JPH0779707B2 - 混合酸型１，２−ジアシル−３−グリセリルホスフアチジルイノシト−ルの製造法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、混合酸型1,2−ジアシル−３−グリセリルホ
スファチジルイノシトールの製造法に関するものであ
る。

（従来の技術） 1,2−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノシ
トールは天然界に広く存在し、生物の生体内において生
体膜などの重要な構成部分となっているリン脂質の一種
である。その機能はコレステロール代謝作用や末梢血管
保護作用等が挙げられる。

ところで、この1,2−ジアシル−３−グリセリルホスフ
ァチジルイノシトールの生体、ことに生体膜における機
能を明確にするためには、その１位と２位に異種の脂肪
酸残基を有する混合酸型1,2−ジアシル−３−グリセリ
ルホスファチジルイノシトールが必要であるが、従来そ
のような混合酸型1,2−ジアシル−３−グリセリルホス
ファチジルイノシトールを純粋なかたちで製造する方法
がなく、そのために1,2−ジアシル−３−グリセリルホ
スファチジルイノシトールの生化学的機能に関する研究
に支障をきたしていた。

（発明が解決しようとする問題点） 即ち、1,2−ジアシル−３−グリセリルホスファチジル
イノシトールを合成しようとすれば、イノシトールの１
位の水酸基のみを選択的に３−グリセリルホスホリル基
に結合させる必要がある（Zh.Obs.Khim.41,1386（197
1）、Chem.Phys.Lipids25,247（1979）、Zh.Obs.Khim.4
7,2130（1977）、Tetrahedron Letters（８）,587（197
0）参照）。これまでの報告では、何度も水酸基の保護
と生成物の分離を繰り返し行うことにより目的物を得て
いる。しかし、この方法では工程数が非常に多く、収率
も低く、工業化は困難である。さらに混合酸型1,2−ジ
アシル−３−グリセリルホスファチジルイノシトールを
得るには混合酸型ジグリセライドが必要であり、このも
のの合成も非常に複雑な工程を経なければならず、混合
酸型1,2−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイ
ノシトールを合成で得ることはほとんど不可能と考えら
れていた。

（問題点を解決するための手段） 本発明は一般式 （式中、Ｒ及びＲ′は互いに異なるアシル基を表す。） で示される混合型酸1,2−ジアシル−３−グリセリルホ
スファチジルイノシトールを製造するにあたり、 （ａ）1,2−ジアシル−３−グリセリルホスファチジル
イノシトール分子内のイノシトール部分の水酸基を少な
くとも２個、保護基で保護する工程、 （ｂ）上記（ａ）工程で水酸基を保護した1,2−ジアシ
ル−３−グリセリルホスファチジルイノシトールを脱ア
シル化する工程、 （ｃ）上記（ｂ）工程で脱アシル化した水酸基保護３−
グリセリルホスファチジルイノシトールに任意のアシル
基を導入する工程、 （ｄ）上記（ｃ）工程で得られた任意のアシル基を導入
した、または上記（ａ）工程で得られた水酸基保護1,2
−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノシトー
ルに、リパーゼあるいはホスホリパーゼを作用させ、水
酸基保護モノアシル−３−グリセリルホスファチジルイ
ノシトールを得る工程、 （ｅ）上記（ｄ）工程で得られた水酸基保護モノアシル
−３−グリセリルホスファチジルイノシトールに異なっ
た任意のアシル基を導入する工程、 （ｆ）上記（ｅ）工程で得られた水酸基保護混合酸型1,
2−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノシト
ールから保護基を脱離させる工程、 を含む混合酸型ホスファチジルイノシトール類の製造方
法である。

本発明において、原料として用いる1,2−ジアシル−３
−グリセリルホスファチジルイノシトールは、前記一般
式（１）に示されるＲ及びＲ′で表される各種のアシル
が無秩序に配されたものであり、イノシトール部分が異
性体となったもの、および塩の形になったものも含まれ
る。

原料は、天然から得られる動物由来、植物由来、微生物
由来の種類を問わず、いずれのものも使用することがで
きる。特に豊富に含まれているものとしては、動物の脳
および臓器、大豆レシチン、酵母等が挙げられる。

