JPS63161025A - ポリシラン類及びその製造方法 - Google Patents
ポリシラン類及びその製造方法Info
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/60—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/56—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides
- C04B35/565—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides based on silicon carbide
- C04B35/571—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides based on silicon carbide obtained from Si-containing polymer precursors or organosilicon monomers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はポリシラン類の製造方法に関する。
ポリシラン類は長年にわたり知られており、種々のタイ
プの物質を包含する。既知のポリシラン類の例は線状パ
ーメチル化ポリシラン類、環状パーメチル化ポリシラン
類、枝分かれしたポリシラン類及び電型構造のパーメチ
ル化ポリシラン類である9メチル基と他の置換基例えば
水素置換基、ハロゲン置換基またはフェニル置換基の混
合置換基をもつポリシラン類並びにメチル以外の置換基
例えばフェニル基及びイソブチル基をもつポリシラン類
もまた既知である。また、水素原子のみが珪素原子上に
あるポリシラン類も既知である。ポリシラン分子の寸法
はジシランから互いに結合する多数の珪素原子をもつポ
リシラン類まで広範囲に変化させることができる。線状
ポリシラン類は通常鎖中に10個以下の珪素原子をもつ
が、一方、環状ポリシラン類及び多環式ポリシラン類は
しばしばより多数の珪素原子をもつ。
プの物質を包含する。既知のポリシラン類の例は線状パ
ーメチル化ポリシラン類、環状パーメチル化ポリシラン
類、枝分かれしたポリシラン類及び電型構造のパーメチ
ル化ポリシラン類である9メチル基と他の置換基例えば
水素置換基、ハロゲン置換基またはフェニル置換基の混
合置換基をもつポリシラン類並びにメチル以外の置換基
例えばフェニル基及びイソブチル基をもつポリシラン類
もまた既知である。また、水素原子のみが珪素原子上に
あるポリシラン類も既知である。ポリシラン分子の寸法
はジシランから互いに結合する多数の珪素原子をもつポ
リシラン類まで広範囲に変化させることができる。線状
ポリシラン類は通常鎖中に10個以下の珪素原子をもつ
が、一方、環状ポリシラン類及び多環式ポリシラン類は
しばしばより多数の珪素原子をもつ。
ポリシラン類は幾つかの方法により調製することができ
る。R初に発表された方法の1つはロツホー(Roch
ow)の米国特許第2,380,995号明細書に記載
されている方法であり、ジシラン類は金属珪素とハロゲ
ン化アルキルを特別な条件下で接触させることによって
製造された。環状ポリシラン類を製造するめなの最も一
般的な方法はジアルキルジハロシランのアルカリ金属に
よる還元縮合である。この方法は例えば米国特許第4,
052,430号明細書に記載されている。アルキルト
リハロシランが上述のような反応混合物中に含まれる場
合には、これらのシラン頚の共縮合物はある条件下で電
型構造のポリシラン類を形成することができる。ポリシ
ラン類を製造するための他の方法は低分子量ポリシラン
類を原料とするものであり、例えば英国特許2.(18
1,290号明細書に記載されているように低分子量ポ
リシラン類を無水条件下でグリニヤール試薬と反応させ
ることからなる。
る。R初に発表された方法の1つはロツホー(Roch
ow)の米国特許第2,380,995号明細書に記載
されている方法であり、ジシラン類は金属珪素とハロゲ
