JPS63157309A - 垂直磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
垂直磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPS63157309A JPS63157309A JP30285286A JP30285286A JPS63157309A JP S63157309 A JPS63157309 A JP S63157309A JP 30285286 A JP30285286 A JP 30285286A JP 30285286 A JP30285286 A JP 30285286A JP S63157309 A JPS63157309 A JP S63157309A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は，垂直磁気記録用ヘッドの製造方法に関する。
垂直磁気記録用ヘッドとしての主磁極膜の特性は，おも
にガラス基板ならびに結晶化ガラス基板上で測定されて
いる。しかし実際にヘッドとして使用する場合には，ヘ
ッド構造に合わせた基板上に主磁極膜を形成する必要が
ある。現在考えられている基板としてはフェライトとセ
ラミックの複合物があげられる。そのヘッドの構造なら
びに作成工程について詳しく説明する。
にガラス基板ならびに結晶化ガラス基板上で測定されて
いる。しかし実際にヘッドとして使用する場合には，ヘ
ッド構造に合わせた基板上に主磁極膜を形成する必要が
ある。現在考えられている基板としてはフェライトとセ
ラミックの複合物があげられる。そのヘッドの構造なら
びに作成工程について詳しく説明する。
垂直記録方式によるヘッドの構造を第１図および第２図
に示す。主磁極膜１はＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂの薄膜よシなる
。この主磁極膜１は，非磁性材であるセラミック２と磁
性材であるフェライト３上にスノソツタ，，蒸着，イオ
ングレーティング等で形成され。
に示す。主磁極膜１はＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂの薄膜よシなる
。この主磁極膜１は，非磁性材であるセラミック２と磁
性材であるフェライト３上にスノソツタ，，蒸着，イオ
ングレーティング等で形成され。
もう一方のセラミック２′およびフェライト３′に接着
されて保持されている。ここでセラミック２。
されて保持されている。ここでセラミック２。
２′はスライダ一部として媒体に接触するためにＲ研磨
もしくは球面研磨が施こされている。またフエライト３
，３′には巻線溝部４，４′が形成されている。これら
の巻線溝部４，４′にはさまれている部分７，７′が補
助磁極としてはたらき，またその外側の部分８，８′が
リターン１９フ部としてはたらくことになる。
もしくは球面研磨が施こされている。またフエライト３
，３′には巻線溝部４，４′が形成されている。これら
の巻線溝部４，４′にはさまれている部分７，７′が補
助磁極としてはたらき，またその外側の部分８，８′が
リターン１９フ部としてはたらくことになる。
次にこのヘッドの作成工程について詳細に説明する。第
３図において、所望の大きさのセラミック２の片面（下
面）を鏡面研磨する。一方、所望の大きさのフェライト
３には巻線溝部４の加工を施こしかつ片面（上面）を鏡
面研磨する。次に第４図に示すように、セラミック２と
フェライト３とを、ガラスあるいは結晶化ガラスもしく
は樹脂等の接着層９を介して接着する。次工程として。
３図において、所望の大きさのセラミック２の片面（下
面）を鏡面研磨する。一方、所望の大きさのフェライト
３には巻線溝部４の加工を施こしかつ片面（上面）を鏡
面研磨する。次に第４図に示すように、セラミック２と
フェライト３とを、ガラスあるいは結晶化ガラスもしく
は樹脂等の接着層９を介して接着する。次工程として。
第５図に示すように主磁極膜を形成する面１０の鏡面研
磨を行う。すなわち面１０は、セラミック２、フェライ
ト３．接着層９の複合物（基板）１４の面である。次に
第６図に示すように、主磁極膜１となるＣｏ−Ｚｒ−Ｎ
ｂの薄膜をスノにツタもしくは蒸着イオンシレーティン
グ等で所望の膜厚に形成する。さらに第７図を参照して
、主磁極膜１が所望の形体トラック寸法になるように、
フォトエツチングを利用しマスクツクタンを形成し主磁
極膜１を塩酸等の強酸でエツチングを行う。次に第８図
を参照して、主磁極膜が形成されていない複合物（基板
）１４′と主磁極膜が形成された複合物１４を行い、第
９図の破線１１に沿って切断することによシ、ヘッドコ
アチップとする。尚Ｒ研磨もしくは球面研磨は、コアチ
ップの段階でなく２両側をスライダーではさみ込んでか
ら、すなわちヘッド形体にしてからも可能である。
磨を行う。すなわち面１０は、セラミック２、フェライ
ト３．接着層９の複合物（基板）１４の面である。次に
第６図に示すように、主磁極膜１となるＣｏ−Ｚｒ−Ｎ
ｂの薄膜をスノにツタもしくは蒸着イオンシレーティン
グ等で所望の膜厚に形成する。さらに第７図を参照して
、主磁極膜１が所望の形体トラック寸法になるように、
フォトエツチングを利用しマスクツクタンを形成し主磁
極膜１を塩酸等の強酸でエツチングを行う。次に第８図
を参照して、主磁極膜が形成されていない複合物（基板
）１４′と主磁極膜が形成された複合物１４を行い、第