以下、本発明を各工程ごとに説明する。

（ａ）1,2−ジアシル−３−グリセリルホスファチジル
イノシトール分子内のイノシトール部分の水酸基を保護
基で保護する工程 本発明ではまず原料となる1,2−ジアシル−３−グリセ
リルホスファチジルイノシトール分子内のイノシトール
部分の水酸基を保護基で完全に、または部分的に保護す
る。

イノシトール部分の水酸基の保護は後の工程を考慮し
て、耐アルカリ性を有する保護基によるのが好ましく、
特に還元または酸触媒等の反応により脱離できる保護基
によるのがより好ましい。水酸基の保護は1,2−ジアシ
ル−３−グリセリルホスファチジルイノシトールのイノ
シトール部分の水酸基５個のうち、すべてを完全に保護
してもよいが、保護基の脱離のし易さおよび保護基剤の
コストを考え、部分的に保護することもできる。部分保
護の場合は、導入される保護基の数が少な過ぎると、イ
ノシトール部分にまでアシル化が及んでしまうため、最
低必要な保護基数は２個であり、それ未満の場合には目
的とする1,2−ジアシル−３−グリセリルホスファチジ
ルイノシトールを製造することはできない。

アシル基に不飽和脂肪酸を導入する場合、還元により脱
離する保護基で保護すると、不飽和酸の二重結合に影響
を及ぼすため、酸触媒等により脱離する保護基を用いる
ことが望ましい。しかし、還元により脱離する保護基を
使用する場合、二重結合部分を臭素等で保護する工程を
付し、保護基を脱離させた後に臭素を外すことにより、
目的とする1,2−ジアシル−３−グリセリルホスファチ
ジルイノシトールを製造することが可能となる。

保護基としては、例えば水酸基と結合してベンジルエー
テル、テトラヒドロピラニールエーテル、テトラヒドロ
チオピラニールエーテル、テトラヒドロフラニールエー
テル、４−メトキシテトラヒドロピラニールエーテル、
１−エトキシエチルエーテル、トルフェニルメチルエー
テル、トリメチルシリルエーテル等のエーテル類；メチ
レンアセタール、イソプロピリデンアセタール、ベンジ
リデンアセタール類；イソブチル炭酸エステル、フェニ
ル炭酸エステル、2,2,2−トリクロロエチル炭酸エステ
ル等の炭酸エステル類を形成するものを挙げることがで
きる。

水酸基を保護する反応は、糖および環状アルコールの反
応に一般に採用されている反応を適用することができ
る。例えば、ベンジル化の場合は、溶媒としてジメチル
スルホキサイド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン等のよく脱水したものを使用
し、水素化ナトリウムや金属ナトリウム等を用いてアル
カリ金属のアルコラートを形成させ、続いてハロゲン化
ベンジルを加えることにより、ベンジルエーテルを形成
し、水酸基をベンジル基で保護することができる。ま
た、テトラヒドロピラニール化の場合は、溶媒としてジ
クロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ベンゼン等
の1,2−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノ
シトールをよく溶解または分散するものを使用し、触媒
として酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン
酸、H⁺型イオン交換樹脂等の酸を使用し、3,4−ジヒド
ロ−α−ピランと攪拌下に反応させることにより、テト
ラヒドロピラニールエーテルを形成し、水酸基を保護す
ることができる。他の反応も上記に準じて行うことがで
きる。反応温度は保護基の種類により−20〜150℃の範
囲で使用するが、基質の安定性から−20〜40℃が最も好
ましい。反応時間は15分〜数日間の範囲で適宜選択する
ことができる。反応後適量の水で洗浄し、溶媒を除いた
後、得られた生成物をそのまま、または薄層クロマトグ
ラフィーあるいはカラムクロマトグラフィーにより精製
して次の工程、あるいは（ｄ）工程に移ることができ
る。

（ｂ）水酸基を保護した1,2−ジアシル−３−グリセリ
ルホスファチジルイノシトールを脱アシル化する工程 （ａ）工程で水酸基を保護した1,2−ジアシル−３−グ
リセリルホスファチジルイノシトールを、この工程で脱
アシル化して３−グリセリルホスホリルイノシトールを
生成させる。

