JPS63153726A - ２値情報信号を記録する方法及びその装置 - Google Patents
２値情報信号を記録する方法及びその装置Info
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- JPS63153726A JPS63153726A JP62268011A JP26801187A JPS63153726A JP S63153726 A JPS63153726 A JP S63153726A JP 62268011 A JP62268011 A JP 62268011A JP 26801187 A JP26801187 A JP 26801187A JP S63153726 A JPS63153726 A JP S63153726A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光学的に読み出し可能な記録担体に２値情報
信号を記録する方法に間するもので、その記録担体は熱
により光学的性質が変化する情報層を有し、情報信号に
対応した情報パターンがその情報層に形成され、その情
報パターンは変更された光学的性質を有する記録領域と
変更されていない光学的性質を有する非記録領域からな
り、その記録領域は放射線ビームをその情報層に集束さ
せるシステムと、その情報層とが相互に相対的に移動す
ることによって形成され、連続的かつ重なっている記録
マークからなる１個の群の内の各連続する記録用マーク
は放射線ビームによるターゲット領域の加熱によってそ
この光学的性質を変化させることによって形成されてい
る。さらに、この発明は装置に関するもので、その装置
は、放射線発生源から発生した放射線を記録担体の情報
層に集束させてその情報層の光学的性質を加熱により変
化させる光学システム、その記録担体とその光学システ
ムを相対的に移動させる駆動手段、及び２値情報信号に
基いてその放射線発生源を制御する制御部から構成され
、連続する制御シグナルの群は２値情報信号に基づいて
得られ、放射線発生源が、その各群の各制御信号に対応
して光学的性質を変更させた記録マークが情報層に正し
く形成されるように情報層を加熱する放射線エネルギー
を発生させる。
信号を記録する方法に間するもので、その記録担体は熱
により光学的性質が変化する情報層を有し、情報信号に
対応した情報パターンがその情報層に形成され、その情
報パターンは変更された光学的性質を有する記録領域と
変更されていない光学的性質を有する非記録領域からな
り、その記録領域は放射線ビームをその情報層に集束さ
せるシステムと、その情報層とが相互に相対的に移動す
ることによって形成され、連続的かつ重なっている記録
マークからなる１個の群の内の各連続する記録用マーク
は放射線ビームによるターゲット領域の加熱によってそ
この光学的性質を変化させることによって形成されてい
る。さらに、この発明は装置に関するもので、その装置
は、放射線発生源から発生した放射線を記録担体の情報
層に集束させてその情報層の光学的性質を加熱により変
化させる光学システム、その記録担体とその光学システ
ムを相対的に移動させる駆動手段、及び２値情報信号に
基いてその放射線発生源を制御する制御部から構成され
、連続する制御シグナルの群は２値情報信号に基づいて
得られ、放射線発生源が、その各群の各制御信号に対応
して光学的性質を変更させた記録マークが情報層に正し
く形成されるように情報層を加熱する放射線エネルギー
を発生させる。
この、ような方法と装置は、本出願人の特許出願特開昭
５８−１８２１３４号公報により既知である。この既知
の方法と装置に於いては、一つ一つの記録用マークはエ
ネルギーが一定の１個の放射線パルスによって形成され
る。この放射線エネルギーを用いることによって、情報
層には本質的に一定寸法の記録用マークが形成されるこ
とになる。この方法は、記録用マークの位置で情報層が
放射線エネルギーの照射により除去されるアブラティブ
（ａｂｌａ−ｔｉｖｅ）記録法に最適である。しかしな
がら、放射線エネルギーによりそのターゲット領域の温
度が瞬間的にしか上昇せず、記録用マークの位置の情報
層が除去されない場合には、記録用マークの位置の物質
の光学的性質が変化し、記録用マークの寸法が一定にな
らなくなる。この例としては、情報層が加熱によって結
晶構造に変化する非晶質構造を有している場合があげら
れる。記録用マークの寸法がこのように変化すると、情
報パターンの読み出しによって得られる読み出し信号が
歪むことになる。
５８−１８２１３４号公報により既知である。この既知
の方法と装置に於いては、一つ一つの記録用マークはエ
ネルギーが一定の１個の放射線パルスによって形成され
る。この放射線エネルギーを用いることによって、情報
層には本質的に一定寸法の記録用マークが形成されるこ
とになる。この方法は、記録用マークの位置で情報層が
放射線エネルギーの照射により除去されるアブラティブ
（ａｂｌａ−ｔｉｖｅ）記録法に最適である。しかしな
がら、放射線エネルギーによりそのターゲット領域の温
度が瞬間的にしか上昇せず、記録用マークの位置の情報
層が除去されない場合には、記録用マークの位置の物質
の光学的性質が変化し、記録用マークの寸法が一定にな
らなくなる。この例としては、情報層が加熱によって結
晶構造に変化する非晶質構造を有している場合があげら
れる。記録用マークの寸法がこのように変化すると、情
報パターンの読み出しによって得られる読み出し信号が
歪むことになる。
本発明の目的は、最初のバラグラフで述べたタイプの記
録方法と装置を提供することにあり、これにより読み出
される出力信号の歪の発生が少ない情報パターンを有す
る記録担体が得られる。
録方法と装置を提供することにあり、これにより読み出
される出力信号の歪の発生が少ない情報パターンを有す
る記録担体が得られる。
その方法に関して、この目的を達成するためにその群の
中の記録用マークの各々を形成する放射線エネルギーは
その群の中のその記録用マークの位置に応じて決められ
る。
中の記録用マークの各々を形成する放射線エネルギーは
その群の中のその記録用マークの位置に応じて決められ
る。
その装置に間しては、その制御部を、連続した制御信号
の群の中の制御信号の位置に基づいてタイプの異なった
制御信号を発生させる信号発生手段と、エネルギー量が
制御信号のタイプに依存する放射線を放出する放射線源
から構成することによりその目的を達成した。
の群の中の制御信号の位置に基づいてタイプの異なった
制御信号を発生させる信号発生手段と、エネルギー量が
制御信号のタイプに依存する放射線を放出する放射線源
から構成することによりその目的を達成した。
この発明は、連続する記録用マークからなる１個の群の
内の１個の記録用マークを記録する時、加熱されるべき
ターゲット領域は、その群の内の先行する記録用マーク
が記録される間の放射エネルギーの照射によりすでに加
熱されていると言う事実に基づいている。各記録用マー
