JPS63155795A - 配線基板 - Google Patents
配線基板Info
- Publication number
- JPS63155795A JPS63155795A JP61303001A JP30300186A JPS63155795A JP S63155795 A JPS63155795 A JP S63155795A JP 61303001 A JP61303001 A JP 61303001A JP 30300186 A JP30300186 A JP 30300186A JP S63155795 A JPS63155795 A JP S63155795A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wiring board
- chip
- wiring
- semiconductor chip
- input
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 4
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は半導体チップ搭載用の配線基板に関し、特にL
SI(高密度集積回路)チップを搭載する配線基板に関
する。
SI(高密度集積回路)チップを搭載する配線基板に関
する。
[従来の技術]
従来、この種の配線基板としては、エポキシ樹脂等を利
用したプリント配線基板、又はセラミックを利用したセ
ラミック配線基板等がある。
用したプリント配線基板、又はセラミックを利用したセ
ラミック配線基板等がある。
[解決すべき問題点]
上述した従来のプリント配線基板は、銅箔と樹脂の積層
によって構成されているが、配線の微細化が難しく、L
SIの多端子化、高密度配線への対応が難しいという欠
点がある。
によって構成されているが、配線の微細化が難しく、L
SIの多端子化、高密度配線への対応が難しいという欠
点がある。
又、セラミック配線基板はセラミック基板上に導電材料
と絶縁材料を使って厚膜又は薄膜印刷、エツチング等の
製造プロセスを採るが、やはり配線の超微細化が難しい
という欠点がある。
と絶縁材料を使って厚膜又は薄膜印刷、エツチング等の
製造プロセスを採るが、やはり配線の超微細化が難しい
という欠点がある。
さらに、LSIの多端子化及びチップサイズの拡大に伴
ない、LSIと配線基板の熱膨張率の違いがクラック等
の障害を誘発するという欠点がある。
ない、LSIと配線基板の熱膨張率の違いがクラック等
の障害を誘発するという欠点がある。
[問題点の解決手段]
上記従来の問題点を解決する本発明は、半導体チップを
搭載する配線基板において、基板本体を前記半導体チッ
プと同材料で形成し、この基板本体に、複数の半導体チ
ップ搭載領域、他の電子部品との接続を行う入出力端子
部及び前記半導体チップ搭載領域と前記入出力端子部と
を接続する配線層とを設けた構成となっている。
搭載する配線基板において、基板本体を前記半導体チッ
プと同材料で形成し、この基板本体に、複数の半導体チ
ップ搭載領域、他の電子部品との接続を行う入出力端子
部及び前記半導体チップ搭載領域と前記入出力端子部と
を接続する配線層とを設けた構成となっている。
[実施例]
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。第1図は本発明の一実施例に係る配線基板の平面図で
ある。第2図は第1因のA−A部の拡大断面図で、LS
Iチップを装着した状態を示すものである。
。第1図は本発明の一実施例に係る配線基板の平面図で
ある。第2図は第1因のA−A部の拡大断面図で、LS
Iチップを装着した状態を示すものである。
図中、基板本体2はシリコンウェハ1の周部を切離して
形成される。この基板本体2の表面には複数、例えば1
2個のチップ搭載領域3を設けると共に、一端部に外部
信号引出し用の多数の挿抜用入出力端子4を設けている
。
形成される。この基板本体2の表面には複数、例えば1
2個のチップ搭載領域3を設けると共に、一端部に外部
信号引出し用の多数の挿抜用入出力端子4を設けている
。
チップ搭載領域3には例えばLSIチップ5をポンディ
ングにより接続するものであり、LSIチップ5装着用
のマウント部6とその周囲にポンディングパッド7を多
数設けている。なお、LSIチップ5はシリコンにより
形成されている。
ングにより接続するものであり、LSIチップ5装着用
のマウント部6とその周囲にポンディングパッド7を多
数設けている。なお、LSIチップ5はシリコンにより
形成されている。
上記配線基板は、3層配線構造となっており、第1配線
層8、第2配線層9及びマウント部6とポンディングパ
ッド7と挿抜用入出力端子4を有する第3配線層10−
r構成している。LSIチップ5のパッドはポンディン
グワイヤ1工により第3配線層lO側のポンディングパ
ッド7に接続される。LSIチップ5相互間の接続及び
挿抜用入出力端子4に挿入接続されたコネクタとの接続
は、第1配線層8と第2配線層9で行われる。
層8、第2配線層9及びマウント部6とポンディングパ
ッド7と挿抜用入出力端子4を有する第3配線層10−
r構成している。LSIチップ5のパッドはポンディン
グワイヤ1工により第3配線層lO側のポンディングパ
ッド7に接続される。LSIチップ5相互間の接続及び
挿抜用入出力端子4に挿入接続されたコネクタとの接続
は、第1配線層8と第2配線層9で行われる。
このように上記配線基板は、基板本体2の材質をLSI
チップ5の材質と同じシリコンとしたものであり、した
がってLSIチップ5の製造技術と同等の微細化技術を
配線基板の製造に適用できる。
チップ5の材質と同じシリコンとしたものであり、した
がってLSIチップ5の製造技術と同等の微細化技術を
配線基板の製造に適用できる。
又、基板本体2に外部引出し用の挿抜用入出力端子4を
設けているので、交換可能な保守単位として取扱えるも
のである。
設けているので、交換可能な保守単位として取扱えるも
のである。
尚、上記実施例においては、基板本体2の材質をシリコ
ン製のLSIチップ6に合わせてシリコンとしたが、チ
ップの材質がシリコン以外の材質、例えばガリウムヒ素
(GaAs)であればそれに合わせた材質とすることは
言うまでもない。
ン製のLSIチップ6に合わせてシリコンとしたが、チ
ップの材質がシリコン以外の材質、例えばガリウムヒ素
(GaAs)であればそれに合わせた材質とすることは
言うまでもない。
U発明の効果]
以上説明したように、本発明の配線基板は、基板本体の
材質をシリコン等半導体チップの材質と同一としたので
、集積回路製造技術と同等の微細化製造技術を利用する
ことができ、高密度配線が可能となり、さらに、半導体
チップと配線基板の熱膨張係数が同一となり、熱サイク
ルに対するチップ取付部の接続強度劣化が軽減されると
いう効果がある。
材質をシリコン等半導体チップの材質と同一としたので
、集積回路製造技術と同等の微細化製造技術を利用する