水酸基を保護した1,2−ジアシル−３−グリセリルホス
ファチジルイノシトールの脱アシル化は、テトラブチル
アンモニウムヒドロキサイド等の四級アルキルアンモニ
ウム水酸化物、あるいはアルカリ金属などを使用してア
ルコーリシスすることにより行うことができるが、低濃
度のアルカリ等で穏やかに加水分解しても良い。

脱アシル化反応に使用する溶媒としては、クロロホル
ム、ジクロロメタン、四塩化炭素、エーテル等がある
が、必要に応じてメタノール、エタノール等の親水性溶
媒との混合溶媒を使用することもできる。反応温度は０
〜100℃の範囲が好ましいが、基質の安定性から０〜40
℃が特に好ましい。反応時間は15分〜数日間の範囲で適
当な時間を選択すればよい。反応後適量の水で数度洗浄
し、溶媒を除いた後、得られた生成物をそのまま、また
は薄層クロマトグラフィーあるいはカラムクロマトグラ
フィーにより精製して次の工程に移ることができる。

（ｃ）脱アシル化した水酸基保護の３−グリセリルホス
ファチジルイノシトールに任意のアシル基を導入する工
程 この工程では、（ｂ）工程において生成した３−グリセ
リルホスファチジルイノシトールに任意のアシル基を導
入して、水酸基保護1,2−ジアシル−３−グリセリルホ
スファチジルイノシトールを生成させる。導入するアシ
ル基としては、天然もしくは合成の直鎖状、分枝状また
は環状の炭素数１〜30の飽和または不飽和カルボン酸の
アシル基があり、任意のものを導入することができる。
上記カルボン酸としては、例えば酢酸、プロピオン酸、
酪酸、カプロン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミ
チン酸、ステアリン酸、アラキン酸、ベヘン酸等の直鎖
飽和カルボン酸；パルミトオレイン酸、オレイン酸、エ
ライジン酸、エルシン酸、リノール酸、リノレン酸、エ
イコサペンタエン酸、ドコサヘチサエン酸、アラキドン
酸、10,12−オクタデカジエン酸、2,4−オクタデカジエ
ン酸、10,12−ヘプタデカジイン酸、2,4−ナノデカジイ
ン酸等の直鎖不飽和カルボン酸；イソ酪酸、イソ吉草
酸、メチルステアリン酸、プリスタン酸等の分枝状カル
ボン酸；フラン酸、マルバリン酸、ヒドノカルピン酸、
シヨールムーグリン酸、ゴルリン酸、安息香酸、ｐ−メ
チルフェニルプロピオン酸、ｐ−ビニルフェニルヘキサ
ン酸等の環状カルボン酸などを挙げることができる。こ
れらのカルボン酸を目的に応じ、単独であるいは自由に
組み合わせて用いることができる。

アシル基を導入する反応方法は、例えば上記カルボン酸
を酸無水物、酸ハロゲン化物、脂肪酸イミダゾール化物
等の活性アシル化状態にしたものをアシル化剤とし、水
酸基を保護した３−グリセリルホスファチジルイノシト
ールのグリセリル部分の水酸基と反応させる。アシル化
剤の添加量は反応基質に対し、１〜20当量、好ましくは
１〜５当量とするのが良い。

反応に使用する触媒は塩基性触媒が用いられ、好ましく
は1,2−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノ
シトールの異性化を生じさせない穏やかなものがよい。
アシル化剤に酸無水物、酸ハロゲン化物を使用する場
合、触媒としてはピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチル−４−ア
ミノピリジン、N,N−ジメチル−４−アミノ−２−メチ
ルピリジン、４−ピロリジノピロリジン等のピリジン誘
導体、およびトリエチルアミン、トリブチルアミン等の
三級アミン類等が使用できるが、酸無水物の場合には、
N,N−ジメチル−４−アミノピリジンまたは４−ピロリ
ジノピロリジン、酸ハロゲン化物の場合にはピリジンが
好ましい。脂肪酸イミダゾール化物を使用する場合は、
イミダゾールナトリウム、トリアゾールナトリウム、ベ
ンツイミダゾールナトリウムなどの含窒素五員複素環状
化合物誘導体のアルカリ塩が使用できるが、なかでもイ
ミダゾールナトリウムが好ましい。触媒の添加量は原料
に対し0.01〜20当量程度、好ましくは0.1〜２当量が良
い。