ン化アルキルを特別な条件下で接触させることによって
製造された。環状ポリシラン類を製造するめなの最も一
般的な方法はジアルキルジハロシランのアルカリ金属に
よる還元縮合である。この方法は例えば米国特許第4,
052,430号明細書に記載されている。アルキルト
リハロシランが上述のような反応混合物中に含まれる場
合には、これらのシラン頚の共縮合物はある条件下で電
型構造のポリシラン類を形成することができる。ポリシ
ラン類を製造するための他の方法は低分子量ポリシラン
類を原料とするものであり、例えば英国特許2.(18
1,290号明細書に記載されているように低分子量ポ
リシラン類を無水条件下でグリニヤール試薬と反応させ
ることからなる。
ポリシラン類の最も重要な用途の1つは炭化珪素用の先
駆体としてである。この用途に最も好適なポリシラン類
は可能な限り1に近い炭素原子/珪素原子比をもつポリ
シラン類である。この目的のために基型構造ポリシラン
類及び枝分かれしたポリシラン類を調製する。英国特許
第2,081,290号明細書は平均式[(CH3)2
S i](CH2S i)をもつポリシラン類であって
、(CH312S!=単位が0〜60モル%であり、C
Hj S i三単位が40〜100モル%であり、珪素
原子が他の珪素原子及び炭素原子数1〜4個の付加アル
キル基またはフェニル基と結合しているポリシラン類が
記載されている。これらのポリシラン類はクロロシラン
類の製造中に得られる直接法残渣中に存在するポリシラ
ン類をアルキルグリニヤール試薬またはアリールグリニ
ヤール試薬と反応させることにより調製される。しかし
、直接法残渣は純粋なものではなく、組成も一定ではな
い、英国特許第2,081,290号明細書に記載され
た方法によるポリシラン類の製法は直接法残渣を精製す
る特別な工程を包含する。
駆体としてである。この用途に最も好適なポリシラン類
は可能な限り1に近い炭素原子/珪素原子比をもつポリ
シラン類である。この目的のために基型構造ポリシラン
類及び枝分かれしたポリシラン類を調製する。英国特許
第2,081,290号明細書は平均式[(CH3)2
S i](CH2S i)をもつポリシラン類であって
、(CH312S!=単位が0〜60モル%であり、C
Hj S i三単位が40〜100モル%であり、珪素
原子が他の珪素原子及び炭素原子数1〜4個の付加アル
キル基またはフェニル基と結合しているポリシラン類が
記載されている。これらのポリシラン類はクロロシラン
類の製造中に得られる直接法残渣中に存在するポリシラ
ン類をアルキルグリニヤール試薬またはアリールグリニ
ヤール試薬と反応させることにより調製される。しかし
、直接法残渣は純粋なものではなく、組成も一定ではな
い、英国特許第2,081,290号明細書に記載され
た方法によるポリシラン類の製法は直接法残渣を精製す
る特別な工程を包含する。
英国特許第2,077.710号明細書はSiH,II
X=−J式中、Xはフッ素、塩素、臭素またはヨウ累で
あり、翔は1または2または3である)と試薬及び生成
物に対して不活性で且つポリシランが不溶性である液体
のサスペンション中のリチウムを反応させることからな
る概略組成−(SiHl)x (式中、Xは大きな数
値であり、nは1〜2である)をもつ未置換ポリシラン
の合成方法を記載且つ特許請求している。この反応を例
えば該明細書の記載に従って反復すると、一般式−(S
iHn)x−ではなく酸化されたシリコーン生成物が得
られた。
X=−J式中、Xはフッ素、塩素、臭素またはヨウ累で
あり、翔は1または2または3である)と試薬及び生成
物に対して不活性で且つポリシランが不溶性である液体
のサスペンション中のリチウムを反応させることからな
る概略組成−(SiHl)x (式中、Xは大きな数
値であり、nは1〜2である)をもつ未置換ポリシラン
の合成方法を記載且つ特許請求している。この反応を例
えば該明細書の記載に従って反復すると、一般式−(S
iHn)x−ではなく酸化されたシリコーン生成物が得
られた。
メチルトリハロシランとアルカリ金属の反応よりなる方
法による(CH) S i:: )n形態のポリシラン
類の製造方法は先行技術の方法より非常に容易であるこ
