JPS63157993A - 混合酸型１，２−ジアシル−３−グリセリルホスフアチジルイノシト−ルの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、混合酸型１，２−ジアシル−３−グリセリル
ホスファチジルイノシトールの製造法に関するものであ
る。

（従来の技術） １．２−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノ
シトールは天然界に広く存在し、生物の生体内において
生体膜などの重要な構成部分となっているリン脂質の一
種である。その機能はコレステロール代謝作用や末梢血
管保護作用等が挙げられる。

ところで、この１，２−ジアシル−３−グリセリルホス
ファチジルイノシトールの生体、ことに生体膜における
機能を明確にするためには、その１位と２位に異種の脂
肪酸残基を有する混合酸型１．２−ジアシル−３−グリ
セリルホスファチジルイノシトールが必要であるが、従
来そのような混合酸型１．２−ジアシル−３−グリセリ
ルホスファチジルイノシトールを純粋なかたちで製造す
る方法がなく、そのために１．２−ジアシル−３−グリ
セリルホスファチジルイノシトールの生化学的機能に関
する研究に支障をきたしていた。

（発明が解決しようとする問題点） 即ち、１．２−ジアシル−３−グリセリルホスファチジ
ルイノシトールを合成しようとすれば、イノシトールの
１位の水酸基のみを選択的に３−グリセリルホスホリル
基に結合させる必要がある（Ｚｈ、　Ｏｂｓ、　Ｋｈｉ
ｍ、　４１．１３８６　（１９７１）　、Ｃｈｅｍ、　
Ｐｈｙｓ。

Ｌｉｐｉｄｓ２５．２４７　（１９７９）、Ｚｈ、　Ｏ
ｂｓ、　Ｋｈｉｍ、４７．２１３０（１９７７）、Ｔｅ
ｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ　（８）、　５８
７　（１９７０）参照）。これまでの報告では、何度も
水酸基の保護と生成物の分離を繰り返し行うことにより
目的＝３　＝ 物を得ている。しかし、この方法では工程数が非常に多
く、収率も低く、工業化は困難である。さらに混合酸型
１，２−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノ
シトールを得るには混合酸型ジグリセライドが必要であ
り、このものの合成も非常に複雑な工程を経なければな
らず、混合酸型１．２−ジアシル−３−グリセリルホス
ファチジルイノシトールを合成で得ることはほとんど不
可能と考えられていた。

（問題点を解決するための手段） 本発明は、一般式 （式中、Ｒ及びＲ゛は互いに異なるアシル基を表す。） で示される混合酸型１，２−ジアシル−３−グリセリル
ホスファチジルイノシトールを製造するにあたり、 （ａ）１．２−ジアシル−３−グリセリルホスファチジ
ルイノシトール分子内のイノシトール部分の水酸基を少
なくとも２個、保護基で保護する工程、（ｂ）上記（ａ
）工程で水酸基を保護した１、２−ジアシル−３−グリ
セリルホスファチジルイノシトールを脱アシル化する工
程、 （ｃ）上記（ｂ）工程で脱アシル化した水酸基保護３−
グリセリルホスファチジルイノシトールに任意のアシル
基を導入する工程、 （ｄ）上記（ｃ）工程で得られた任意のアシル基を導入
した、または上記（ａ）工程で得られた水酸基保護１．
２−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノシト
ールに、リパーゼあるいはホスホリパーゼを作用させ、
水酸基保護モノアシル−３−グリセリルホスファチジル
イノシトールを得る工程、 （ｅ）上記（ｄ）工程で得られた水酸基保護モノアシル
ー３−グリセリルホスファチジルイノシトールに異なっ
た任意のアシル基を導入する工程、（ｆ）上記（ｅ）工
程で得られた水酸基保護混合酸型１．２−ジアシル−３
−グリセリルホスファチジルイノシトールから保護基を
脱離させる工程、を含む混合酸型ホスファチジルイノシ
トール類の製造方法である。

本発明において、原料として用いる１、２−ジアシル−
３−グリセリルホスファチジルイノシトールは、前記一
般式（Ｉ）に示されるＲ及びＲ’で表される各種のアシ
ルが無秩序に配されたものであり、イノシトール部分が
異性体となったもの、および塩の形になったものも含ま
れる。