溶媒としてはクロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭
素等のハロゲン化炭素水素、ベンゼン、トルエン等の芳
香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素；酢酸
エチル、酢酸プロピル等のエステル；ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン等のエーテル類などを用いるこ
とができ、これらの溶媒は乾燥していることが好まし
い。

アシル化反応は０〜80℃程度、好ましくは10〜50℃の範
囲で行うことができ、通常15分〜数日間、好ましくは30
分〜３日間で終了し、目的とする任意のアシル基で組み
換えた水酸基保護の1,2−ジアシル−３−グリセリルホ
スファチジルイノシトールを得ることができる。また反
応系は必ずしもではないが、特にアシル基に高度不飽和
脂肪酸を用いる場合は、窒素、アルゴン等の不活性ガス
気流下で行うことが好ましい。反応後よく水洗し、溶媒
を除いた後、そのまま、または薄層クロマトグラフィー
あるいはカラムクロマトグラフィーにより精製して次の
工程に移ることができる。

（ｄ）水酸基保護1,2−ジアシル−３−グリセリルホス
ファチジルイノシトールにリパーゼあるいはホスホリパ
ーゼを作用させ、水酸基保護モノアシル−３−グリセリ
ルホスファチジルイノシトールを得る工程 この工程では（ａ）で得られたか、または（ｃ）で得ら
れた水酸基保護1,2−ジアシル−３−グリセリルホスフ
ァチジルイノシトールの１位あるいは２位のアシル基を
脱アシル化するものである。脱アシル化の触媒としては
酵素を用いる。１位を脱アシル化する場合には、グリセ
リル基の１、３位に特異的に作用するリパーゼあるいは
ホスホリパーゼA₁を用いる。この種のリパーゼとして
は、リゾプス・デレマル、リゾプス・アリズス、ムコー
ル・ジャバニクス等の微生物由来リパーゼ、パンクレア
チン等が挙げられる。また、ホスホリパーゼA₁としては
各種バクテリア（大腸菌、ミコバクテリウム・フレイ、
巨大菌、枯草菌等）または動物の各種臓器から得られる
ものを用いる。

２位を脱アシル化する場合には、ホスホリパーゼA₂を用
いる。ホスホリパーゼA₂としては、蛇毒（クロタルス・
アダマンテウス（Crotalus adamanteus）、インドコブ
ラ、ハブなどの毒）、ハチ毒（ミツバチなどの毒）、ト
カゲ毒（ヘロデルマ・ホリズム（Heloderma horidum）
などの毒）、サソリ毒（レウルス・キンケス・トリアツ
ス（Leurus quinques triatus）などの毒）、または動
物の各種臓器などから得られるものを使用する。

脱アシル化に際しては、水酸基保護1,2−ジアシル−３
−グリセリルホスファチジルイノシトールをエーテル、
クロロホルム等の溶媒に溶かし、緩衝液（pH7〜８）お
よび賦活剤（例えば塩化カルシウム液）存在下に適当な
酵素を作用させる。反応温度は０〜80℃程度、好ましく
は10〜60℃の範囲で行うことができ、通常15分〜数日
間、好ましくは30分〜３日間で終了し、目的とする水酸
基保護モノアシル−３−グリセリルホスファチジルイノ
シトールが得られる。

（ｅ）水酸基保護モノアシル−３−グリセリルホスファ
チジルイノシトールをアシル化する工程 この工程では（ｃ）工程で列記した方法のなかのいずれ
かを使用し、アシル化を行う。使用するアシル化剤は目
的に応じ適宜選ぶことができる。