クを記録する間に照射される放射線のエネルギーを調整
し、対応する記録用マークの位置に応じて、ターゲット
領域にこの照射エネルギーによって温度上昇を発生させ
ることによって、先行する記録用マークの形成の際に照
射された放射線エネルギーの温度の影響を単純に補償す
ることができる。この結果、記録用マークの寸法は、タ
ーゲット領域で達する温度に依存するにしても本質的に
は一定となる。
内の１個の記録用マークを記録する時、加熱されるべき
ターゲット領域は、その群の内の先行する記録用マーク
が記録される間の放射エネルギーの照射によりすでに加
熱されていると言う事実に基づいている。各記録用マー
クを記録する間に照射される放射線のエネルギーを調整
し、対応する記録用マークの位置に応じて、ターゲット
領域にこの照射エネルギーによって温度上昇を発生させ
ることによって、先行する記録用マークの形成の際に照
射された放射線エネルギーの温度の影響を単純に補償す
ることができる。この結果、記録用マークの寸法は、タ
ーゲット領域で達する温度に依存するにしても本質的に
は一定となる。
このようにして、読み出し信号の歪を最小にすることが
できる。
できる。
実際上、次の方法により上述した温度の影響を受は入れ
可能な程度に補償することが可能である事が判った。そ
の方法とはその群の第１番目の記録用マークを形成する
放射エネルギーを第一の既定の方法によって決め、第２
番目以降の記録用マークを形成する放射線エネルギーを
第この既定の方法によって決めるものである。放射線パ
ルスの形で放射線エネルギーを照射するという特に単純
な方法に於いては、記録用マスクの形成に必要な放射線
エネルギーを照射するための放射線のパルスの数は群の
中の記録用マークの位置に依存する。
可能な程度に補償することが可能である事が判った。そ
の方法とはその群の第１番目の記録用マークを形成する
放射エネルギーを第一の既定の方法によって決め、第２
番目以降の記録用マークを形成する放射線エネルギーを
第この既定の方法によって決めるものである。放射線パ
ルスの形で放射線エネルギーを照射するという特に単純
な方法に於いては、記録用マスクの形成に必要な放射線
エネルギーを照射するための放射線のパルスの数は群の
中の記録用マークの位置に依存する。
さらに、その方法の特徴はその群の第１番目の記録用マ
ークが、既定時間間隔経過後に書き込み放射線パルスが
続く少なくとも１個の予備加熱放射線パルスにより形成
され、情報層に記録用マークを形成する書き込み放射線
パルスと予備加熱放射線パルスのエネルギー量が、書き
込み放射線パルスにより形成される記録用マークが占め
る領域外の光学的性質を変化させないように決められて
いることにある。この方法に於いては、予備加熱放射線
パルスは主に記録用マークが形成されるターゲット領域
の温度を上昇させるために用いられる。このことは、書
き込み放射線パルスによって照射される放射線エネルギ
ーの量を制限することができるという利点をもたらす。
ークが、既定時間間隔経過後に書き込み放射線パルスが
続く少なくとも１個の予備加熱放射線パルスにより形成
され、情報層に記録用マークを形成する書き込み放射線
パルスと予備加熱放射線パルスのエネルギー量が、書き
込み放射線パルスにより形成される記録用マークが占め
る領域外の光学的性質を変化させないように決められて
いることにある。この方法に於いては、予備加熱放射線
パルスは主に記録用マークが形成されるターゲット領域
の温度を上昇させるために用いられる。このことは、書
き込み放射線パルスによって照射される放射線エネルギ
ーの量を制限することができるという利点をもたらす。
゛情報層の材料に光学的性質上の変化を与える
ことによって記録用マークを形成する最初のバラグラフ
で定義した方法に於ける記録用マークの寸法は、同様の
アブラティブ記録方法により形成される記録用マークの
寸法より通常小さい。この結果、光学的性質が変更され
た記録用マークにより得られる情報パターンは、すでに
アブラテイブ記録法に対して確立されている規格に適合
しない。本発明の他の目的は、この欠点を改善する本発
明に対応した方法の実施例を提供することにある。
ことによって記録用マークを形成する最初のバラグラフ
で定義した方法に於ける記録用マークの寸法は、同様の
アブラティブ記録方法により形成される記録用マークの
寸法より通常小さい。この結果、光学的性質が変更され
た記録用マークにより得られる情報パターンは、すでに
アブラテイブ記録法に対して確立されている規格に適合
しない。本発明の他の目的は、この欠点を改善する本発
明に対応した方法の実施例を提供することにある。
この目的は、次のような方法で達成される。それは、情
報信号をビットセルによって構成し、第１論理値が連続
するビットセルの数を常に少なくとも２以上の整数であ
るｎとし書込領域を２以上の整数であるｍ個のビットセ
ルからなるとしたとき、本質的に等間隔なｍ−ｎ＋１個
の時点からなる列の各時点で放射線パルスを照射するこ
とにより記録用マークを形成して書き込み領域を得、こ
の際、当該時点の列の第１番目の時点より既定時間前の
時点に於いて、拡大放射線パルスを発生させて拡大され
た記録用マークを形成し、その拡大された記録用マーク
が時点列の第１番目の時点の記録用マークと重なるよう
にし、二つの重なった記録用マークの大きさをｎビット
セルの長さに対応させるものである。
報信号をビットセルによって構成し、第１論理値が連続
するビットセルの数を常に少なくとも２以上の整数であ
るｎとし書込領域を２以上の整数であるｍ個のビットセ
ルからなるとしたとき、本質的に等間隔なｍ−ｎ＋１個
の時点からなる列の各時点で放射線パルスを照射するこ
とにより記録用マークを形成して書き込み領域を得、こ
の際、当該時点の列の第１番目の時点より既定時間前の
時点に於いて、拡大放射線パルスを発生させて拡大され
た記録用マークを形成し、その拡大された記録用マーク
が時点列の第１番目の時点の記録用マークと重なるよう
にし、二つの重なった記録用マークの大きさをｎビット
セルの長さに対応させるものである。
装置の実施例の特徴は、信号発生手段が各群の第１番目
の制御信号には第一のタイプの制御信号を発生させ、そ
して、各群の各第２番目以降の制御信号には第このタイ
プの制御信号を発生させるように構成されている点であ
る。この実施例は、２種類のタイプの制御信号を発生さ
せれば足りるので非常に好ましい。その簡易さという理
由で好ましいこの装置の他の実施例、つまり制御パルス
の形で制御信号を発生させる制御部が設けられていて、
制御パルス１個毎に放射線源が放射線パルスを発生させ
る実施例に於いては、制御信号の各タイプに対応した制
御パルスの数が制御信号からなるその群に於ける制御信
号の位置によって決められる制御信号を信号発生手段が
発生させる点に特徴がある。
の制御信号には第一のタイプの制御信号を発生させ、そ
して、各群の各第２番目以降の制御信号には第このタイ