とを我々は今般見出した。また、同様の方法が一般式(
RS 1)n(式中、Rは炭素原子数1〜18個の炭化
水素を示す)で表されるポリシラン類の製造に好都合に
使用することができる。
法による(CH) S i:: )n形態のポリシラン
類の製造方法は先行技術の方法より非常に容易であるこ
とを我々は今般見出した。また、同様の方法が一般式(
RS 1)n(式中、Rは炭素原子数1〜18個の炭化
水素を示す)で表されるポリシラン類の製造に好都合に
使用することができる。
本発明は一般式R31Xz(式中、Rは炭素原子数1〜
18個をもつ炭化水素基であり、Xはハロゲン原子を表
す)で表される少なくとも1個のシランと該シランが可
溶性である有機液体媒体中のアルカリ金属を反応させる
工程よりなる一般式(RS 1)n(式中、Rはそれぞ
れ炭素原子数1〜18個分もつ炭化水素基であり、nは
少なくとも8である)で表されるポリシラン類の製造方
法を提供するにある。
18個をもつ炭化水素基であり、Xはハロゲン原子を表
す)で表される少なくとも1個のシランと該シランが可
溶性である有機液体媒体中のアルカリ金属を反応させる
工程よりなる一般式(RS 1)n(式中、Rはそれぞ
れ炭素原子数1〜18個分もつ炭化水素基であり、nは
少なくとも8である)で表されるポリシラン類の製造方
法を提供するにある。
他の面において、本発明は上述の方法により製造された
一般式(RS 1)n(式中、R及びnは上述と同意義
をもつ)で表されるポリシランを提供するにある。
一般式(RS 1)n(式中、R及びnは上述と同意義
をもつ)で表されるポリシランを提供するにある。
前記ポリシランの一般式において、Rは炭素原子数1〜
18個をもつアルキル基、アリール基、アルカリル基ま
たはアラルキル基であることが好ましい0本発明方法に
おいて、少なくとも1個のトリハロシランを有機液体媒
体中のアルカリ金属と反応させる0本発明に使用するこ
とができるトリハロシランは一般式R31Xs(式中、
Rは炭素原子数1〜18個のアルキル基、アリール基、
アルカリル基またはアラルキル基であり、Xはハロゲン
原子、好適にはClである)をもつ。R基の例はメチル
基、エチル基、イソブチル基、フェニル基、トリル基及
びフェニルエチル基である。これらのシランは業界にお
いて良く知られており、それらの多くが工業的に入手で
きる。該シラン類は例えば、珪素金属及びメチルクロリ
ドを使用する直接合成法、グリニヤール合成法または不
飽和アルケン類または芳香族化合物を水素原子と結合し
た水珪素をもつシラン類へ付加することにより製造する
ことができる。該方法は良く知られており、例えばダブ
リュ・ノール(W、No1l)によりケミストリー・エ
ンド・テクノロジー・オブ・シリコーンス(Chemi
stry and Technology of 5i
licones)に記載されている0本発明方法に使用
することができるトリハロシラン類の例はメチルトリク
ロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ブチルトリク
ロロシラン及びドデシルトリクロロシランである。
18個をもつアルキル基、アリール基、アルカリル基ま
たはアラルキル基であることが好ましい0本発明方法に
おいて、少なくとも1個のトリハロシランを有機液体媒
体中のアルカリ金属と反応させる0本発明に使用するこ
とができるトリハロシランは一般式R31Xs(式中、
Rは炭素原子数1〜18個のアルキル基、アリール基、
アルカリル基またはアラルキル基であり、Xはハロゲン
原子、好適にはClである)をもつ。R基の例はメチル
基、エチル基、イソブチル基、フェニル基、トリル基及
びフェニルエチル基である。これらのシランは業界にお
いて良く知られており、それらの多くが工業的に入手で
きる。該シラン類は例えば、珪素金属及びメチルクロリ
ドを使用する直接合成法、グリニヤール合成法または不
飽和アルケン類または芳香族化合物を水素原子と結合し
た水珪素をもつシラン類へ付加することにより製造する
ことができる。該方法は良く知られており、例えばダブ
リュ・ノール(W、No1l)によりケミストリー・エ