原料は、天然から得られる動物由来、植物由来、微生物
由来の種類を問わず、いずれのものも使用することがで
きる。特に豊富に含まれているものとしては、動物の脳
および臓器、大豆レシチン、酵母等が挙げられる。

以下、本発明を各工程ごとに説明する。

（ａ）１．２−ジアシル−３−グリセリルホスファアシ
ルイノシトール分子内のイノシトール部分の水酸基を保
護基で保護する工程 本発明ではまず原料となる１、２−ジアシル−３−グリ
セリルホスファチジルイノシトール分子内のイノシトー
ル部分の水酸基を保護基で完全に、または部分的に保護
する。

イノシトール部分の水酸基の保護は後の工程を考慮して
、耐アルカリ性を有する保護基によるのが好ましく、特
に還元または酸触媒等の反応により脱離できる保護基に
よるのがより好ましい。水酸基の保護は１，２−ジアシ
ル−３−グリセリルホスファチジルイノシトールのイノ
シトール部分の水酸基５個のうち、すべてを完全に保護
してもよいが、保護基の脱離のし易さおよび保護基剤の
コストを考え、部分的に保護することもできる。

部分保護の場合は、導入される保護基の数が少な過ぎる
と、イノシトール部分にまでアシル化が及んでしまうた
め、最低必要な保護基数は２個であり、それ未満の場合
には目的とする１、２−ジアシル−３−グリセリルホス
ファチジルイノシトールを製造することはできない。

アシル基に不飽和脂肪酸を導入する場合、還元により脱
離する保護基で保護すると、不飽和酸の二重結合に影響
を及ぼすため、酸触媒等により脱離する保護基を用いる
ことが望ましい。しかし、還元により脱離する保護基を
使用する場合、二重結合部分を臭素等で保護する工程を
付し、保護基を脱離させた後に臭素を外すことにより、
目的とする１、２−ジアシル−３−グリセリルホスファ
チジルイノシトールを製造することが可能となる。

保護基としては、例えば水酸基と結合してベンジルエー
テル、テトラヒドロピラニールエーテル、テトラヒドロ
チオピラニールエーテル、テトラヒドロピラニールエー
テル、４−メトキシテトラヒドロピラニールエーテル、
■−エトキシエチルエーテル、トリフェニルメチルエー
テル、トリメチルシリルエーテル等のエーテル類；メチ
レンアセクール、イソプロピリデンアセクール、ベンジ
リデンアセクール類；イソブチル炭酸エステル、フェニ
ル炭酸エステル、２，２．２−）リクロロエチル炭酸エ
ステル等の炭酸エステル類を形成するものを挙げること
ができる。

水酸基を保護する反応は、糖および環状アルコールの反
応に一般に採用されている反応を適用することができる
。例えば、ベンジル化の場合は、溶媒としてジメチルス
ルホキサイド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン等のよく脱水したものを使用
し、水素化ナトリウムや金属ナトリウム等を用いてアル
カリ金属のアルコラードを形成させ、続いてハロゲン化
ベンジルを加えることにより、ベンジルエーテルを形成
し、水酸基をベンジル基で保護することができる。また
、テトラヒドロピラニール化の場合は、溶媒としてジク
ロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ベンゼン等の
１．２−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノ
シトールをよく熔解または分散するものを使用し、触媒
として酢酸、ｐ−）ルエンスルホン酸、メタンスルホン
酸、Ｈ゛型ビイオン交換樹脂の酸を使用し、３，４−ジ
ヒドロ−α−ピランと攪拌下に反応させることにより、
テトラヒドロピラニールエーテルを形成し、水酸基を保
護することができる。他の反応も上記に準じて行うこと
ができる。反応温度は保護基の種類により一２０〜１５
０℃の範囲で使用するが、基質の安定性から一２０〜４
０℃が最も好ましい。反応時間は１５分〜数日間の範囲
で適宜選択することができる。反応後適量の水、で洗浄
し、溶媒を除いた後、得られた生成物をそのまま、また
は薄層クロマトグラフィーあるいはカラムクロマトグラ
フィーにより精製して次の工程、あるいは（ｄ）工程に
移ることができる。