プの制御信号を発生させるように構成されている点であ
る。この実施例は、２種類のタイプの制御信号を発生さ
せれば足りるので非常に好ましい。その簡易さという理
由で好ましいこの装置の他の実施例、つまり制御パルス
の形で制御信号を発生させる制御部が設けられていて、
制御パルス１個毎に放射線源が放射線パルスを発生させ
る実施例に於いては、制御信号の各タイプに対応した制
御パルスの数が制御信号からなるその群に於ける制御信
号の位置によって決められる制御信号を信号発生手段が
発生させる点に特徴がある。
制御部がビットセルの長さに対応した長さを有する連続
する時間間隔からなる１個の群から時間間隔を選択し、
選択された時間間隔の各々に於いて制御パルスからなる
制御信号を発生させ、放射線源に制御パルスｌ＠毎に応
じて１個の放射線パルスを発生させるように構成されて
いる別の装置の実施例の特徴は、選択された間隔内の時
点が連続的に選択された時間間隔からなる各群に於ける
選択された間隔の位置に対応するような制御信号を信号
発生手段が発生させる点にある。この実施例によると加
熱により光学的性質が変更できる情報層に情報パターン
を記録することが可能となり、またアブラティブ記録法
に対する通常の規格とも適合するパターンを得ることが
できる。
する時間間隔からなる１個の群から時間間隔を選択し、
選択された時間間隔の各々に於いて制御パルスからなる
制御信号を発生させ、放射線源に制御パルスｌ＠毎に応
じて１個の放射線パルスを発生させるように構成されて
いる別の装置の実施例の特徴は、選択された間隔内の時
点が連続的に選択された時間間隔からなる各群に於ける
選択された間隔の位置に対応するような制御信号を信号
発生手段が発生させる点にある。この実施例によると加
熱により光学的性質が変更できる情報層に情報パターン
を記録することが可能となり、またアブラティブ記録法
に対する通常の規格とも適合するパターンを得ることが
できる。
この発明の実施例が、第１〜１６図を例にして、さらに
詳細に説明される。
詳細に説明される。
第１ａ図は、情報層２を備えた透明記録担体１を示し、
その情報層の光学的性質は加熱とその後の情報層２の冷
却によって変更することができる。
その情報層の光学的性質は加熱とその後の情報層２の冷
却によって変更することができる。
このような情報層２は、例えば加熱によって情報層を部
分的に溶解させ続いてその層を急速に冷却させることに
よって結晶構造を変える非晶質構造の材料からなる。そ
のような材料としては、例えばＴｅ、Ｓｅ及びｓｂの合
金があげられる。そのような材料を研究したものとして
、Ｇ、 Ｂｏｕｗｈｕｉｓ。
分的に溶解させ続いてその層を急速に冷却させることに
よって結晶構造を変える非晶質構造の材料からなる。そ
のような材料としては、例えばＴｅ、Ｓｅ及びｓｂの合
金があげられる。そのような材料を研究したものとして
、Ｇ、 Ｂｏｕｗｈｕｉｓ。
Ｊ、 Ｂｒａａｔ、 Ａ、 Ｈｕｙｓｅｒ、 Ｊ、 Ｐ
ａｓｍａｎ、 Ｇ、 ｖａｎ Ｒｏｓｍａｌｅｎ及びに
、 Ｓｃｈｏｕｈａｍｅｒ １ｍｍ１ｎｋ著ｉ＋光学デ
イスクシステムの原理”Ａｄａｍ ｌｌｉｌｇｅｒ Ｌ
ｔｄ、、 Ｂｒ１ｓｔｏ１１９８５年発行の第２１９
〜２２５頁があげられる。さらに、第１ａ図は光学シス
テム３を示し、このシステムによって例えばレーザービ
ームの様な放射線源から発生した放射線ビーム４が、情
報Ｎ２に（０，９μ程度の大きさの）微小な放射線スポ
ットを形成するように集束される。この放射線源が、情
報層に光学的性質の変化が生じるのに十分な加熱エネル
ギーを有する放射線パルスＰを発生させる。
ａｓｍａｎ、 Ｇ、 ｖａｎ Ｒｏｓｍａｌｅｎ及びに
、 Ｓｃｈｏｕｈａｍｅｒ １ｍｍ１ｎｋ著ｉ＋光学デ
イスクシステムの原理”Ａｄａｍ ｌｌｉｌｇｅｒ Ｌ
ｔｄ、、 Ｂｒ１ｓｔｏ１１９８５年発行の第２１９
〜２２５頁があげられる。さらに、第１ａ図は光学シス
テム３を示し、このシステムによって例えばレーザービ
ームの様な放射線源から発生した放射線ビーム４が、情
報Ｎ２に（０，９μ程度の大きさの）微小な放射線スポ
ットを形成するように集束される。この放射線源が、情
報層に光学的性質の変化が生じるのに十分な加熱エネル
ギーを有する放射線パルスＰを発生させる。
第１ｂ図は、上述の方法を用いた放射線パルスによって
、記録用マーク５が形成された情報層２の平面図を示す
。
、記録用マーク５が形成された情報層２の平面図を示す
。
第１ 、ｃ図は、放射線パルスＰに゛より加熱された直
後の情報層２の線２に沿った温度Ｔ、の分布Ｔを示す。
後の情報層２の線２に沿った温度Ｔ、の分布Ｔを示す。
線６は光学的性質が変化するための最低の記録レベルＴ
５を示す。放射線パルスＰによって印加される熱は、記
録用マーク５０周辺領域に広がるので記録用マーク５の
位置の温度は低下し記録用マークの周辺領域の温度は上
昇する。放射線パルスを印加した後の２個の連続する時
点での情′報層内の温度分布が第１Ｃ図のＴ６とＴｂで
示されている。
５を示す。放射線パルスＰによって印加される熱は、記
録用マーク５０周辺領域に広がるので記録用マーク５の
位置の温度は低下し記録用マークの周辺領域の温度は上
昇する。放射線パルスを印加した後の２個の連続する時
点での情′報層内の温度分布が第１Ｃ図のＴ６とＴｂで
示されている。
第２ａ図は、論理値“０”又は“１”を有する連続ビッ
トセルからなるデジタル情報信号の１個のビット群を示
す。ここに示された信号は、論理値″ｌ”を有するビッ
トセルの数が少なくとも３個になるようにエンコードさ
れている。このようなコーディングの例として、オラン
ダ国特許出願第８．００４，０２８号に記載されている
ＥＦＭ法（Ｅｉ、ｇｈｔ−ｔｏ−Ｆｏｕｒｔｅｅｎ Ｍ
ｏｄｕｌａｔｉｏｎ）があげられる・ そしてこれは、
コンパクト ディスク ディジタルオーディオシステム
に於いて光学読み取り可能なディスクにディジタルオー
ディオ情報を記録する変調方法として使用されている。
トセルからなるデジタル情報信号の１個のビット群を示
す。ここに示された信号は、論理値″ｌ”を有するビッ
トセルの数が少なくとも３個になるようにエンコードさ
れている。このようなコーディングの例として、オラン
ダ国特許出願第８．００４，０２８号に記載されている
ＥＦＭ法（Ｅｉ、ｇｈｔ−ｔｏ−Ｆｏｕｒｔｅｅｎ Ｍ
ｏｄｕｌａｔｉｏｎ）があげられる・ そしてこれは、
コンパクト ディスク ディジタルオーディオシステム
に於いて光学読み取り可能なディスクにディジタルオー
ディオ情報を記録する変調方法として使用されている。
特開昭５８−１８２１３４号公報に示されているように
、論理値“１″の３個連続するビットセルからなる１個
の群が１個の記録用マーク５で示されるように、ＥＦＭ
変調された情報信号が、情報層２に記録用マーク５から
なる情報パターンを形成することによって記録される（
第２Ｃ図参照）。論理値“′１゛のとットセルのさらに
長い群は、記録用マーク５を複数個重ねた領域により現