（ｆ）水酸基保護混合酸型1,2−ジアシル−３−グリセ
リルホスファチジルイノシトールから保護基を脱離させ
る工程 イノシトール部分の水酸基を保護し、かつ任意のアシル
基に組み換えた1,2−ジアシル−３−グリセリルホスフ
ァチジルイノシトールから保護基を脱離させ、目的とす
る1,2−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノ
シトールを得る。この保護基の脱離は還元もしくは酸を
用いて、アシル基が脱離しない条件下で行う。還元によ
り脱離する保護基を使用した場合、反応は水素による接
触還元が一般的であるが、もっと穏やかなギ酸、ギ酸ア
ンモニウム、シクロヘキサジエン等を水素供給源とした
還元反応を用いることもできる。

溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル等のエーテル類を使用することができ、触媒にはパ
ラジウム、酸化パラジウム、パラジウム−カーボン等を
用いることができる。触媒添加量は、イノシトール部分
を保護する保護基１モルにつき10〜100gのパラジウム量
が好ましい。

反応は水酸基を保護し、任意の脂肪酸を組み換えた1,2
−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノシトー
ルを適当な溶媒に溶解し、触媒を添加後、触媒還元の場
合には水素を吹き込み攪拌すればよく、ギ酸、ギ酸アン
モニウム、シクロヘキサジエン等の助触媒を用いる場合
は、この助触媒を基質中の保護基１モルについて１〜20
当量添加し、不活性ガス気流下で攪拌することにより得
ることができる。この反応は温度−20〜80℃で行い、好
ましくは０〜40℃が良い。10分〜５時間で反応は終了
し、後処理として、固形物を濾過により除き、濾液を水
でよく洗浄し、乾燥後溶媒を除き、さらに薄層クロマト
グラフィーまたはカラムクトマトグラフィーにより精製
し、目的とする任意のアシル基に組み換えた1,2−ジア
シル−３−グリセリルホスファチジルイノシトールを得
ることができる。

保護基に酸触媒により脱離するものを用いた場合には、
溶媒はクロロホルム、ジクロロメタン、ベンゼン、テト
ラヒドロフラン、ジメチルスルホキサイド等の基質をよ
く溶解または分散するものであればよい。酸触媒には、
塩酸、硫酸、硝酸、ホウ酸等の無機酸、および酢酸、ｐ
−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の有機酸、
ならびにH⁺型のイオン交換樹脂を用いることができる。
酸触媒の添加量は、分子内の保護基１モルに対し、上記
の酸0.1〜５当量使用すればよく、好ましくは0.5〜２当
量が良い。５分〜数日間の適当な時間を反応時間とする
ことができ、反応温度は−20〜100℃の間で行うことが
できるが、基質の安定性を考慮すると、０〜40℃で15分
〜５時間の反応が好ましい。反応後水でよく洗浄し、乾
燥後溶媒を除き、さらに薄層クロマトグラフィーまたは
カラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする任
意のアシル基に組み換えた1,2−ジアシル−３−グリセ
リルホスファチジルイノシトールを得ることができる。

このようにして、目的物である任意のアシル基に組み換
えた新規な1,2−ジアシル−３−グリセリルホスファチ
ジルイノシトールを得ることができるが、全反応工程を
通しての収率は50％以上という良好な結果が得られる。

こうして得られる1,2−ジアシル−３−グリセリルホス
ファチジルイノシトールは天然の1,2−ジアシル−３−
グリセリルホスファチジルイノシトールの構造をそのま
ま保持し、アシル基のみが組み換えられた構造であるた
め、組み換えられたアシル基に応じた目的に使用され
る。即ち、これら一連の混合酸型1,2−ジアシル−３−
グリセリルホスファチジルイノシトールは、医薬として
有用であるばかりでなく、その生化学的研究、特にそれ
らの代謝研究にも極めて大きな価値を有するものであ
る。

（発明の効果） 本発明によれば、前記（ａ）〜（ｆ）工程により1,2−
ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノシトール
を製造するため、次のような効果が得られる。

（１）天然に存在する1,2−ジアシル−３−グリセリル
ホスファチジルイノシトールの構造をそのまま保持し
て、アシル基のみを組み換えることができる。

（２）全合成をする場合に比べて工程の数が少なく、工
業的製造方法として用いることができる。

（３）製造工程中において精製する際、1,2−ジアシル
−３−グリセリルホスファチジルイノシトールが有効に
濃縮されるため、原料中の1,2−ジアシル−３−グリセ
リルホスファチジルイノシトールの純度を高める必要が
ない。