（ｂ）水酸基を保護した１、２−ジアシル−３−グリセ
リルホスファチジルイノシトールを脱アシル化する工程 （ａ）工程で水酸基を保護した１、２−ジアシル−３−
グリセリルホスファチジルイノシトールを、この工程で
脱アシル化して３−グリセリルホスホリルイノシトール
を生成させる。

水酸基を保護した１、２−ジアシル−３−グリセリルホ
スファチジルイノシトールの脱アシル化は、テトラブチ
ルアンモニウムヒドロキサイド等の四級アルキルアンモ
ニウム水酸化物、あるいはアルカリ金属などを使用して
アルコーリシスすることにより行うことができるが、低
濃度のアルカリ等で穏やかに加水分解しても良い。

脱アシル化反応に使用する溶媒としては、クロロホルム
、ジクロロメタン、四塩化炭素、エーテル等があるが、
必要に応じてメタノール、エタノール等の親水性溶媒と
の混合溶媒を使用することもできる。反応温度は０〜１
００℃の範囲が好ましいが、基質の安定性から０〜４０
℃が特に好ましい。

反応時間は１５分〜数日間の範囲で適当な時間を選択す
ればよい。反応後適量の水で数度洗浄し、溶媒を除いた
後、得られた生成物をそのまま、または薄層クロマトグ
ラフィーあるいはカラムクロマトグラフィーにより精製
して次の工程に移ることができる。

（ｃ）脱アシル化した水酸基保護の３−グリセリルホス
ファチジルイノシトールに任意のアシル基を導入する工
程 −１９＝ この工程では、（ｂ）工程において生成した３−グリセ
リルホスファチジルイノシトールに任意のアシル基を導
入して、水酸基保護１．２−ジアシル−３−グリセリル
ホスファチジルイノシトールを生成させる。導入するア
シル基としては、天然もしくは合成の直鎖状、分校状ま
たは環状の炭素数１〜３０の飽和または不飽和カルボン
酸のアシル基があり、任意のものを導入することができ
る。

上記カルボン酸としては、例えば酢酸、プロピオン酸、
酪酸、カプロン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミ
チン酸、ステアリン酸、アラキン酸、ベヘン酸等の直鎖
飽和カルボン酸；パルミトオレイン酸、オレイン酸、エ
ライジン酸、エルシン酸、リノール酸、リルン酸、エイ
コサペンクエン酸、ドコサヘチサエン酸、アラキドン酸
、１０．１２−オクタデカジエン酸、２．４−オクタデ
カジエン酸、１０．１２−へブタデカジイン酸、２．４
−ナノデカジイン酸等の直鎖不飽和カルボン酸；イソ酪
酸、イソ吉草酸、メチルステアリン酸、プリスタン酸等
の分枝状カルボン酸；フラン酸、マルバリン酸、ヒトツ
カルピン酸、ショールムーブリン酸、ゴルリン酸、安息
香酸、ｐ−メチルフェニルプロピオン酸、ｐ−ビニルフ
ェニルヘキサン酸等の環状カルボン酸などを挙げること
ができる。

これらのカルボン酸を目的に応じ、単独であるいは自由
に組み合わせて用いることができる。

アシル基を導入する反応方法は、例えば上記カルボン酸
を酸無水物、酸ハロゲン化物、脂肪酸イミダゾール化物
等の活性アシル化状態にしたものをアシル化剤とし、水
酸基を保護した３−グリセリルホスファチジルイノシト
ールのグリセリル部分の水酸基と反応させる。アシル化
剤の添加量は反応基質に対し、１〜２０当量、好ましく
は１〜５当量とするのが良い。

反応に使用する触媒は塩基性触媒が用いられ、好ましく
は１．２−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイ
ノシトールの異性化を生じさせない穏やかなものがよい
。アシル化剤に酸無水物、酸ハロゲン化物を使用する場
合、触媒としてはピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチル−４−ア
ミノピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチル−４−アミノ−２−メ
チルピリジン、４−ピロリジノピロリジン等のピリジン
誘導体、およびトリエチルアミン、トリブチルアミン等
の三級アミン類等が使用できるが、酸無水物の場合には
、Ｎ、Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジンまたは４−ピ
ロリジノピロリジン、酸ハロゲン化物の場合にはピリジ
ンが好ましい。脂肪酸イミダゾール化物を使用する場合
は、イミダゾールナトリウム、トリアゾールナトリウム
、ベンツイミダゾールナトリウムなどの含窒素五員複素
環状化合物誘導体のアルカリ塩が使用できるが、なかで
もイミダゾールナトリウムが好ましい。触媒の添加量は
原料に対し０．０１〜２０当量程度、好ましくは０．１
〜２当量が良い。