ンド・テクノロジー・オブ・シリコーンス(Chemi
stry and Technology of 5i
licones)に記載されている0本発明方法に使用
することができるトリハロシラン類の例はメチルトリク
ロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ブチルトリク
ロロシラン及びドデシルトリクロロシランである。
本発明方法に使用する個々のシランにおいて、Rは同じ
基であることが好ましい。
基であることが好ましい。
本発明方法に使用することができるアルカリ金属は例え
ばNa、K及びLiであることができる。
ばNa、K及びLiであることができる。
Liはポリシラン類を最高収率で得られるために好適な
金属である0反応に使用するアルカリ金属の量は利用す
るシラン1モル当たり少なくとも3モルである0反応な
確実に完了させるために、シラン1モル当たり3モルよ
り僅かに過量のアルカリ金属を添加することが好ましい
。
金属である0反応に使用するアルカリ金属の量は利用す
るシラン1モル当たり少なくとも3モルである0反応な
確実に完了させるために、シラン1モル当たり3モルよ
り僅かに過量のアルカリ金属を添加することが好ましい
。
反応が行なわれる有機液体媒体はトリハロシランが可溶
性である任意の溶媒であることができる。
性である任意の溶媒であることができる。
使用する溶媒は本発明方法により製造されたポリシラン
が可溶性である溶媒であるのが好ましい。
が可溶性である溶媒であるのが好ましい。
これらの溶媒はトルエンまたはパラフィン類のような炭
化水素溶媒、エーテル類、及び窒素含有溶媒例えばエチ
レンジアミン、トリエチルアミン及びN、N、N’、N
’−テトラメチルエチレンジアミンを包含する。有機液
体溶媒としてテトラヒドロフランを使用することが好ま
しい、有機液体媒体は通常形成されるアルキル金属ハロ
ゲン化物の溶媒ではなく、アルキル金属ハロゲン化物は
濾過により容易に除去することができる0本発明方法に
使用する有機液体媒体の量は臨界的なものではないが、
使用量を徐々に増加すれば、徐々に低い分子量のポリシ
ラン類を得ることができる。
化水素溶媒、エーテル類、及び窒素含有溶媒例えばエチ
レンジアミン、トリエチルアミン及びN、N、N’、N
’−テトラメチルエチレンジアミンを包含する。有機液
体溶媒としてテトラヒドロフランを使用することが好ま
しい、有機液体媒体は通常形成されるアルキル金属ハロ
ゲン化物の溶媒ではなく、アルキル金属ハロゲン化物は
濾過により容易に除去することができる0本発明方法に
使用する有機液体媒体の量は臨界的なものではないが、
使用量を徐々に増加すれば、徐々に低い分子量のポリシ
ラン類を得ることができる。
操作は任意の温度で行なうことができるが、反応温度は
50℃以下に維持することが好ましい。
50℃以下に維持することが好ましい。
生ずる反応は発熱性であり、室温で開始することが好ま
しく、反応中に外部から熱は供給しない。
しく、反応中に外部から熱は供給しない。
温度が上昇すると、通常、形成されるポリシラン類の分
子量の増加が観察される。これは有機液体媒体に不溶性
であるポリシラン類の製3青を導くことがある。
子量の増加が観察される。これは有機液体媒体に不溶性
であるポリシラン類の製3青を導くことがある。
反応が所望の程度に進行した時に、ポリシラン類を11
2の適当な方法により反応混合物から回収することがで
きる。ポリシランが反応を行なう有機液体媒体に不溶性
である場合には、該ポリシラン含反応混合物から濾過に
より除去することができる。これは副産物として形成さ
れるアルカリ金属ハロゲン化物のような他の不溶性物質
が例えばすくい上げるか、またはデカンテーションする
ことにより除去される場合に行なうことが好ましい。
2の適当な方法により反応混合物から回収することがで
きる。ポリシランが反応を行なう有機液体媒体に不溶性
である場合には、該ポリシラン含反応混合物から濾過に
より除去することができる。これは副産物として形成さ
れるアルカリ金属ハロゲン化物のような他の不溶性物質
が例えばすくい上げるか、またはデカンテーションする
ことにより除去される場合に行なうことが好ましい。