（実施例） 以下、実施例に基づき本発明を具体的に説明する。

実施例１ （ａ）イノシトール部分の水酸基を保護する工程 酵母から抽出された粗1,2−ジアシル−３−グリセリル
ホスファチジルイノシトール300mgをクロロホルム30gに
溶解し、3,4−ジヒドロ−α−ピラン0.5g、ｐ−トルエ
ンスルホン酸6mgを加え、室温下３時間攪拌後、５％炭
酸水素ナトリウム水溶液50mlで２回洗浄した。無水硫酸
ナトリウムで乾燥後濾過し、減圧濃縮した。この反応物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（φ２×10cm）
で、溶媒としてクロロホルム：メタノール＝9:1を用い
て分離し、水酸基を部分的に保護した1,2−ジアシル−
３−グリセリルホスファチジルイノシトール371mgを得
た。このものは、薄層クロマトグラフィーのR_f値が0.84
（展開溶媒 クロロホルム：メタノール：水（65:25:
4）であった。

（ｂ）脱アシル化工程 上記（ａ）の工程で得られた反応物を30gのクロロホル
ムに溶解後、0.33M水酸化カリウム−メタノール溶液10m
lを加え、室温で15分攪拌した。反応終了後、水9mlを加
え洗浄し、クロロホルム層の減圧濃縮物をシリカゲルク
ロマトグラフィー（φ２×10cm）を用い、溶媒にクロロ
ホルム：メタノール7:3を用い、イノシトール部分の水
酸基をテトラヒドロピラニール基で部分保護した３−グ
リセリルホスホリルイノシトールを分離し、濃縮して20
4mgの反応物を得た。このものは、薄層クロマトグラフ
ィーのR_f値が0.17（展開溶媒クロロホルム：メタノー
ル：水＝65:25:4）で、質量分析では609〔GPI＋3THP＋N
a〕⁺、693〔GPI＋4THP＋Na〕⁺、777〔GPI＋5THP＋Na〕⁺
（GPI:グリセリルホスホイノシトール、THP:テトラヒド
ロピラニール基）が測定された。

（ｃ）任意のアシル基を導入する工程 上記（ｂ）の工程で得られた反応物90mgをクロロホルム
15gに溶解し、ピリジン40mg、0.073M塩化パルミトイル
−クロロホルム溶液3mlを加え、４時間攪拌後、水洗
し、減圧濃縮をした。

（ｄ）２位のアシル基を加水分解する工程 上記（ｃ）の工程で得られた反応混合物をクロロホルム
15gに溶解し、これにインドコブラの毒から得られたホ
スホリパーゼA₂1mgを水1mlに溶かした溶液0.2Mトリス緩
衝液（pH7.2）1mlおよび0.1MCaCl₂溶液0.3mlを加え、室
温で４時間反応させた。この反応液を減圧濃縮し、つい
で少量のベンゼンを加えてさらに濃縮して水分を完全に
除去した。得られた残渣をクロロホルムに溶解し、不溶
物を除去する。

（ｅ）２位に任意のアシル基を導入する工程 上記（ｄ）で得られた反応物んにピリジン20mg、0.073M
塩化リノレオイル−クロロホルム溶液2mlを加え、４時
間攪拌後、水洗し、減圧濃縮した。

（ｆ）保護基を脱離させる工程 上記（ｅ）で得られた反応物をクロロホルム：メタノー
ル＝2:1、10mlに溶解し、氷冷下で0.5N塩酸200μｌを滴
下し、４時間攪拌した。反応終了後、30mlの水で２回洗
浄し、減圧濃縮した。シリカゲルクロマトグラフィー
（φ２×15）で溶媒にクロロホルム：メタノール：水＝
65:25:4を用いて精製することにより、１−パルミトイ
ル−２−リノレオイル−３−ホスファチジルイノシトー
ル80mgを得た。