溶媒としてはクロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭
素等のハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳
香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素；酢酸
エチル、酢酸プロピル等のエステル；ジエチルエーテル
、テトラヒドロフラン等のエーテル類などを用いること
ができ、これらの溶媒は乾燥していることが好ましい。

アシル化反応はＯ〜８０℃程度、好ましくは１０〜５０
℃の範囲で行うことができ、通常１５分〜数日間、好ま
しくは３０分〜３日間で終了し、目的とする任意のアシ
ル基で組み換えた水酸基保護の１，２−ジアシル−３−
グリセリルホスファチジルイノシトールを得ることがで
きる。また反応系は必ずしもではないが、特にアシル基
に高度不飽和脂肪酸を用いる場合は、窒素、アルゴン等
の不活性ガス気流下で行うことが好ましい。反応後よく
水洗し、溶媒を除いた後、そのまま、または薄層クロマ
トグラフィーあるいはカラムクロマトグラフィーにより
精製して次の工程に移ることができる。

（ｄ）水酸基保護１．２−ジアシル−３−グリセリルホ
スファチジルイノシトールにリパーゼあるいはホスホリ
パーゼを作用させ、水酸基保護モノアシル−３−グリセ
リルホスファチジルイノシトールを得る工程 この工程では（ａ）で得られたか、または（ｃ）で得ら
れた水酸基保護１，２−ジアシル−３−グリセリルホス
ファチジルイノシトールの１位あるいは２位のアシル基
を脱アシル化するものである。

脱アシル化の触媒としては酵素を用いる。１位を脱アシ
ル化する場合には、グリセリル基の１．３位に特異的に
作用するリパーゼあるいはホスホリパーゼＡ１を用いる
。この種のリパーゼとしては、リゾプス・デレマル、リ
ゾプス・アリズス、ムコール・ジャバニクス等の微生物
由来リパーゼ、パンクレアチン等が挙げられる。また、
ホスホリパーゼＡ、としては各種バクテリア（太陽菌、
ミコバクテリウム・フレイ、巨大菌、枯草菌等）または
動物の各種臓器から得られるものを用いる。

２位を脱アシル化する場合゛には、ホスホリパーゼＡ２
を用いる。ホスホリパーゼＡ２としては、蛇毒（クロタ
ルス・アダマンテラス（（：ｒｏｔａｌｕｓａｄａｍａ
ｎｔｅｕｓ）　、インドコプラ、ハブなどの毒）、ハチ
毒（ミツバチなどの毒）、トカゲ毒（ヘロデルマ・ホリ
ズム（Ｈｅｌｏｄｅｒｍａ　ｈｏｒｉｄｕｍ）などの毒
）、サソリ毒（レウルス・キンケス・トリアラス（Ｌｅ
ｕｒｕｓ　ｑｕｉｎｑｕｅｓ　ｔｒｔａｔｕｓ）などの
毒）−または動物の各種臓器などから得られるものを使
用する。

脱アシル化に際しては、水酸基保護１．２−ジアシル−
３−グリセリルホスファチジルイノシトールをエーテル
、クロロホルム等の溶媒に溶かし、緩衝液（ｐＨ７〜８
）および賦活剤（例えば塩化カルシウム液）存在下に適
当な酵素を作用させる。

反応温度は０〜８０℃程度、好ましくは１０〜６０℃の
範囲で行うことができ、通常１５分〜数日間、好ましく
は３０分〜３日間で終了し、目的とする水酸基保護モノ
アシル−３−グリセリルホスファチジルイノシトールが
得られる。

（ｅ）　水酸基保護モノアシル−３−グリセリルホスフ
ァチジルイノシトールをアシル化する工程この工程では
（ｃ）工程で列記した方法のなかのいずれかを使用し、
アシル化を行う。使用するアシル化剤は目的に応じ適宜
選ぶことができる。