反応の成分に依存して、固体副産物は混合物の表面に向
かって浮遊することがあるが、ポリシラン類は沈降する
傾向にある。ポリシランが溶媒に可溶性である場合には
、他の不溶性物質を一過により除去することができ、ポ
リシランは溶媒中に保持され、洗浄により精製され、ま
た、粉末へ乾燥することができる。
かって浮遊することがあるが、ポリシラン類は沈降する
傾向にある。ポリシランが溶媒に可溶性である場合には
、他の不溶性物質を一過により除去することができ、ポ
リシランは溶媒中に保持され、洗浄により精製され、ま
た、粉末へ乾燥することができる。
本発明方法により製造されたポリシラン類は珪素がそれ
ぞれ少なくとも1個の他の珪素原子及び場合によりR基
へ結合している三次元構造をもつ固体物質である。ポリ
シランの正確な構造は記載することができないが、十二
面体構造または開放篭型構造のような構造を含むものと
思料される。
ぞれ少なくとも1個の他の珪素原子及び場合によりR基
へ結合している三次元構造をもつ固体物質である。ポリ
シランの正確な構造は記載することができないが、十二
面体構造または開放篭型構造のような構造を含むものと
思料される。
これらのポリシラン類(RS i)nにおいて、Rは炭
素原子数1〜18個のアルキル基、アリール基、アルカ
リル基またはアラルキル基であることができる。好適に
は、RはCl〜C6アルキル基またはフェニル基である
。一般式(RS i)n中のnの値は少なくとも8であ
る。厳密に言えば、nの最大値はないが、nの値が非常
に大きい場合には、ポリシラン類は有機液体媒体に不溶
性になる傾向がある。R基の性質に依存して、nは8〜
約100の値をらっことが好ましい、R基が例えばフェ
ニル基である場合に、これらのポリシラン類が有R’r
1体媒体に可溶性であるためには、nの値は8〜約30
が好ましい。炭化水素、エーテルまたは窒素含有溶媒に
可溶性である本発明方法により得られるポリシラン類は
炭化珪素物質にする前に造形するのが一層容易であるか
ら、それ故、最適なポリシラン類である。
素原子数1〜18個のアルキル基、アリール基、アルカ
リル基またはアラルキル基であることができる。好適に
は、RはCl〜C6アルキル基またはフェニル基である
。一般式(RS i)n中のnの値は少なくとも8であ
る。厳密に言えば、nの最大値はないが、nの値が非常
に大きい場合には、ポリシラン類は有機液体媒体に不溶
性になる傾向がある。R基の性質に依存して、nは8〜
約100の値をらっことが好ましい、R基が例えばフェ
ニル基である場合に、これらのポリシラン類が有R’r
1体媒体に可溶性であるためには、nの値は8〜約30
が好ましい。炭化水素、エーテルまたは窒素含有溶媒に
可溶性である本発明方法により得られるポリシラン類は
炭化珪素物質にする前に造形するのが一層容易であるか
ら、それ故、最適なポリシラン類である。
以下に実施例を挙げ、本発明を更に説明する。
以下の実施例中、部及び%は重量によるものであり、M
eはメチル基、t−Buはターシャリ−ブチル基、ph
はフェニル基をそれぞれ示す。
eはメチル基、t−Buはターシャリ−ブチル基、ph
はフェニル基をそれぞれ示す。
及1健L
テトラヒドロフラン(T hf’) 100 ml中の
Li(2,8g、0.4モル)へTI+flOOmff
中のPhS 1CL(27,61F、0.13モル)の
溶液を徐々に添加した0発熱性反応が生じて混合物が熱
くなり、茶褐色になった。全ての溶液を添加した時に、
混合物を更に3時間にわたり環境温度で撹拌した。過剰
のLi及び形成されたLiC/を濾過・除去し、P液を
メタノール800m1へ注入した。
Li(2,8g、0.4モル)へTI+flOOmff
中のPhS 1CL(27,61F、0.13モル)の
溶液を徐々に添加した0発熱性反応が生じて混合物が熱
くなり、茶褐色になった。全ての溶液を添加した時に、
混合物を更に3時間にわたり環境温度で撹拌した。過剰
のLi及び形成されたLiC/を濾過・除去し、P液を
メタノール800m1へ注入した。
沈澱物が形成し、該沈澱物を濾過・除去し、水及びメタ
ノールで洗浄し、減圧下で乾燥した0反応により10.