このものは、薄層クロマトグラフィーにて分析したとこ
ろ、天然標品と同一のR_f値でワンスポットであった。ま
た、質量分析では859〔１−パルミトイル−２−リノレ
オイル−３−グリセリルホスファチジルイノシトール＋
Na〕⁺が測定された。

IR:3390、2950、1730、1460cm^-1 NMR（CDCl₃,ppm）:0.87（ｔ）,1.26（ｍ） 元素分析：C₄₃H₇₉O₁₃P 計算値（％） C:61.7、H:9.5 実測値（％） C:61.5、H:9.4 実施例２ 実施例１の工程（ａ）と同様にして、酵母より抽出した
1,2−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノシ
トール100mgのイノシトール部分の水酸基を保護し、分
離した。水酸基保護1,2−ジアシル−３−ホスファチジ
ルイノシトール120mgを得た。次に実施例１の工程
（ｄ）と同様にして、２位のアシル基を加水分解する。
即ち、上記反応物をエチルエーテル10mlに溶解し、イン
ドコブラの毒からのホスホリパーゼA₂1mgを水1mlに溶か
した溶液と0.2Mトリス緩衝液（pH7.2）1mlおよび0.1MCa
Cl₂溶液0.3mlを加え、室温にて３時間反応させた。この
反応液を減圧濃縮し、ついで少量のベンゼンを加えてさ
らに濃縮して水分を完全に除去した。得られた残渣をエ
チルエーテルに溶解し、不溶物を濾別した。

次にシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、クロ
ロホルム：メタノール＝9:1を用いて遊離脂肪酸を除去
した。得られた水酸基保護１−アシル−２−リゾ−３−
ホスファチジルイノシトール90mgをジクロルメタン10ml
に溶解し、ドコサヘキサエン酸無水物70mgとジメチルア
ミノピリジン10mgを加え、室温にて96時間反応させた。
反応終了後、反応液をイオン交換樹脂アンバーライト20
0C（ロームアンドハース社製）のカラムに通し、ジメチ
ルアミノピリジンを除いた。流出液を減圧濃縮し、この
ものを実施例１の工程（ｆ）と同様に反応させ、精製す
ることにより、１−アシル−２−ドコサヘキサノイル−
３−ホスファチジルイノシトールを103mgを得た。この
ものは薄層クロマトグラフィーにおいて天然標品と同一
のR_f値であり、かつ１スポットであった。また、赤外吸
収スペクトルも標品のそれと一致した。

IR:3360、2950、1730cm^-1 NMR（CD₃OD,ppm）:0.87（ｔ）、1.27（ｍ） 元素分析：C_48.3H_98.6O₁₃P 計算値（％） C:63.2、H:10.7 実測値（％） C:63.1、H:10.6 質量分析:905〔１−パルミトイル−２−ドコサヘキサノ
イル−３−グリセリルホスファチジルイノシトール＋Na
⁺〕 933〔１−ステアロイル−２−ドコサヘキサ
ノイル−３−グリセリルホスファチジルイノシトール＋
Na⁺〕 実施例３ 実施例１の工程（ａ）と同様にして、酵母より抽出した
1,2−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノシ
トール100mgのイノシトール部分の水酸基を保護し、分
離した。水酸基保護1,2−ジアシル−３−ホスファチジ
ルイノシトール120mgを得た。次に実施例１の工程
（ｂ）と同様にして、脱アシル化及び精製を行った。イ
ノシトール部分の水酸基をテトラヒドロピラニール基で
保護した３−グリセリルホスホリルイノシトールを65mg
得た。

次に実施例１の工程（ｃ）に従い、上記反応物65mgを塩
化ステアロイルを用いてアシル化した。

次に実施例１の工程（ｄ）と同様にして、２位のアシル
基を加水分解し、遊離脂肪酸を除去した。得られた水酸
基保護１−ステアロイル−２−リゾ−３−ホスファチジ
ルイノシトール42mgをジクロロメタン5mlに溶解し、エ
イコサペンタエン酸無水物32mgとジメチルアミノピリジ
ン5mgを加え、室温にて100時間反応させた。反応終了
後、反応液をイオン交換樹脂アンバーライト200C（ロー
ムアンドハース社製）のカラムに通し、ジメチルアミノ
ピリジンを除いた。流出液を減圧濃縮し、実施例１の工
程（ｆ）と同様に反応させ、精製することにより、１−
パルミトイル−２−エイコサペンタニル−３−ホスファ
チジルイノシトール30mgが得られた。このものは薄層ク
ロマトグラフィーにおいて天然標品と同一のR_f値であ
り、かつ１スポットであった。