（ｆ）水酸基保護混合酸型１，２−ジアシル−３＝グリ
セリルホスフアチジルイノシトールから保護基を脱離さ
せる工程 イノシトール部分の水酸基を保護し、かつ任意のアシル
基に組み換えた１、２−ジアシル−３＝グリセリルホス
フアチジルイノシトールから保護基を脱離させ、目的と
する１、２−ジアシル−３−グリセリルホスファチジル
イノシトールを得る。

この保護基の脱離は還元もしくは酸を用いて、アシル基
が脱離しない条件下で行う。還元により脱離する保護基
を使用した場合、反応は水素による接触還元が一般的で
あるが、もっと穏やかなギ酸、ギ酸アンモニウム、シク
ロヘキサジエン等を水素供給源とした還元反応を用いる
こともできる。

溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル等のエーテル類を使用することができ、触媒にはパ
ラジウム、酸化パラジウム、パラジウム−カーボン等を
用いることができる。

触媒添加量は、イノシトール部分を保護する保護基１モ
ルにつき１０〜１００ｇのパラジウム量が好ましい。

反応は水酸基を保護し、任意の脂肪酸に組み換えた１、
２−ジアシル−３−グリセリルホスファ＝１９− アシルイノシトールを適当な溶媒に溶解し、触媒を添加
後、触媒還元の場合には水素を吹き込み攪拌すればよく
、ギ酸、ギ酸アンモニウム、シクロへキサジエン等の助
触媒を用いる場合は、この助触媒を基質中の保護基１モ
ルについて１〜２０当量添加し、不活性ガス気流下で攪
拌することにより得ることができる。この反応は温度−
２０〜８０℃で行い、好ましくは０〜４０℃が良い。１
０分〜５時間で反応は終了し、後処理として、固形物を
濾過により除き、濾液を水でよく洗浄し、乾燥後溶媒を
除き、さらに薄層クロマトグラフィーまたはカラムクロ
マトグラフィーにより精製し、目的とする任意のアシル
基に組み換えた１、２−ジアシル−３−グリセリルホス
ファチジルイノシトールを得ることができる。

保護基に酸触媒により脱離するものを用いた場合には、
溶媒はクロロホルム、ジクロロメタン、ベンゼン、テト
ラヒドロフラン、ジメチルスルホキサイド等の基質をよ
く溶解または分散するものであればよい。酸触媒には、
塩酸、硫酸、硝酸、＝２０− ホウ酸等の無機酸、および酢酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、メタンスルホン酸等の有機酸、ならびにＨ＋型ビイ
オン交換樹脂用いることができる。

酸触媒の添加量は、分子内の保護基１モルに対し、上記
の酸０．１〜５当量使用すればよく、好ましくは０．５
〜２当量が良い。５分〜数日間の適当な時間を反応時間
とすることができ、反応温度は一２０〜１００℃の間で
行うことができるが、基質の安定性を考慮すると、０〜
４０℃で１５分〜５時間の反応が好ましい。反応汲水で
よく洗浄し、乾燥後溶媒を除き、さらに薄層クロマトグ
ラフィーまたはカラムクロマトグラフィーにより精製し
、目的とする任意のアシル基に組み換えた１、２−ジア
シル−３−グリセリルホスファチジルイノシトールを得
ることができる。

このようにして、目的物である任意のアシル基に組み換
えた新規な１，２−ジアシル−３−グリセリルホスファ
チジルイノシトールを得ることができるが、全反応工程
を通しての収率は５０％以上という良好な結果が得られ
る。

こうして得られる１、２−ジアシル−３−グリセリルホ
スファチジルイノシトールは天然の１゜２−ジアシル−
３−グリセリルホスファチジルイノシトールの構造をそ
のまま保持し、アシル基のみが組み換えられた構造であ
るため、組み換えられたアシル基に応じた目的に使用さ
れる。即ち、これら一連の混合酸型１，２−ジアシル−
３−グリセリルホスファチジルイノシトールは、医薬と
して有用であるばかりでなく、その生化学的研究、特に
それらの代謝研究にも極めて大きな価値を有するもので
ある。

