JPS631542A - 積層基板の孔あけ方法 - Google Patents

積層基板の孔あけ方法

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JPS631542A
JPS631542A JP61143068A JP14306886A JPS631542A JP S631542 A JPS631542 A JP S631542A JP 61143068 A JP61143068 A JP 61143068A JP 14306886 A JP14306886 A JP 14306886A JP S631542 A JPS631542 A JP S631542A
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JP
Japan
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hole
holes
drilling
laser
metal
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Pending
Application number
JP61143068A
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English (en)
Inventor
捷夫 菅原
昭雄 高橋
正博 小野
奈良原 俊和
和嶋 元世
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は各種板類の孔あけ方法に係り、特に多層プリン
ト基板に用いる基板のスルーホール用孔の形成に好適な
方法に関する。
〔従来の技術〕
最近、コンピュータの高性能化に伴い、配線の高密度化
が要求されている。この要求を満たすにはプリント配線
用基板のスルーホール微細化が必須となる。現在、これ
らの基板のスルーホール用孔の加工形成はドリルによる
機械的穿孔法を用いて行なっているのが一般的である。
しかし、この方法では孔の径を0.2 no以下にする
のには困難である。このため、最近,これら基板の孔あ
け加工にレーザを応用する方法が注目されて一部実用化
されているが、孔径は0.15mm位が限度である。又
,孔あけした金属箔表面の凹凸が激しくそのうえ,表面
にレーザによって溶解した飛散物が付着し基板を汚損す
るため,そのままでは実用ニ供し得なかった6 本発明の目的は,実用的な小さな孔を形成する方法に提
供することにある。
なお、レーザによる孔あけに関する文献として、例えば
、IBM, J, RES, DEVELOP  V 
o l 2 6 ,NO3,MAY1982,P306
〜317が挙げられる。
〔問題点を解決するための手段〕
従来のように、単に積層基板にレーザを照射して孔あけ
すると、基板を構成する金属及び絶縁物の飛散物が金属
表面に付着したり,金属の孔まわりの凹凸が激しくなる
ので、これを防止するため、実際に使用する基板の金属
層上下に更に簡単に除去できる基板の表面層と材質と異
なる材料の層を設けてその層を通してレーザで孔あけし
てからその層を除去してスルーホール形成処理を行うよ
うにした。
レーザ孔あけ時に基板として使用する金属表面層が基板
として使用しない異種材料によって密着被覆されている
ため、たとえ、孔あけ時にレーザによって溶解した物質
が表面層に付着したとしても、実際上は表面の異種材料
を除去して使用するため、基板の金属表面層は汚損され
ないでて済む。
又、金属表面の孔囲りも凹凸が極めて少なく良好な仕上
がりとなる。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが,
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
〈実施例1(第1図)〉 第1図(a)は、孔あけする前の積層基板の断面図であ
る。2はガラスクロスとイミド系樹脂から成る厚さ10
0μmの絶縁層であり、この絶縁層にアルミニウム層3
aと3bがそれぞれ一体化形成された銅箔1a及び1b
が積層接着されている.アルミニウムの厚さは40μm
,銅箔の厚さは9μmである。
第1図(b)、は(a)の禎層基板にC O zガスレ
ーザを照射して孔4をあけた結果である.Coxガスレ
ーザの出力はtooowで0.1 LLのパルスを五回
照射した。
第1図(c)は、レーザで孔4をあけた後に,アルミニ
ウム層3a,3bをアルカリ水溶液でエッチング除去し
た断面図であり、プリント回路基板用として実際に使用
される構成部分である。
く比較例1〉 第2図は、絶縁層2に銅箔1a,lbが積層されている
プリント回路基板の銅箔の上からC O zレーザを照
射して孔4をあけた従来の孔あけ断面図である。絶縁層
2は本発明の実施例1で示したものと同じである。又、
絶BFg!j2及び銅箔1a,1bの厚さも実施例1で
示したものと同じである。
C○2ガスレーザの出力はIOOOWで0.1 msの
パルスを一回照射した。
第2図の結果から、従来の方法では銅箔の孔廻りはめく
れており凹凸である。又,本図では示さなかったが、銅
表面には樹脂の炭化物や、銅の溶解したものが付着して
おり、孔あけ後にプリント回路基板として、そのままの
状態では使用できなかった。これに対して本発明の方法
で孔あけした第1図(c)の結果から銅箔の孔廻りはほ
とんどめくれていないことがわかる。又、溶解物は実際
にプリント回路基板として使用する銅箔表面は付着して
いなかった。
〔発明の効果〕
本発明によれば、従来のレーザによる孔あけ方式に比べ
て極めて良好な孔を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法の一実施例の断面図、第2図は従来
の方法で加工した後の孔の断面図である。 1a及び1b・・・銅箔、2・・・絶縁層、3a及び3
b・・・アルミニウム,4・・・孔。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、両面金属箔付き積層基板に導通化スルーホール用孔
    をレーザで形成する方法に於いて、 前記金属箔の表面に前記金属の材料から容易に除去でき
    る異種材料を一体化形成し、前記異種材料の表面にレー
    ザを照射して孔をあけてから前記異種材料を除去してプ
    リント基板用材料として用いることを特徴とする積層基
    板の孔あけ方法。 2、特許請求の範囲第1項に於いて、 前記両面金属箔は銅であることを特徴とする積層基板の
    孔あけ方法。 3、特許請求の範囲第2項に於いて、 前記銅箔の表面に一体化形成する前記異種材料は銅より
    も融点あるいは沸点の低い金属で特徴とする積層基板の
    孔あけ方法。 4、特許請求の範囲代3項に於いて、 前記異種金属材料はアルミニウムであることを特徴とす
    る積層基板の孔あけ方法。
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