IR:3360、2950、1730cm^-1 NMR（CD₃OD,ppm）:0.87（ｔ）、1.27（ｍ） 元素分析：C₄₅H₇₄O₁₃P 計算値（％） C:63.3、H:8.7 実測値（％） C:63.1、H:8.5 質量分析:907〔１−ステアロイル−２−エイコサペンタ
ノイル−３−ホスファチジルイノシトール＋Na〕⁺

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 （式中、Ｒ及びＲ′は互いに異なるアシル基を表す。） で示される混合酸型1,2−ジアシル−３−グリセリルホ
   スファチジルイノシトールを製造するにあたり、 （ａ）1,2−ジアシル−３−グリセリルホスファチジル
   イノシトール分子内のイノシトール部分の水酸基を少な
   くとも２個、保護基で保護する工程、 （ｂ）上記（ａ）工程で水酸基を保護した1,2−ジアシ
   ル−３−グリセリルホスファチジルイノシトールを脱ア
   シル化する工程、 （ｃ）上記（ｂ）工程で脱アシル化した水酸基保護３−
   グリセリルホスファチジルイノシトールに任意のアシル
   基を導入する工程、 （ｄ）上記（ｃ）工程で得られた任意のアシル基を導入
   した水酸基保護1,2−ジアシル−３−グリセリルホスフ
   ァチジルイノシトールに、リパーゼあるいはホスホリパ
   ーゼを作用させ、水酸基保護モノアシル−３−グリセリ
   ルホスファチジルイノシトールを得る工程、 （ｅ）上記（ｄ）工程で得られた水酸基保護モノアシル
   −３−グリセリルホスファチジルイノシトールに異なっ
   た任意のアシル基を導入する工程、 （ｆ）上記（ｅ）工程で得られた水酸基保護混合酸型1,
   2−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノシト
   ールから保護基を脱離させる工程、を含む混合酸型1,2
   −ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノシトー
   ルの製造方法。
2. 【請求項２】イノシトール部分の水酸基の保護に用いる
   保護基が耐アルカリ性で、還元または酸触媒により脱離
   工程が行われるものである特許請求の範囲第１項記載の
   混合酸型1,2−ジアシル−３−グリセリルホスファチジ
   ルイノシトールの製造方法。
3. 【請求項３】一般式 （式中、Ｒ及びＲ′は互いに異なるアシル基を表す。） で示される混合酸型1,2−ジアシル−３−グリセリルホ
   スファチジルイノシトールを製造するにあたり、 （ａ）1,2−ジアシル−３−グリセリルホスファチジル
   イノシトール分子内のイノシトール部分の水酸基を少な
   くとも２個、保護基で保護する工程、 （ｄ）上記（ａ）工程で得られた水酸基保護1,2−ジア
   シル−３−グリセリルホスファチジルイノシトールに、
   リパーゼあるいはホスホリパーゼを作用させ、水酸基保
   護モノアシル−３−グリセリルホスファチジルイノシト
   ールを得る工程、 （ｅ）上記（ｄ）工程で得られた水酸基保護モノアシル
   −３−グリセリルホスファチジルイノシトールに異なっ
   た任意のアシル基を導入する工程、 （ｆ）上記（ｅ）工程で得られた水酸基保護混合酸型1,
   2−ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノシト
   ールから保護基を脱離させる工程、を含む混合酸型1,2
   −ジアシル−３−グリセリルホスファチジルイノシトー
   ルの製造方法。
4. 【請求項４】イノシトール部分の水酸基の保護に用いる
   保護基が耐アルカリ性で、還元または酸触媒により脱離
   工程が行われるものである特許請求の範囲第３項記載の
   混合酸型1,2−ジアシル−３−グリセリルホスファチジ
   ルイノシトールの製造方法。