（発明の効果） 本発明によれば、前記（ａ）〜（ｆ）工程により１゜２
−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノシトー
ルを製造するため、次のような効果が得られる。

（１）天然に存在する１、２−ジアシル−３−グリセリ
ルホスファチジルイノシトールの構造をそのまま保持し
て、アシル基のみを組み換えることができる。

（２）全合成をする場合に比べて工程の数が少なく、工
業的製造方法として用いることができる。

（３）製造工程中において精製する際、１，２−ジアシ
ル−３−グリセリルホスファチジルイノシトールが有効
に濃縮されるため、原料中の１，２−ジアシル−３−グ
リセリルホスファチジルイノシトールの純度を高める必
要がない。

（実施例） 以下、実施例に基づき本発明を具体的に説明する。

実施例１ （ａ）イノシトール部分の水酸基を保護する工程酵母か
ら抽出された粗１，２−ジアシルー３−グリセリルホス
ファチジルイノシトール３００　ｍｇをクロロホルム３
０ｇに？容解し、３．４−ジヒドロ−α−ピラン０．５
ｇ、、ｐ−）ルエンスルホン酸６■を加え、室温下３時
間攪拌後、５％炭酸水素ナトリウム水溶液５０ｍＦ！で
２回洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後濾過し、減
圧濃縮した。この反応物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（φ２−２３＝ Ｘ　Ｌｏｃｍ）で、溶媒としてクロロホルム：メタノー
ル−９：１を用いて分離し、水酸基を部分的に保護した
１、２−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノ
シトール３７１■を得た。このものは、薄層クロマトグ
ラフィーのＲｔ値が０．８４　（展開溶媒　クロロホル
ム：メタノール：水＝６５：２５：　４　）であった。

（ｂ）脱アシル化工程 上記（ａ）の工程で得られた反応物を３０ｇのクロロホ
ルムに溶解後、０．３３Ｍ水酸化カリウム−メタノール
溶液１０−を加え、室温で１５分攪拌した。反応終了後
、水９−を加え洗浄し、クロロホルム層の減圧濃縮物を
シリカゲルクロマトグラフィー（φ２×１０ｃｍ）を用
い、溶媒にクロロホルム：メタノール−７＝３を用い、
イノシトール部分の水酸基をテトラヒドロピラニール基
で部分保護した３−グリセリルホスホリルイノシトール
を分離し、濃縮して２０４■の反応物を得た。このもの
は、薄層クロマトグラフィーのＲ２値が０．１７　（展
開溶媒クロロホルム：メタノール：水＝６５：２５：　
４　”）で、質量分析では６０９　（ＧＰＩ＋３ＴＨＰ
＋Ｎａ）　”、６９３　（ＧＰＩ＋４Ｔ肝＋Ｎａ）　”
、７７７　（ＧＰＩ＋５ＴＨＰ＋Ｎａ）　”　（ＧＰＩ
　：グリセリルホスホイノシトール、ＴＨＰ：テトラヒ
ドロピラニール基）が測定された。

（ｃ）任意のアシル基を導入する工程 上記（ｂ）の工程で得られた反応物９０■をクロロホル
ム１５ｇに溶解し、ピリジン４０■、０．０７３Ｍ塩化
バルミトイル−クロロホルム溶液３−を加え、４時間攪
拌後、水洗し、減圧濃縮をした。

（ｄ）２位のアシル基を加水分解する工程上記（ｃ）の
工程で得られた反応混合物をクロロホルム１５ｇに溶解
し、これにインドコブラの毒から得られたホスホリパー
ゼＡｚｌ■を水１−に溶かした溶液と０．２Ｍ）リス緩
衝液（ｐ　Ｈ７，２）　　１−および０．１Ｍ　ＣａＣ
Ｉｚ溶液Ｑ　、　３　ｍｌを加え、室温で４時間反応さ
せた。この反応液を減圧濃縮し、ついで少量のベンゼン
を加えてさらに濃縮して水分を完全に除去した。得られ
た残渣をクロロホルムに溶解し、不溶物を除去する。