９図の破線１１に沿って切断することによシ、ヘッドコ
アチップとする。尚Ｒ研磨もしくは球面研磨は、コアチ
ップの段階でなく２両側をスライダーではさみ込んでか
ら、すなわちヘッド形体にしてからも可能である。
上記の工程を経て垂直ヘッドを作成する。その場合、第
７図に示した主磁極膜１の・ぐターニングはフェライト
、セラミック、接着層の複合物１４に行なわれるという
ことに起因して次の問題が発生している。
７図に示した主磁極膜１の・ぐターニングはフェライト
、セラミック、接着層の複合物１４に行なわれるという
ことに起因して次の問題が発生している。
■ フェライトの腐食、すなわちフェライトの鏡面部の
エツチングが発生する。
エツチングが発生する。
■ Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ薄膜のエツチング速度がフェライ
ト上とセラミック上とで違うため、フェライト部分のエ
ツチング速度に合わせたエツチングを行うとセラミック
部分にＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂ薄膜のエッチ残が発生じ、また
セラミック部分のエツチング速度に合わせたエツチング
を行うとフェライト部分のＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂ薄膜がアン
ダーカット（サイドエツチング）され、主磁極膜１のパ
ターンが細くなってしまうという問題点が発生した。
ト上とセラミック上とで違うため、フェライト部分のエ
ツチング速度に合わせたエツチングを行うとセラミック
部分にＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂ薄膜のエッチ残が発生じ、また
セラミック部分のエツチング速度に合わせたエツチング
を行うとフェライト部分のＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂ薄膜がアン
ダーカット（サイドエツチング）され、主磁極膜１のパ
ターンが細くなってしまうという問題点が発生した。
このように、垂直磁気ヘッドでは主磁極膜（Ｃｏ−Ｚｒ
−Ｎｂ薄膜）の特性が非常に重要になる。とりわけ主磁
極の形体やトラック巾の寸法等がミクロンオーダーでの
制御を必要とするのに対し、フォトレジストのマスクパ
ターンを上記ミクロンオーダーで制御したとしても２次
工程、すなわち。
−Ｎｂ薄膜）の特性が非常に重要になる。とりわけ主磁
極の形体やトラック巾の寸法等がミクロンオーダーでの
制御を必要とするのに対し、フォトレジストのマスクパ
ターンを上記ミクロンオーダーで制御したとしても２次
工程、すなわち。
主磁極膜（Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ薄膜）のエツチングにおい
て。
て。
複合物上の主磁極膜（Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ薄膜）のエツチ
ング速度が部分的に違うことから、・クターンの細りあ
るいはエッチ残等が生じるため、所望の形体ならびに所
望のツクタン巾が得られないという問題点がある。また
補強磁極となるフェライト部分が塩酸等の強酸でエツチ
ングされてしまうため信頼性の上でも問題がある。
ング速度が部分的に違うことから、・クターンの細りあ
るいはエッチ残等が生じるため、所望の形体ならびに所
望のツクタン巾が得られないという問題点がある。また
補強磁極となるフェライト部分が塩酸等の強酸でエツチ
ングされてしまうため信頼性の上でも問題がある。
それ故に本発明の技術的課題は、主磁極膜を所望の形体
トラック巾に形成できる磁気ヘッドの製造方法を提供す
ることにある。
トラック巾に形成できる磁気ヘッドの製造方法を提供す
ることにある。
本発明によれば、２以上の異なる材質からなる基板とＣ
ｏ−Ｚｒ−Ｎｂの薄膜よりなる主磁極膜とを有する垂直
磁気記録用ヘッドの製造方法において、上記基板上に耐
酸性にすぐれた非磁性薄膜を形成し。
ｏ−Ｚｒ−Ｎｂの薄膜よりなる主磁極膜とを有する垂直
磁気記録用ヘッドの製造方法において、上記基板上に耐
酸性にすぐれた非磁性薄膜を形成し。
その上にＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂの薄膜を形成し、酸性の薬品
でこれによると、複合物基板でありながら、見かげ上半
−基板上でエツチングが行なわれることになるため、エ
ツチング速度に違いは見られなく。
でこれによると、複合物基板でありながら、見かげ上半
−基板上でエツチングが行なわれることになるため、エ
ツチング速度に違いは見られなく。
またこの耐酸性にすぐれた非磁性層がエツチング時に保
護膜となり、補助磁極となるフェライトのエツチングを
おさえることになる。
護膜となり、補助磁極となるフェライトのエツチングを
おさえることになる。
本発明による実施例を下記に示す。第５図に示す複合物
１４を得るまでの工程は従来と同様である。さらにこの
複合物１４の研磨した面１０に。
１４を得るまでの工程は従来と同様である。さらにこの
複合物１４の研磨した面１０に。
第１０図に示す如（５ｉ０２等の耐酸性の優れた非磁性
材薄膜１３をス・七ツタで形成し、その上に第１１図に
示す如（Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ薄膜よりなる主磁極膜ｌを０