58yの固体ポリシランを生じた。この物質の分析値は
C67,3’5%及び84.71%を示した0分子量は
GPCにより2276と測定された。赤外分析及びNM
R分析はPh、5i−ph結合及びS i −S i結
合の存在を示した。
ノールで洗浄し、減圧下で乾燥した0反応により10.
58yの固体ポリシランを生じた。この物質の分析値は
C67,3’5%及び84.71%を示した0分子量は
GPCにより2276と測定された。赤外分析及びNM
R分析はPh、5i−ph結合及びS i −S i結
合の存在を示した。
及11ム
テトラヒドロフラン(T hf) 100 ml中のL
l(5,11FI、0.73モル)のサスペンションへ
ThrlOOmN中のMeS iCl*<30g、0.
20モル)の溶液を徐々に添加した0発熱性反応が生じ
て混合物は熱くなり、Thfは沸騰した。該溶液の残余
を反応混合物が還流温度を維持するに充分な速度で添加
した。次に、混合物を更に2時間にわたり環境温度で撹
拌した。メタノール11を添加して過剰のLiを分解し
た。固体を濾過・除去し、水及びメタノールで洗浄し、
減圧下で乾燥した;反応によりThfに不溶性である固
体ポリシラン8.6gを生じた。この物質の分析値はC
26,51%及び86.12%であった。
l(5,11FI、0.73モル)のサスペンションへ
ThrlOOmN中のMeS iCl*<30g、0.
20モル)の溶液を徐々に添加した0発熱性反応が生じ
て混合物は熱くなり、Thfは沸騰した。該溶液の残余
を反応混合物が還流温度を維持するに充分な速度で添加
した。次に、混合物を更に2時間にわたり環境温度で撹
拌した。メタノール11を添加して過剰のLiを分解し
た。固体を濾過・除去し、水及びメタノールで洗浄し、
減圧下で乾燥した;反応によりThfに不溶性である固
体ポリシラン8.6gを生じた。この物質の分析値はC
26,51%及び86.12%であった。
及1蝕1
一10℃へ冷却したN、N、N’、N′−テトラメチル
エチレンジアミン(TMEAD)100m&中のLi(
2,131F、0.3モル)のサスペンションへTME
AD50mi?中のMeS 1c1z(14,21F、
0.095モル)の溶液を徐々に添加した。添加中、外
部冷却により混合物を一10°Cに維持した。全ての溶
液を添加した時に、混合物を更に5時間にわたり一10
℃で撹拌し、次に、環境温度で3時間撹拌した。過剰の
Li及び形成されたLiClを濾過・除去し、P液を1
0100Oのメタノールへ注入した。沈澱物が形成し、
該沈澱物を濾過・除去し、水及びメタノールで洗浄し、
減圧下で乾燥した。反応は固体ポリシラン3.21yを
生じた。
エチレンジアミン(TMEAD)100m&中のLi(
2,131F、0.3モル)のサスペンションへTME
AD50mi?中のMeS 1c1z(14,21F、
0.095モル)の溶液を徐々に添加した。添加中、外
部冷却により混合物を一10°Cに維持した。全ての溶
液を添加した時に、混合物を更に5時間にわたり一10
℃で撹拌し、次に、環境温度で3時間撹拌した。過剰の
Li及び形成されたLiClを濾過・除去し、P液を1
0100Oのメタノールへ注入した。沈澱物が形成し、
該沈澱物を濾過・除去し、水及びメタノールで洗浄し、
減圧下で乾燥した。反応は固体ポリシラン3.21yを
生じた。
この物質の分析値はC27,02%及び86.25%を
示した0分子量はGPCにより1548と測定された。
示した0分子量はGPCにより1548と測定された。
赤外分析及びNMR分析はMe、Si−MeC結合びS
i −S i結合の存在を示した。
i −S i結合の存在を示した。
m先
テトラヒドロフラン(T hf) 100 ml中のL
i(2,25g、0.32モル)のサスペンションへT
hflOOml中のt −BuS ic1*(18,6
21F、0.097モル)の溶液を徐々に添加した0発
熱性反応が生じて混合物が熱くなり、茶褐色になった。
i(2,25g、0.32モル)のサスペンションへT
hflOOml中のt −BuS ic1*(18,6
21F、0.097モル)の溶液を徐々に添加した0発
熱性反応が生じて混合物が熱くなり、茶褐色になった。
全ての溶液を添加した時に、混合物を更に6時間にわた
り環境温度で撹拌した。過剰のLi及び形成されたLi
Clを濾過・除去し、P液を1000nt’のメタノー
ルへ注入した。沈澱物が形成し、該沈澱物を濾過・除去
し、水及びメタノールで洗浄し、減圧下で乾燥した6反
応は6.8611の固体ポリシランを生じた。この物質
の分析値はC54,95%及び89.83%を示した0
分子量はGPCにより5854と測定された。赤外分析
及びNMR分析はt Bu及び5i−C結合の存在を
示した。
り環境温度で撹拌した。過剰のLi及び形成されたLi
Clを濾過・除去し、P液を1000nt’のメタノー
ルへ注入した。沈澱物が形成し、該沈澱物を濾過・除去
し、水及びメタノールで洗浄し、減圧下で乾燥した6反
応は6.8611の固体ポリシランを生じた。この物質
の分析値はC54,95%及び89.83%を示した0
分子量はGPCにより5854と測定された。赤外分析
及びNMR分析はt Bu及び5i−C結合の存在を
示した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式RSiX_3(式中、Rは炭素原子数1〜1
8個をもつ炭化水素基であり、Xはハロゲン原子を表す
)で表される少なくとも1個のシランと該シランが可溶