（ｅ）２位に任意のアシル基を導入する工程＝２５− 上記（ｄ）で得られた反応物にピリジン２０■、０．０
７３　Ｍ塩化リルオイルークロロホルム溶液２ｍｌを加
え、４時間攪拌後、水洗し、減圧濃縮した。

（ｆ）保護基を脱離させる工程 上記（ｅ）で得られた反応物をクロロホルム：メタノー
ル＝２：１．１０＋＋＋１に溶解し、水冷下で０．５Ｎ
塩酸２００ｐｌを滴下し、４時間攪拌した。反応終了後
、３０−の水で２回洗浄し、減圧濃縮した。シリカゲル
クロマトグラフィー（φ２Ｘ１５）で溶媒にクロロホル
ム：メタノール：水＝６５：２５：４を用いて精製する
ことにより、１−バルミトイル−２−リルオイルー３−
ホスファチジルイノシトール８０隊を得た。

このものは、薄層クロマトグラフィーにて分析したとこ
ろ、天然標品と同一のＲｔ値でワンスポットであった。

また、質量分析では８５９（１−バルミトイル−２−リ
ルオイルー３−グリセリルホスファチジルイノシトール
＋Ｎａ）　”が測定された。

Ｉ　Ｒ：　３３９０．２９５０．１７３０．１４６０ｃ
ｍ−’＝２６− ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．　　ｐｐｍ）　：　０．８７（ｔ
）　　、１．２６（ｍ）元素分析：Ｃ４３Ｈ７，０Ｉ３
Ｐ 計算値（％）　　Ｃ：６１．７、Ｈ：　９．５実測値（
％”）　　ＣＦ　６１．５、Ｈ：　９．４実施例２ 実施例１の工程（ａ）と同様にして、酵母より抽出した
１、２−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノ
シトール１００■のイノシトール部分の水酸基を保護し
、分離した。水酸基保護１．２−ジアシル−３−ホスフ
ァチジルイノシトール１２０■を得た。次に実施例１の
工程（ｄ）と同様にして、２位のアシル基を加水分解す
る。即ち、上記反応物をエチルエーテル１０ｍ１に溶解
し、インドコブラの毒からのホスホリパーゼＡｚｌ■を
水１艷に溶かした溶液と０．２Ｍ　）リス緩衝液（ｐＨ
７，２）　１−および０．ＩＭ　ＣａＣ１ｇ溶液Ｑ　、
３　ｍｌを加え、室温にて３時間反応させた。この反応
液を減圧濃縮し、ついで少量のベンゼンを加えてさらに
濃縮して水分を完全に除去した。得られた残渣をエチル
エーテルに溶解し、不溶物を濾別した。

次にシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、クロ
ロホルム：メタノール＝９：１を用いて遊離脂肪酸を除
去した。得られた水酸基保護１−アシル−２−リゾ−３
−ホスファチジルイノシトール９０■をジクロルメタン
１０　ｍｌに溶解し、ドコサヘキサエン酸無水物７０■
とジメチルアミノピリジン１０■を加え、室温にて９６
時間反応させた。反応終了後、反応液をイオン交換樹脂
アンバーライト２００Ｇ　（ロームアンドハース社製）
のカラムに通し、ジメチルアミノピリジンを除いた。流
出液を減圧濃縮し、このものを実施例１の工程（ｆ）　
と同様に反応させ、精製することにより、１−アシル−
２−ドコサヘキサノイル−３−ホスファチジルイノシト
ールを１０３■得た。このものは薄層クロマトグラフィ
ーにおいて天然標品と同一のＲ２値であり、かつ１スポ
ツトであった。また、赤外吸収スペクトルも標品のそれ
と一致した。

