1986-12-25 JP JP31061186A patent/JPS63161509A/ja active Pending
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