わされる。記録用マークのこのようなパターンは、記録
担体１を光学システム３に対し矢印７の方向に移動させ
（第１ａ図°参照）、連続する時間間隔からなる１個の
群のうちの選択された各時間間隔に於いて、記録レベル
下９以上の温度に放射線パルスＰからなる１個の群によ
って、情報層を局部的に加熱して記録用マーク５を形成
することにより得られる。第２ｂ図では、放射線パルス
ＰはＰ＋、・・・、Ｐａと標記されている。その数字は
連続した放射線パルスＰからなる１個の群に於ける各放
射線パルスの順番を示している。放射線パルスからなる
群の第２番目以降のパルスＰ２．・・・。
、論理値“１″の３個連続するビットセルからなる１個
の群が１個の記録用マーク５で示されるように、ＥＦＭ
変調された情報信号が、情報層２に記録用マーク５から
なる情報パターンを形成することによって記録される（
第２Ｃ図参照）。論理値“′１゛のとットセルのさらに
長い群は、記録用マーク５を複数個重ねた領域により現
わされる。記録用マークのこのようなパターンは、記録
担体１を光学システム３に対し矢印７の方向に移動させ
（第１ａ図°参照）、連続する時間間隔からなる１個の
群のうちの選択された各時間間隔に於いて、記録レベル
下９以上の温度に放射線パルスＰからなる１個の群によ
って、情報層を局部的に加熱して記録用マーク５を形成
することにより得られる。第２ｂ図では、放射線パルス
ＰはＰ＋、・・・、Ｐａと標記されている。その数字は
連続した放射線パルスＰからなる１個の群に於ける各放
射線パルスの順番を示している。放射線パルスからなる
群の第２番目以降のパルスＰ２．・・・。
Ｐ６に対しては、次の記録用マーク５が形成される領域
での温度は、すでに放射線パルスが照射されているので
周囲温度Ｔ０を越えているであろう。 ゛これらの温
度上昇は、第２ｄ図にＴＯＩＩＴＯ２，ＴＯ３、Ｔｏｓ
と記載されている。これらのレベルは少しずつ上昇して
いる。
での温度は、すでに放射線パルスが照射されているので
周囲温度Ｔ０を越えているであろう。 ゛これらの温
度上昇は、第２ｄ図にＴＯＩＩＴＯ２，ＴＯ３、Ｔｏｓ
と記載されている。これらのレベルは少しずつ上昇して
いる。
本発明の方法に於いては、連続する放射線パルスからな
る１個の群の内の各放射線パルスのエネルギー量Ｅは、
１個の放射線パルスＰにより生しる情報体中の温度上昇
とその群の内の以前の放射線パルスにより既に発生して
いる温度との合計が常に一定となる条件を考慮して、そ
の群の内の位置によって決められる。情報層の温度分布
は第２ｄ図中Ｔ＋、・・・＋ Ｔ ６で示され、その数
字はこの場合も対応する放射線パルスの順序の番号を示
している。このようにして得られた記録用マーク５が第
２ｃ図に示されている。
る１個の群の内の各放射線パルスのエネルギー量Ｅは、
１個の放射線パルスＰにより生しる情報体中の温度上昇
とその群の内の以前の放射線パルスにより既に発生して
いる温度との合計が常に一定となる条件を考慮して、そ
の群の内の位置によって決められる。情報層の温度分布
は第２ｄ図中Ｔ＋、・・・＋ Ｔ ６で示され、その数
字はこの場合も対応する放射線パルスの順序の番号を示
している。このようにして得られた記録用マーク５が第
２ｃ図に示されている。
第２ｅ−ｇ図は、各放射線パルスＰのエネルギー量が同
じである場合の記録用マークの大きさと記録担体の温度
変化Ｔ、、Ｔ２．・・・、Ｔｓを示す。この例に於ては
記録用マーク５の径が一定でないため、記録用マークの
形成中の温度は全ての記録用マーク５で同一ではなくな
る。このように大きさの異なる記録用マークからなる情
報パターンを読み出すと、読みだし信号は歪んでしまう
。この場合には記録用マーク５により反射される放射線
の量が各記録用マークで異なることになる。
じである場合の記録用マークの大きさと記録担体の温度
変化Ｔ、、Ｔ２．・・・、Ｔｓを示す。この例に於ては
記録用マーク５の径が一定でないため、記録用マークの
形成中の温度は全ての記録用マーク５で同一ではなくな
る。このように大きさの異なる記録用マークからなる情
報パターンを読み出すと、読みだし信号は歪んでしまう
。この場合には記録用マーク５により反射される放射線
の量が各記録用マークで異なることになる。
第３ａ図は本発明の他の方法を示す。この実施例に於い
ては放射線パルスからなる１個の群の第１番目の放射線
パルスのエネルギー値はＥｌである。
ては放射線パルスからなる１個の群の第１番目の放射線
パルスのエネルギー値はＥｌである。
第２番目以降の各放射線パルスのエネルギーはＥｌより
小さいＥ２である。第３ａ図は、連続して選択された５
個の時間間隔τ宣、・・・、τ５からなる１個の群に対
応した放射線パルスＰ＋、・・・、Ｐｓを示す。
小さいＥ２である。第３ａ図は、連続して選択された５
個の時間間隔τ宣、・・・、τ５からなる１個の群に対
応した放射線パルスＰ＋、・・・、Ｐｓを示す。
放射線パルスＰ＋、・・・、ＰＳを照射した直後の情報
層２に於けるパルスに対応した温度分布Ｔ＋、・・・、
Ｔｓが第３ｂ図に示されていて、その記録用マークに対
応する大きさが第３ｃ図に示されている。第３図から明
らかなように、記録用マーク５の大きさはお互いに完全
に等しくはない。しかしながら、記録用マークの大きざ
の差は小さいので、これらの記録用マークにより形成さ
れた情報パターンが読み出される時発生する読出し信号
の歪みは、無視することができる。
層２に於けるパルスに対応した温度分布Ｔ＋、・・・、
Ｔｓが第３ｂ図に示されていて、その記録用マークに対
応する大きさが第３ｃ図に示されている。第３図から明
らかなように、記録用マーク５の大きさはお互いに完全
に等しくはない。しかしながら、記録用マークの大きざ
の差は小さいので、これらの記録用マークにより形成さ
れた情報パターンが読み出される時発生する読出し信号
の歪みは、無視することができる。
以上述べてきた本発明の実施例では、選択された種々の
時閉間隔内で照射される放射線エネルギーの量の差は、
エネルギー量の異なった放射線パルスＰを使用すること
によって得られる。エネルギー量の差は、例えば、照射
時間を一定にして強度を変えた放射線パルスの照射によ
って得られるし、また、強度を一定にし照射時間を変え
た放射線パルスによっても得ることができる。この２種
の方法のうち後者がその簡易性の故に好ましい。
時閉間隔内で照射される放射線エネルギーの量の差は、
エネルギー量の異なった放射線パルスＰを使用すること
によって得られる。エネルギー量の差は、例えば、照射
時間を一定にして強度を変えた放射線パルスの照射によ
って得られるし、また、強度を一定にし照射時間を変え
た放射線パルスによっても得ることができる。この２種
の方法のうち後者がその簡易性の故に好ましい。
第４図は、選択された時間間隔τ中に照射される放射線
エネルギーの量を本発明の他の方法を使用して変化させ
る方法を示している。この方法によると放射線エネルギ
ーはエネルギーの量が一定の単位放射線パルスの照射に
よフて制御される。