．３μｍでス・ぐツタを用い形成する。さらに第１２図
に示すようにフォトレジスト膜１２を全面に塗布する。
材薄膜１３をス・七ツタで形成し、その上に第１１図に
示す如（Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ薄膜よりなる主磁極膜ｌを０
．３μｍでス・ぐツタを用い形成する。さらに第１２図
に示すようにフォトレジスト膜１２を全面に塗布する。
その次に７オトレジストで、第１３図に示すように所望
の形体（ここでは複合物すべてにかかる棒状ン、トラッ
ク幅（ここでは０，１ｍ）に形成する。その後、 ＨＣ
ｌ ： Ｈ２Ｏ２： Ｈ２Ｏ＝１：１：８の割合いで調
合したエツチング液中に浸漬して。
の形体（ここでは複合物すべてにかかる棒状ン、トラッ
ク幅（ここでは０，１ｍ）に形成する。その後、 ＨＣ
ｌ ： Ｈ２Ｏ２： Ｈ２Ｏ＝１：１：８の割合いで調
合したエツチング液中に浸漬して。
Ｃｏ −Ｚ ｒ−Ｎｂの薄膜をエツチングする。このと
き非磁性材薄膜１３として５ｉ０２を用いた場合には５
ｊ０２の膜厚０，０５μｍではやや５ｉ０２膜がエツチ
ングで損われ、保護膜の効果がなく０．１μｍ以上で、
効果的であり、第１４図に示すように、フェライトの腐
食なしに複合物全面にわたり均一な形体ならびに均一な
トラック幅を得ることができた。なお。
き非磁性材薄膜１３として５ｉ０２を用いた場合には５
ｊ０２の膜厚０，０５μｍではやや５ｉ０２膜がエツチ
ングで損われ、保護膜の効果がなく０．１μｍ以上で、
効果的であり、第１４図に示すように、フェライトの腐
食なしに複合物全面にわたり均一な形体ならびに均一な
トラック幅を得ることができた。なお。
５ｉ０２膜が０，３μｍを越えると、非磁性膜厚が主磁
極形成膜に比較して厚くなりすぎ正確なトラック形成は
できるものの他の磁気特性上望ましくない。
極形成膜に比較して厚くなりすぎ正確なトラック形成は
できるものの他の磁気特性上望ましくない。
よって耐酸性膜は０．１〜０．３μｍが望ましい。
以上説明したように２本発明によれば主磁極膜が所望の
寸法にしかもフェライトをエツチングすることなく形成
された垂直磁気ヘッドの製造方法を提供できる。
寸法にしかもフェライトをエツチングすることなく形成
された垂直磁気ヘッドの製造方法を提供できる。
第１図は垂直磁気ヘクトコアの斜視図、第２図は第１図
のＡ部拡大平面図、第３図〜第９図までは従来の垂直磁
気ヘッドの製造工程を示す各々斜視図、第１０図〜第１
４図は本発明による垂直磁気へノドの製造工程の要部を
示す各々斜視図である。 １：主磁極膜、２．２’：セラミック、 ３ 、３’：
フェライト、 ４ 、４’巻線溝部、１２ニアオドレノ
スト膜、１３：非磁性材薄膜。
のＡ部拡大平面図、第３図〜第９図までは従来の垂直磁
気ヘッドの製造工程を示す各々斜視図、第１０図〜第１
４図は本発明による垂直磁気へノドの製造工程の要部を
示す各々斜視図である。 １：主磁極膜、２．２’：セラミック、 ３ 、３’：
フェライト、 ４ 、４’巻線溝部、１２ニアオドレノ
スト膜、１３：非磁性材薄膜。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）２以上の異なる材質からなる基板と Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂの薄膜よりなる主磁極膜とを有する垂
直磁気記録用ヘッドの製造方法において、上記基板上に
耐酸性にすぐれた非磁性薄膜を形成し、その上にＣｏ−
Ｚｒ−Ｎｂの薄膜を形成し、酸性の薬品で所用の形体に
エッチングして上記主磁極膜を形成することを特徴とす
る垂直磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30285286A JPS63157309A (ja) | 1986-12-20 | 1986-12-20 | 垂直磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30285286A JPS63157309A (ja) | 1986-12-20 | 1986-12-20 | 垂直磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63157309A true JPS63157309A (ja) | 1988-06-30 |
| JPH0377569B2 JPH0377569B2 (ja) | 1991-12-11 |
Family
ID=17913872
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30285286A Granted JPS63157309A (ja) | 1986-12-20 | 1986-12-20 | 垂直磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63157309A (ja) |
-
1986
- 1986-12-20 JP JP30285286A patent/JPS63157309A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0377569B2 (ja) | 1991-12-11 |
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