性である有機液体媒体中のアルカリ金属を反応させる工
程よりなる一般式 (RSi)n(式中、Rはそれぞれ炭素原子数1〜18
個をもつ炭化水素基であり、nは少なくとも8である)
で表されるポリシラン類の製造方法。 2、アルカリ金属がLiである特許請求の範囲第1項記
載の方法。 3、有機液体媒体がテトラヒドロフランである特許請求
の範囲第1項または第2項記載の方法。 4、有機液体媒体がポリシラン生成物が可溶性であるも
のである特許請求の範囲第1項から第3項までのいずれ
か1項に記載の方法。 5、Rが炭素原子数1〜18個のアルキル基、アリール
基、アルカリル基またはアラルキル基である特許請求の
範囲第1項から第4項までのいずれか1項に記載の方法
。 6、Rがそれぞれ同じ基であり、XがCl原子である特
許請求の範囲第1項から第5項までのいずれか1項に記
載の方法。 7、反応が50℃以下で行なわれる特許請求の範囲第1
項から第6項までのいずれか1項に記載の方法。 8、一般式RSiX_3(式中、Rは炭素原子数1〜1
8個をもつ炭化水素基であり、Xはハロゲン原子を表す
)で表される少なくとも1個のシランと該シランが可溶
性である有機液体媒体中のアルカリ金属を反応させる工
程により製造された一般式(RSi)n(式中、Rはそ
れぞれ炭素原子数1〜18個をもつ炭化水素基であり、
nは少なくとも8である)で表されるポリシラン。 9、アルカリ金属がLiである特許請求の範囲第8項記
載のポリシラン。 10、有機液体媒体がテトラヒドロフランである特許請
求の範囲第8項または第9項記載のポリシラン。 11、有機液体媒体がポリシラン生成物が可溶性である
ものである特許請求の範囲第8項から第10項までのい
ずれか1項に記載のポリシラン。 12、Rが炭素原子数1〜18個のアルキル基、アリー
ル基、アルカリル基またはアラルキル基である特許請求
の範囲第8項から第11項までのいずれか1項に記載の
ポリシラン。 13、Rがそれぞれ同じ基であり、XがCl原子である
特許請求の範囲第8項から第12項までのいずれか1項
に記載のポリシラン。 14、反応が50℃以下で行なわれる特許請求の範囲第
8項から第13項までのいずれか1項に記載のポリシラ
ン。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8629594 | 1986-12-11 | ||
GB868629594A GB8629594D0 (en) | 1986-12-11 | 1986-12-11 | Preparation of polysilanes |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63161025A true JPS63161025A (ja) | 1988-07-04 |
Family
ID=10608821
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62312386A Pending JPS63161025A (ja) | 1986-12-11 | 1987-12-11 | ポリシラン類及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4808685A (ja) |
JP (1) | JPS63161025A (ja) |
DE (1) | DE3741947A1 (ja) |
GB (2) | GB8629594D0 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007077197A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Osaka Gas Co Ltd | ポリシランの精製方法 |
WO2009142161A1 (ja) * | 2008-05-20 | 2009-11-26 | 日本曹達株式会社 | ポリシラン化合物の製造方法 |
JP2011162792A (ja) * | 2011-04-18 | 2011-08-25 | Osaka Gas Co Ltd | ポリシランの精製方法 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5047569A (en) * | 1990-07-03 | 1991-09-10 | Ethyl Corporation | Method of producing polysilane compounds |
US5089646A (en) * | 1990-07-03 | 1992-02-18 | Ethyl Corporation | Bicyclic polysilicon compounds |
US5089648A (en) * | 1990-09-04 | 1992-02-18 | Ethyl Corporation | Method of producing polysilane compounds |
US5087719A (en) * | 1990-09-27 | 1992-02-11 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Dehydrogenative polymerization of silanes to polysilanes by catalysts of transition-metal silyl derivatives |