ことができ、高密度配線が可能となり、さらに、半導体
チップと配線基板の熱膨張係数が同一となり、熱サイク
ルに対するチップ取付部の接続強度劣化が軽減されると
いう効果がある。
又、外部信号引出し用入出力端子部を設けるようにした
ので、交換可能な保守単位として扱うことが可能となる
。
ので、交換可能な保守単位として扱うことが可能となる
。
第1図は本発明の一実施例に係る配線基板の平面図、
第2図は第1図のA−A断面で、チップ搭載状態を示す
図である。 1:シリコンウェハ 2:基板本体 3:チップ搭載領域 4:挿抜用入出力端子 5:LSIチップ 8:第1配線層 9:第2配線層 10:第3配線層
図である。 1:シリコンウェハ 2:基板本体 3:チップ搭載領域 4:挿抜用入出力端子 5:LSIチップ 8:第1配線層 9:第2配線層 10:第3配線層
Claims (1)
- 半導体チップを搭載する配線基板において、基板本体
を前記半導体チップと同材料で形成し、この基板本体に
、複数の半導体チップ搭載領域、他の電子部品との接続
を行う入出力端子部及び前記半導体チップ搭載領域と前
記入出力端子部とを接続する配線層とを具備したことを
特徴とする配線基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61303001A JPS63155795A (ja) | 1986-12-19 | 1986-12-19 | 配線基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61303001A JPS63155795A (ja) | 1986-12-19 | 1986-12-19 | 配線基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63155795A true JPS63155795A (ja) | 1988-06-28 |
Family
ID=17915741
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61303001A Pending JPS63155795A (ja) | 1986-12-19 | 1986-12-19 | 配線基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63155795A (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5571091A (en) * | 1978-11-24 | 1980-05-28 | Hitachi Ltd | Multilayer circuit board |
JPS5986293A (ja) * | 1982-11-09 | 1984-05-18 | 日本電気株式会社 | 多層配線基板 |
JPS601691A (ja) * | 1983-06-17 | 1985-01-07 | Nec Corp | メモリ−カ−ド |
JPS60200558A (ja) * | 1984-03-26 | 1985-10-11 | Hitachi Micro Comput Eng Ltd | 半導体装置 |
-
1986
- 1986-12-19 JP JP61303001A patent/JPS63155795A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5571091A (en) * | 1978-11-24 | 1980-05-28 | Hitachi Ltd | Multilayer circuit board |
JPS5986293A (ja) * | 1982-11-09 | 1984-05-18 | 日本電気株式会社 | 多層配線基板 |
JPS601691A (ja) * | 1983-06-17 | 1985-01-07 | Nec Corp | メモリ−カ−ド |
JPS60200558A (ja) * | 1984-03-26 | 1985-10-11 | Hitachi Micro Comput Eng Ltd | 半導体装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6501157B1 (en) | Substrate for accepting wire bonded or flip-chip components | |
US6440770B1 (en) | Integrated circuit package | |
JPH0669402A (ja) | プリント基板およびその製造方法 | |
JP4545917B2 (ja) | 電子回路モジュールの薄型相互接続構造及び接続方法 | |
US4731700A (en) | Semiconductor connection and crossover apparatus | |
US6087721A (en) | Semiconductor device with a high-frequency bipolar transistor on an insulating substrate | |
JP2781019B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
US8546186B2 (en) | Planar interconnect structure for hybrid circuits | |
JPS63155795A (ja) | 配線基板 | |
JP2529087B2 (ja) | 熱整合されたicチップ装置の製造方法 | |
JP2722451B2 (ja) | 半導体装置 | |
TW550713B (en) | Package for electronic components and method for forming a package for electronic components | |
JPH09330952A (ja) | プリント回路基板および半導体チップの積層方法 | |
JP2831864B2 (ja) | 半導体パッケージ及びその製造方法 | |
JPH0462457B2 (ja) | ||
JP2583507B2 (ja) | 半導体実装回路装置 | |
JPS63155754A (ja) | 配線基板 | |
JP2541494B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2813587B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JPH0557119B2 (ja) | ||
JP2771575B2 (ja) | 混成集積回路 | |
JPH1154665A (ja) | 複合パッケージ | |
JPH0519974Y2 (ja) | ||
JP2919010B2 (ja) | 半導体集積回路実装構造 | |
JPH0786339A (ja) | 半導体素子の接続方法 |