エネルギーの量を本発明の他の方法を使用して変化させ
る方法を示している。この方法によると放射線エネルギ
ーはエネルギーの量が一定の単位放射線パルスの照射に
よフて制御される。
第４ａ図は、連続して選択される時間間隔τからなる１
個の群の内の第１番目の選択時間間隔てに於ける放射線
エネルギーの照射状況を示す。この選択時間間隔てに於
いては、放射線エネルギーは各々が強度１ｓと照射時間
△τを有する放射線パルスＰ′とＰによって得られる。
個の群の内の第１番目の選択時間間隔てに於ける放射線
エネルギーの照射状況を示す。この選択時間間隔てに於
いては、放射線エネルギーは各々が強度１ｓと照射時間
△τを有する放射線パルスＰ′とＰによって得られる。
第４ｂ図は、連続して選択された時間間隔τからなる１
個の群のうち第２番目以降に選択された時間間隔てに対
応する放射線エネルギーの照射状況を示す。この放射線
エネルギーは、この場合、１個の単位放射線パルスＰに
よって得られる。
個の群のうち第２番目以降に選択された時間間隔てに対
応する放射線エネルギーの照射状況を示す。この放射線
エネルギーは、この場合、１個の単位放射線パルスＰに
よって得られる。
第５図は、９個の連続した選択時間間隔τ１．・・・、
τ９からなる１個の群に対して単位放射線パルスを使用
して上記の方法によって、単位放射線パルスｐ／、ｐ、
、・・・、 Ｐ９からなる放射線エネルギーを照射し
た直後の情報層の温度分布ＴＩ’、ＴＩ、・・・。
τ９からなる１個の群に対して単位放射線パルスを使用
して上記の方法によって、単位放射線パルスｐ／、ｐ、
、・・・、 Ｐ９からなる放射線エネルギーを照射し
た直後の情報層の温度分布ＴＩ’、ＴＩ、・・・。
Ｔ９を示している。第５１図から明らかなように、予備
加熱パルスＰ ＋ ’は、このパルスによって生じる温
度上昇によって情報層の温度が記録レベルＴｓ以上にな
らないように制御される。それ故、この第１番目の単位
放射線パルスは情報層２の光学的性質に何ら変化を生じ
させない。このことは、連続する記録用マークからなる
１個の群の内の第１番目の記録用マーク５が必要以上に
大きくならないので好ましいことである。比較のために
、予備加熱パルスを使用しない従来技術に従って放射線
エネルギーを照射した場合の温度分布Ｔ＋、・・・、Ｔ
９を第６ａ図及び第６ｂ図・に示す。第６図から明らか
なように、情報層の温度変化及び記録用マークの大きさ
の変化は予備加熱パルスＰ１′が照射されないと大きく
なる。アブラティブ記録方法によりＥＦＭ信号を記録す
るには通常０．９μの放射線ビームが使用される。この
直径のビームを使用すると記録用マークの大きさは１．
１μとなる。この記録用マークの大きさ１．１μは論理
値“１゛′のピットセル３個からなる１個の群の大きさ
に相当する。論理値“ｌ”のビットセルが４個以上ある
群に対しては、先行する記録用マークに重ねて次の記録
用マークを０．３μずつずらして情報パターンを延長さ
せる。
加熱パルスＰ ＋ ’は、このパルスによって生じる温
度上昇によって情報層の温度が記録レベルＴｓ以上にな
らないように制御される。それ故、この第１番目の単位
放射線パルスは情報層２の光学的性質に何ら変化を生じ
させない。このことは、連続する記録用マークからなる
１個の群の内の第１番目の記録用マーク５が必要以上に
大きくならないので好ましいことである。比較のために
、予備加熱パルスを使用しない従来技術に従って放射線
エネルギーを照射した場合の温度分布Ｔ＋、・・・、Ｔ
９を第６ａ図及び第６ｂ図・に示す。第６図から明らか
なように、情報層の温度変化及び記録用マークの大きさ
の変化は予備加熱パルスＰ１′が照射されないと大きく
なる。アブラティブ記録方法によりＥＦＭ信号を記録す
るには通常０．９μの放射線ビームが使用される。この
直径のビームを使用すると記録用マークの大きさは１．
１μとなる。この記録用マークの大きさ１．１μは論理
値“１゛′のピットセル３個からなる１個の群の大きさ
に相当する。論理値“ｌ”のビットセルが４個以上ある
群に対しては、先行する記録用マークに重ねて次の記録
用マークを０．３μずつずらして情報パターンを延長さ
せる。
記録用マークと延長部分の大きさのこのような比によっ
て、情報パターンを読み出す際の読み出し信号の最適な
デユーティサイクルが決まる。
て、情報パターンを読み出す際の読み出し信号の最適な
デユーティサイクルが決まる。
光学的性質が可変の情報層を有する記録担体にＥＦＭ信
号を記録する場合、その記録用マークの最適直径は同一
直径の放射線ビームを用いてアブラティブ記録法によっ
て得たマークの直径よりも小さいことがしばしば見出さ
れている。もしそのような記録担体に記録するのに使用
する放射線ビームの直径をアブラティブ記録法のそれと
同じにするならば（標準化の点からは望ましいことでは
あるが）、２種類の記録方法により得られる記録用マー
クの直径は等しくなくなり、従ってこれら２種類の記録
方法により得られる情報パターンの大きさも等しくなら
なくなる。
号を記録する場合、その記録用マークの最適直径は同一
直径の放射線ビームを用いてアブラティブ記録法によっ
て得たマークの直径よりも小さいことがしばしば見出さ
れている。もしそのような記録担体に記録するのに使用
する放射線ビームの直径をアブラティブ記録法のそれと
同じにするならば（標準化の点からは望ましいことでは
あるが）、２種類の記録方法により得られる記録用マー
クの直径は等しくなくなり、従ってこれら２種類の記録
方法により得られる情報パターンの大きさも等しくなら
なくなる。
これ以後、アブラティブ記録法に於いて使用されるもの
と同じ径の放射線ビームを用いて、ＥＦＭ信号のアブラ
ティブ記録法に間して上述した規格にその大きさｈイ適
合する情報パターンを得ることができる本発明の詳細な
説明する。この方法によると、はとんど完全にお互いに
重なる２個の記録用マークが、その全長がアブラティブ
記録法に於ける最適記録用マークの直径に対応した状態
で、連続した選択時間間隔τからなる１個の群の第１番
目の時閉間隔τ内に形成される。
と同じ径の放射線ビームを用いて、ＥＦＭ信号のアブラ
ティブ記録法に間して上述した規格にその大きさｈイ適
合する情報パターンを得ることができる本発明の詳細な
説明する。この方法によると、はとんど完全にお互いに
重なる２個の記録用マークが、その全長がアブラティブ
記録法に於ける最適記録用マークの直径に対応した状態
で、連続した選択時間間隔τからなる１個の群の第１番
目の時閉間隔τ内に形成される。
第７ａ図は、２個の重なる記録用マークを第１番目の選
択時間間隔τ内に形成するための放射線エネルギーの照
射方法を示している。この方法では、放射線エネルギー
は、予備加熱用としてのＰ′、書き込みパルス用として
のＰとｐ ＩＩという等量のエネルギーを持つ３種類の
放射線パルスＰ。
択時間間隔τ内に形成するための放射線エネルギーの照
射方法を示している。この方法では、放射線エネルギー