US5159043A (en) * | 1990-12-25 | 1992-10-27 | Shigeru Mori | Preparation of polyorganosilanes |
TW455599B (en) * | 1995-04-25 | 2001-09-21 | Hitachi Ltd | Fluorine-containing silicon network polymer, its use as insulating coating, and electronic devices using which |
US6020447A (en) * | 1996-03-29 | 2000-02-01 | Massachusetts Institute Of Technology | Sonichemical synthesis of silicon carbide precursors and methods for preparation thereof |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB675057A (en) * | 1949-06-15 | 1952-07-02 | Dow Corning Ltd | Improvements in or relating to organopolysilane resins |
US2563005A (en) * | 1949-06-15 | 1951-08-07 | Dow Corning | Organopolysilane resins |
GB671774A (en) * | 1949-06-15 | 1952-05-07 | Dow Corning Ltd | Improvements in or relating to organopolysilanes |
US2606879A (en) * | 1949-06-15 | 1952-08-12 | Dow Corning | Organopolysilanes |
US3431221A (en) * | 1965-01-26 | 1969-03-04 | Us Army | Catalyzed wurtz-fittig synthesis |
US4276424A (en) * | 1979-12-03 | 1981-06-30 | Petrarch Systems | Methods for the production of organic polysilanes |
GB2077710B (en) * | 1980-06-11 | 1983-10-12 | Nat Res Dev | Synthesising a polysilane |
ATE13544T1 (de) * | 1980-11-21 | 1985-06-15 | Union Carbide Corp | Verzweigte polycarbosilane und ihre verwendung zur herstellung von siliciumcarbid. |
-
1986
- 1986-12-11 GB GB868629594A patent/GB8629594D0/en active Pending
-
1987
- 1987-10-02 GB GB08723198A patent/GB2198444A/en active Pending
- 1987-12-03 US US07/128,231 patent/US4808685A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-12-10 DE DE19873741947 patent/DE3741947A1/de not_active Withdrawn
- 1987-12-11 JP JP62312386A patent/JPS63161025A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007077197A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Osaka Gas Co Ltd | ポリシランの精製方法 |
WO2009142161A1 (ja) * | 2008-05-20 | 2009-11-26 | 日本曹達株式会社 | ポリシラン化合物の製造方法 |
US8829139B2 (en) | 2008-05-20 | 2014-09-09 | Nippon Soda Co., Ltd. | Process for production of polysilane compound |
JP2011162792A (ja) * | 2011-04-18 | 2011-08-25 | Osaka Gas Co Ltd | ポリシランの精製方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4808685A (en) | 1989-02-28 |
GB8723198D0 (en) | 1987-11-04 |
GB2198444A (en) | 1988-06-15 |
DE3741947A1 (de) | 1988-06-16 |
GB8629594D0 (en) | 1987-01-21 |
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