Ｉ　Ｒ：　３３６０．２９５０．１７３０ｃｍ−’ＮＭ
Ｒ（ＣＤ３０Ｄ、　ｐｐｍ）　：　０．８７（ｔ）　、
１．２７（ｍ）元素分析：　Ｃａ８．　Ｊｑ８．　ｈｏ
ｔ　ｚＰ計算値（％）Ｃ：６３．２、Ｈ：　１０．７実
測値（％）　　Ｃ：　６３．１、Ｈ：　１０．６質量分
析：９０５（１−バルミトイル−２−ドコサヘキサノイ
ル−３−グリセリ ルホスファチジルイノシトール ＋Ｎａ”） ９３３（１−ステアロイル−２−ドコ サヘキサノイル−３−グリセリ ルホスファチジルイノシトール ＋Ｎａ“〕 実施例３ 実施例１の工程（ａ）と同様にして、酵母より抽出した
１、２−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノ
シトール１００■のイノシトール部分の水酸基を保護し
、分離した。水酸基保護１．２−ジアシル−３−ホスフ
ァチジルイノシトール１２０■を得た。次に実施例１の
工程（ｂ）と同様にして、脱アシル化及び精製を行った
。イノシトール部分の水酸基をテトラヒドロピラニール
基で保護した３−グリセリルホスホリルイノシトールを
６５■得た。

次に実施例１の工程（ｃ）に従い、上記反応物６５■を
塩化ステアロイルを用いてアシル化した。

次に実施例１の工程（ｄ）と同様にして、２位のアシル
基を加水分解し、遊離脂肪酸を除去した。

得られた水酸基保護１−ステアロイル−２−リゾ−３−
ホスファチジルイノシトール４２■をジクロロメタン５
−に溶解し、エイコサペンタエン酸無水物３２■とジメ
チルアミノピリジン５■を加え、室温にて１００時間反
応させた。反応終了後、反応液をイオン交換樹脂アンバ
ーライト２００Ｃ（ロームアンドハース社製）のカラム
に通し、ジメチルアミノピリジンを除いた。流出液を減
圧濃縮し、実施例１の工程（ｆ）と同様に反応させ、精
製することにより、１−バルミトイル−２−エイコサペ
ンタニル−３−ホスファチジルイノシトール３０■が得
られた。このものは薄層クロマトグラフィーにおいて天
然標品と同一のＲｆ値であり、かつ１スポツトであった
。

Ｉ　Ｒ：　３３６０．２９５０．１７３０σ−１ＮＭＲ
（ＣＤ３０Ｄ、　　ｐｐｍ）　：　０．８？（ｔ）　　
、１．２７（ｍ）元素分析：　Ｃ４，Ｈｔ４０＋３Ｐ 計算値（％）　　Ｃ：　６３．３、Ｈ：８．７実測値（
％）　　Ｃ：　６３．１、＋（：８．５質量分析：９０
７（１−ステアロイル−２−エイコサペンタノイル−３
−ホスフ ァチジルイノシトール＋Ｎａ）　” ＝３１−

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ及びＲ’は互いに異なるアシル基を表す。） で示される混合酸型１，２−ジアシル−３−グリセリル
   ホスファチジルイノシトールを製造するにあたり、 （ａ）１，２−ジアシル−３−グリセリルホスファチジ
   ルイノシトール分子内のイノシトール部分の水酸基を少
   なくとも２個、保護基で保護する工程、 （ｂ）上記（ａ）工程で水酸基を保護した１，２−ジア
   シル−３−グリセリルホスファチジルイノシトールを脱
   アシル化する工程、 （ｃ）上記（ｂ）工程で脱アシル化した水酸基保護３−
   グリセリルホスファチジルイノシトールに任意のアシル
   基を導入する工程、 （ｄ）上記（ｃ）工程で得られた任意のアシル基を導入
   した、または上記（ａ）工程で得られた水酸基保護１，
   ２−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノシト
   ールに、リパーゼあるいはホスホリパーゼを作用させ、
   水酸基保護モノアシル−３−グリセリルホスファチジル
   イノシトールを得る工程、 （ｅ）上記（ｄ）工程で得られた水酸基保護モノアシル
   −３−グリセリルホスファチジルイノシトールに異なっ
   た任意のアシル基を導入する工程、（ｆ）上記（ｅ）工
   程で得られた水酸基保護混合酸型１，２−ジアシル−３
   −グリセリルホスファチジルイノシトールから保護基を
   脱離させる工程、を含む混合酸型１，２−ジアシル−３
   −グリセリルホスファチジルイノシトールの製造方法。
2. （２）イノシトール部分の水酸基の保護に用いる保護基
   が耐アルカリ性で、還元または酸触媒により脱離工程が
   行われるものである特許請求の範囲第１項記載の混合酸
   型１，２−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイ
   ノシトールの製造方法。