は、予備加熱用としてのＰ′、書き込みパルス用として
のＰとｐ ＩＩという等量のエネルギーを持つ３種類の
放射線パルスＰ。
ｐ／、ＰＩ／により与えられる。
第７ｂ図は、連続する選択時間間隔τからなる１個の群
の内の第２番目以降の時間間隔τに於ける放射線エネル
ギーの照射方法を示している。この時、その放射線エネ
ルギーは１個の単位放射線パルスのみによって情報層２
に与えられる。
の内の第２番目以降の時間間隔τに於ける放射線エネル
ギーの照射方法を示している。この時、その放射線エネ
ルギーは１個の単位放射線パルスのみによって情報層２
に与えられる。
第８ａ図は、９個の連続した選択時間間隔て１゜・・・
、τ９からなる１個の群の内に発生する単位放射線パル
スＰＩ′、ＰＩ″及びＰ＋、・・・、Ｐ９を示す。そし
てこの場合の放射線エネルギーは第７図に示した方法に
より照射される。
、τ９からなる１個の群の内に発生する単位放射線パル
スＰＩ′、ＰＩ″及びＰ＋、・・・、Ｐ９を示す。そし
てこの場合の放射線エネルギーは第７図に示した方法に
より照射される。
第８ｂ図は、放射線パルスＰ’ 、Ｐ” 、Ｐ＋、・・
・。
・。
Ｐ９を照射した直後の情報層２における温度分布Ｔ Ｉ
’ ＨＴ Ｉ” 、ＴＩ ＋・・・、Ｔ９を示す。
’ ＨＴ Ｉ” 、ＴＩ ＋・・・、Ｔ９を示す。
第８０図中、その群の内の第１番目の選択時間間隔中に
形成されてその光学的性質が変更された領域が参照番号
１０で示される。この領域１０は、放射線パルスｐ 、
／ＪとＰｌにより形成された２個の重なった記録用マ
ーク５からなり、第８Ｃ図の斜線部で示される。
形成されてその光学的性質が変更された領域が参照番号
１０で示される。この領域１０は、放射線パルスｐ 、
／ＪとＰｌにより形成された２個の重なった記録用マ
ーク５からなり、第８Ｃ図の斜線部で示される。
本発明の他の方法を第１５図を参照して説明する。この
方法によると、アブラテイブ記録法で通常用いられてい
るビームの直径と同じ径のビームを用いて、ＥＦＭ信号
のアブラテイブ記録法の当該規格に適合する大きさを有
する情報パターンを前述の感熱情報層に設けることがで
きる。
方法によると、アブラテイブ記録法で通常用いられてい
るビームの直径と同じ径のビームを用いて、ＥＦＭ信号
のアブラテイブ記録法の当該規格に適合する大きさを有
する情報パターンを前述の感熱情報層に設けることがで
きる。
第１５ａ図は、４個連続している論理値“１′のピット
セルからなるＥＦＭ符号化情報を示す。
セルからなるＥＦＭ符号化情報を示す。
この情報信号に対応する情報パターンは第１５ｂ図に示
された放射線パルスＰ１°’、Ｐ＋’、Ｐ２°及びＰ３
°により書き込むことが出来る。対応する温度差Ｔ１°
°、Ｔ１°、Ｔ２°及びＴ３°が第１５ｃ図に示されて
いる。放射線パルスＰ＋’及びＰ２°により、その寸法
がアブラティブ記録法の最適寸法に対応した２個の重な
った記録用マーク５ａ及び５ｂが形成される。放射線パ
ルスＰ１°°は予備加熱パルスとして機能する。予備加
熱パルスＰ１°°により情報層の温度Ｔ１°°が記録レ
ベルＴｓ以上のレベルに上昇することに注目されたい。
された放射線パルスＰ１°’、Ｐ＋’、Ｐ２°及びＰ３
°により書き込むことが出来る。対応する温度差Ｔ１°
°、Ｔ１°、Ｔ２°及びＴ３°が第１５ｃ図に示されて
いる。放射線パルスＰ＋’及びＰ２°により、その寸法
がアブラティブ記録法の最適寸法に対応した２個の重な
った記録用マーク５ａ及び５ｂが形成される。放射線パ
ルスＰ１°°は予備加熱パルスとして機能する。予備加
熱パルスＰ１°°により情報層の温度Ｔ１°°が記録レ
ベルＴｓ以上のレベルに上昇することに注目されたい。
この結果、情報層の領域５０の範囲の光学的性質が変化
する。しかしながら、図示のように、もしこの領域が小
さくて完全に記録用マーク５ａに重なっている場合には
、このことは問題とはならない。この場合領域５０の光
学的性質の変化は情報層の大きさに影響を与えない。記
録用マーク５ａ、５ｂ、５ｃにより形成されていて光学
的性質が変更された領域が論理値“１゛の４個のビット
セルに対応するようにするため、放射線パルスＰ３°に
より記録用マーク５Ｃが記録用マーク５ｂと重なるよう
に記録される。
する。しかしながら、図示のように、もしこの領域が小
さくて完全に記録用マーク５ａに重なっている場合には
、このことは問題とはならない。この場合領域５０の光
学的性質の変化は情報層の大きさに影響を与えない。記
録用マーク５ａ、５ｂ、５ｃにより形成されていて光学
的性質が変更された領域が論理値“１゛の４個のビット
セルに対応するようにするため、放射線パルスＰ３°に
より記録用マーク５Ｃが記録用マーク５ｂと重なるよう
に記録される。
連続した選択時間間隔からなる１個の群の内の第１番目
の選択時間間隔て１に於いては、お互いに相対的にシフ
トされた２個の放射線パルスをその時間間隔τ１中に固
定された時点ｔ１とｔ２とで発生させ、続いて第２番目
以降の選択時間間隔τ２．τ３゜・・・の各々に於いて
は、１個の放射線パルスをこれらの各時間間隔内の固定
時点ｔ３で発生させるようにして、連続する放射線パル
スＰ１°°、Ｐ１°、Ｐ２°及びＰ３°からなる１個の
群を得ることができる。
の選択時間間隔て１に於いては、お互いに相対的にシフ
トされた２個の放射線パルスをその時間間隔τ１中に固
定された時点ｔ１とｔ２とで発生させ、続いて第２番目
以降の選択時間間隔τ２．τ３゜・・・の各々に於いて
は、１個の放射線パルスをこれらの各時間間隔内の固定
時点ｔ３で発生させるようにして、連続する放射線パル
スＰ１°°、Ｐ１°、Ｐ２°及びＰ３°からなる１個の
群を得ることができる。
第９図は、本発明の方法を実施するための装置２０の実
施例を示す。この装置はディスク形状の情報体１を回転
させる駆動システム２１からなる。
施例を示す。この装置はディスク形状の情報体１を回転
させる駆動システム２１からなる。
光学システム３は回転する記録担体ｌの情報層２の反対
側に置かれ、放射線源２２から放出された放射線ビーム
４が情報層２に集束する。放射線源２２は、放出された
放射線の強度を制御部２３が発生する制御信号Ｒｓに応
じて変調することが出来る。放射線源２２は、制御信号
Ｒｓの論理レベルに応じてＯＮ、ＯＦＦとなる例えば固
体レーザーでも良い。
側に置かれ、放射線源２２から放出された放射線ビーム
４が情報層２に集束する。放射線源２２は、放出された
放射線の強度を制御部２３が発生する制御信号Ｒｓに応
じて変調することが出来る。放射線源２２は、制御信号
Ｒｓの論理レベルに応じてＯＮ、ＯＦＦとなる例えば固
体レーザーでも良い。
他の適当な放射線源２２が第１Ｏ図に示されている。こ
の放射線源２２は放射線ビーム４を連続的に発生するレ
ーザー２５からなる。ビーム４は、制御信号Ｒｓによっ
て制御される音響−光学変調器２６を通過する。その音
響−光学変調器２６は制御信号の論理レベルに応じてそ
のビームを変向させたりさせなかったりする。その結果
、光学システム３に到達するビーム４は制御信号Ｒｓに
対応していることになる。
の放射線源２２は放射線ビーム４を連続的に発生するレ
ーザー２５からなる。ビーム４は、制御信号Ｒｓによっ
て制御される音響−光学変調器２６を通過する。その音
響−光学変調器２６は制御信号の論理レベルに応じてそ
のビームを変向させたりさせなかったりする。その結果
、光学システム３に到達するビーム４は制御信号Ｒｓに
対応していることになる。
第１１図は放射線２２の制御信号Ｒｓを発生する制御部
２３の一例を示している。情報信号 Ｖｉ（第１２図参
照）は、論理値“ｌ”のビットセルの数が少なくとも３
個連続する２値化信号、例えばＥＦＭ符号化信号である
。制御部２３は、記録されるべき情報信号Ｖ１を記憶す
るメモリ３０を有する。メモリ３０はクロック信号Ｃ１
′と同期させて出力に情報信号Ｖ、を供給する。そのよ
うなメモリの例としてはシフトレジスタがあげられる。
２３の一例を示している。情報信号 Ｖｉ（第１２図参
照）は、論理値“ｌ”のビットセルの数が少なくとも３
個連続する２値化信号、例えばＥＦＭ符号化信号である
。制御部２３は、記録されるべき情報信号Ｖ１を記憶す
るメモリ３０を有する。メモリ３０はクロック信号Ｃ１
′と同期させて出力に情報信号Ｖ、を供給する。そのよ
うなメモリの例としてはシフトレジスタがあげられる。
クロック信号Ｃ１′の連続する期間が連続する当該時間
間隔に対応する。クロック信号Ｃ１′は８倍高速のクロ
ック信号ＣＩから３ビツトカウンタ３１によって作られ
る。第１２図は時間の函数として信号ＣＩ、Ｃ１’及び
Ｖ、を示している。クロック信号Ｃ１は、情報信号Ｖ１
が記録されるべき領域での記録担体１の速度に同期して
いる。クロック信号を発生させる方法は本発明の範囲外
であるのでここでは詳述しない。これの参照文献には本
出願人の特開昭５６−１０５３４３号公報があげられる
が、この出願には、光学的に読み取り可能な記録担体に
記録する目的のための速度−同期クロック信号を発生さ
せる方法が包括的に記載されている。メモリ３０から供
給された情報信号■１は、遅延回路３２と３３、例えば
クロック信号Ｃ１′により制御された１ビツトシフトレ
ジスタ、によりクロック信号Ｃ１′の２クロック周期分
遅延される。遅延された情報信号■１′が第１２図に示
されている。
間隔に対応する。クロック信号Ｃ１′は８倍高速のクロ
ック信号ＣＩから３ビツトカウンタ３１によって作られ
る。第１２図は時間の函数として信号ＣＩ、Ｃ１’及び
Ｖ、を示している。クロック信号Ｃ１は、情報信号Ｖ１
が記録されるべき領域での記録担体１の速度に同期して
いる。クロック信号を発生させる方法は本発明の範囲外
であるのでここでは詳述しない。これの参照文献には本
出願人の特開昭５６−１０５３４３号公報があげられる
が、この出願には、光学的に読み取り可能な記録担体に
記録する目的のための速度−同期クロック信号を発生さ
せる方法が包括的に記載されている。メモリ３０から供
給された情報信号■１は、遅延回路３２と３３、例えば
クロック信号Ｃ１′により制御された１ビツトシフトレ
ジスタ、によりクロック信号Ｃ１′の２クロック周期分
遅延される。遅延された情報信号■１′が第１２図に示
されている。
ＡＮＤゲート３４に情報信号ｖ２と遅延情報信号Ｖ 、
７が加えられ、記録用マークが形成されるべき選択時
間間隔を示す信号Ｖｓが出力される。
７が加えられ、記録用マークが形成されるべき選択時
間間隔を示す信号Ｖｓが出力される。
クロック信号Ｃ１′によってクロックされるフリップフ
ロップの形でメモリ３５に信号Ｖｓが１単位時間間隔τ
の間記憶される。インバータ回路３７とＡＮＤゲート３
８に信号ＶＳとＶｓ’が人力されて信号ｖ、２が出力さ
れると、Ｖｓで表示された選択時間間隔の先頭は選択時
間間隔τであることが示される。ＡＮＤゲート３６に信
号Ｖｓとｖｓ′が人力されて信号Ｖ９１が発生すると、
Ｖｓで表示された選択時間間隔の先頭は非選択時間間隔
τであることが示される。回路３９が２個の制御信号Ｒ
１とＲ２を３−ビットカウンタ３１のカウントにより発
生させる。信号Ｒ１は連続する選択時間間隔τからなる
１個の群の各第１番目の選択時間間隔τ内での放射線源
２２に対する制御信号を示している。信号Ｒ２は、連続
する選択時間間隔τからなる各群に於ける第２番目以降
の各選択時間間隔内での放射線源２２に対する制御信号
を示している。
ロップの形でメモリ３５に信号Ｖｓが１単位時間間隔τ
の間記憶される。インバータ回路３７とＡＮＤゲート３
８に信号ＶＳとＶｓ’が人力されて信号ｖ、２が出力さ
れると、Ｖｓで表示された選択時間間隔の先頭は選択時
間間隔τであることが示される。ＡＮＤゲート３６に信
号Ｖｓとｖｓ′が人力されて信号Ｖ９１が発生すると、
Ｖｓで表示された選択時間間隔の先頭は非選択時間間隔
τであることが示される。回路３９が２個の制御信号Ｒ
１とＲ２を３−ビットカウンタ３１のカウントにより発
生させる。信号Ｒ１は連続する選択時間間隔τからなる
１個の群の各第１番目の選択時間間隔τ内での放射線源
２２に対する制御信号を示している。信号Ｒ２は、連続
する選択時間間隔τからなる各群に於ける第２番目以降
の各選択時間間隔内での放射線源２２に対する制御信号
を示している。
信号Ｖ９２が、選択時間間隔からなる１個の群の第１番
目の時間間隔内に記録用マークが書き込まれるべきであ
ることを示している場合には、制御信号Ｒ＋ ’がＡＮ
Ｄゲート４０とＯＲゲート４２によって放射線源２２に
伝達される。もし信号Ｖ９１が、選択時間間隔てからな
る１個の群の第２番目以降の時間間隔内に記録用マーク
が書き込まれるべきであるということを示している場合
には、制御信号Ｒ２’がＡＮＤゲート４１とＯＲゲート
４２によって放射線源２２に伝達される。
目の時間間隔内に記録用マークが書き込まれるべきであ
ることを示している場合には、制御信号Ｒ＋ ’がＡＮ
Ｄゲート４０とＯＲゲート４２によって放射線源２２に
伝達される。もし信号Ｖ９１が、選択時間間隔てからな
る１個の群の第２番目以降の時間間隔内に記録用マーク
が書き込まれるべきであるということを示している場合
には、制御信号Ｒ２’がＡＮＤゲート４１とＯＲゲート
４２によって放射線源２２に伝達される。
第１２図に示した制御信号Ｒ１とＲ２は一定のデューレ
ーションのパルスからなり、Ｒ１は各時間間隔τ内で３
個の単位パルスを発生させ、Ｒ２は各時間間隔τ内で１
個の単位パルスのみしか発生させない。制御信号Ｒ１と
Ｒ２は、例えば、第１３図に示した回路３９によってカ
ウンタ３１のカウントにより作られる。この回路はカウ
ンタ３１のカウントに応じて３個の信号Ｓ ＋ 、 Ｓ
２及びＲ２を発生するゲート回路５４からなる。
ーションのパルスからなり、Ｒ１は各時間間隔τ内で３
個の単位パルスを発生させ、Ｒ２は各時間間隔τ内で１
個の単位パルスのみしか発生させない。制御信号Ｒ１と
Ｒ２は、例えば、第１３図に示した回路３９によってカ
ウンタ３１のカウントにより作られる。この回路はカウ
ンタ３１のカウントに応じて３個の信号Ｓ ＋ 、 Ｓ
２及びＲ２を発生するゲート回路５４からなる。
連続するカウントＡ。、・・・、Ａ７．カウンタ３１の
出力信号Ｑ ＋ 、 Ｑ ２及びＱ３並びに出力信号Ｓ
ｌ、Ｓ２及びＲ２の関係が次の表１に示されている。
出力信号Ｑ ＋ 、 Ｑ ２及びＱ３並びに出力信号Ｓ
ｌ、Ｓ２及びＲ２の関係が次の表１に示されている。
表１
カウント ＱＩ Ｑ２ Ｑ３ ＳＩ Ｓ２
Ｒ２Ａθ ｏｏｏｔｏ。
Ｒ２Ａθ ｏｏｏｔｏ。
Ａ＋ ＯＯ１０００
Ａ２ ０ １ ０ ０ １ ０Ａ３ ０
１ １ ０ ０ ０ｋａ Ｉ ０
０ ０ ０ １Ａｓ １ ０ １
０ ０ ０Ａａ １ １ ０ ０
０ ０Ａｖ １ １ １ ０ ０ ０
個号Ｓｌ、Ｓ２及びＲ２は、出力信号Ｒ１が発生するＯ
Ｒゲート５１に加えられる。
１ １ ０ ０ ０ｋａ Ｉ ０
０ ０ ０ １Ａｓ １ ０ １
０ ０ ０Ａａ １ １ ０ ０
０ ０Ａｖ １ １ １ ０ ０ ０
個号Ｓｌ、Ｓ２及びＲ２は、出力信号Ｒ１が発生するＯ
Ｒゲート５１に加えられる。
第１４図は制御信号Ｒ１とＲ２を発生させる回路３９の
他の例を示し、各時間間隔てに於いて制御信号Ｒ＋に応
じて第一の幅の制御パルスを発生させ、・各時間間隔に
おいて制御信号Ｒ２に応じて、第一の幅より狭い第この
幅の制御パルスを発生させる。
他の例を示し、各時間間隔てに於いて制御信号Ｒ＋に応
じて第一の幅の制御パルスを発生させ、・各時間間隔に
おいて制御信号Ｒ２に応じて、第一の幅より狭い第この
幅の制御パルスを発生させる。
この目的のために、この回路は２個の単安定マルチバイ
ブレータ５２及び５３から構成され、カウンタ３１の出
力信号Ｑ１の０−１遷移に応じて、マルチバイブレータ
５２は幅の広いパルスを、マルチバイブレータ５３は狭
いパルスを発生させる。
ブレータ５２及び５３から構成され、カウンタ３１の出
力信号Ｑ１の０−１遷移に応じて、マルチバイブレータ
５２は幅の広いパルスを、マルチバイブレータ５３は狭
いパルスを発生させる。
第１６図は、第１Ｓ図に示された書き込み方法を実行す
るための装置の実施例を示し、この装置の各部分は第１
１図で同じ参照番号を附した部分に対応している。第１
６図に於いては、信号Ｖ、とＣＩ’の２クロック周期分
遅延された信号■ｌ′の代わりに、■１とＣ１′のｌク
ロック周期分遅延された信号ｖ１．′がＡＮＤゲート３
４に与えられる。１個の“３ビツト″マークは第８図に
於いては１個の時間間隔内で書き込まれるが、第１５図
の方法では２個の連続する時間間隔内で書き込まれるの
で、信号■１は１個の時間間隔のみ遅延されれば良く、
遅延回路３３は不必要となる。第１６図の実施例に於い
ては、選択された時間間隔てを示す出力信号Ｖ ５８は
、論理値“１″がＳ個連続するビットセルからなる各群
のＳ−１個の時間間隔の間゛１′′になる。信号Ｖ ９
ａで示されるその群の内の第１番目の選択時間間隔の
間、回路３９ａから出力信号Ｒ＋ ａが放射線Ｒ２２に
送られる。選択時間間隔からなる各群の内の第２番目以
降の選択時間間隔の間には、信号Ｒ２ａが与えられる。
るための装置の実施例を示し、この装置の各部分は第１
１図で同じ参照番号を附した部分に対応している。第１
６図に於いては、信号Ｖ、とＣＩ’の２クロック周期分
遅延された信号■ｌ′の代わりに、■１とＣ１′のｌク
ロック周期分遅延された信号ｖ１．′がＡＮＤゲート３
４に与えられる。１個の“３ビツト″マークは第８図に
於いては１個の時間間隔内で書き込まれるが、第１５図
の方法では２個の連続する時間間隔内で書き込まれるの
で、信号■１は１個の時間間隔のみ遅延されれば良く、
遅延回路３３は不必要となる。第１６図の実施例に於い
ては、選択された時間間隔てを示す出力信号Ｖ ５８は
、論理値“１″がＳ個連続するビットセルからなる各群
のＳ−１個の時間間隔の間゛１′′になる。信号Ｖ ９
ａで示されるその群の内の第１番目の選択時間間隔の
間、回路３９ａから出力信号Ｒ＋ ａが放射線Ｒ２２に
送られる。選択時間間隔からなる各群の内の第２番目以
降の選択時間間隔の間には、信号Ｒ２ａが与えられる。
１８号Ｒ＋ａとＲ２ａは、例えば、第１３図の場合と同
様に、カウンタ３１のカウントから得ることができる。
様に、カウンタ３１のカウントから得ることができる。
ＲｌａとＲ２ａ及びカウンタ３１の出力信号Ｑ＋、
Ｑ２及びＱ３の関係が次の表２に示されている。
Ｑ２及びＱ３の関係が次の表２に示されている。
表２
カウント ＱＩ Ｑ２ Ｑ３ Ｒｌａ
Ｒ２−Ａ１＋ ＯＯ０００ Ａ＋ ＯＯ１１Ｏ Ａ２ ０ ｌＯ００ Ａ３ ０ １ １ ０ １ｋａ
ｌ Ｏ０１０ Ａｓ １ ０ １ ０ ０Ａｓ
１ １ ０ ０ ０Ａ７ １
１ １ ０ ０第８図の書き込み方法
と第１５図の書き込み方法の相違は、１個の“３ピッド
パマーク（第８図の１０及び第１５図中の５ａと５ｂ）
を書き込むのに、第８図の方法では３個のパルスを１個
の時間間隔内に発生させているが、第１５図の方法に於
いては２個の連続する時間間隔内に３個のパルスを発生
させている点にある。第１５図の第３パルスの（この時
間間隔内での）パ時点″はＪ３１１である。この時点は
、第４パルスを発生させる“時点″′と同じである。第
１番目の時間間隔内のｔ２と第２番目の時間間隔内のｔ
３との間の時間差は、対応するマーク５ａと５ｂの長さ
が１個の“３ビツト″マークを示すように選択される。
Ｒ２−Ａ１＋ ＯＯ０００ Ａ＋ ＯＯ１１Ｏ Ａ２ ０ ｌＯ００ Ａ３ ０ １ １ ０ １ｋａ
ｌ Ｏ０１０ Ａｓ １ ０ １ ０ ０Ａｓ
１ １ ０ ０ ０Ａ７ １
１ １ ０ ０第８図の書き込み方法
と第１５図の書き込み方法の相違は、１個の“３ピッド
パマーク（第８図の１０及び第１５図中の５ａと５ｂ）
を書き込むのに、第８図の方法では３個のパルスを１個
の時間間隔内に発生させているが、第１５図の方法に於
いては２個の連続する時間間隔内に３個のパルスを発生
させている点にある。第１５図の第３パルスの（この時
間間隔内での）パ時点″はＪ３１１である。この時点は
、第４パルスを発生させる“時点″′と同じである。第
１番目の時間間隔内のｔ２と第２番目の時間間隔内のｔ
３との間の時間差は、対応するマーク５ａと５ｂの長さ
が１個の“３ビツト″マークを示すように選択される。
第１５図の方法に於いては、 “時点″ｔ１とｔ２でパ
ルスを発生させる制御信号Ｒ＋ａと、 “時点”ｔ３で
パルスを発生させる制御信号Ｒ２１１という２種類の制
御信号のみで足りる。
ルスを発生させる制御信号Ｒ＋ａと、 “時点”ｔ３で
パルスを発生させる制御信号Ｒ２１１という２種類の制
御信号のみで足りる。
前述した制御部は放射線源２２に対し２種類の異なった
タイプの制御信号しか発生させていない。
タイプの制御信号しか発生させていない。
同様な方法でもっと多くの異なったタイプの制御信号を
発生させることが出来ることは明らかであろう。
発生させることが出来ることは明らかであろう。
ＥＦＭ符号化情報信号を例に本発明の説明を行った。こ
の情報信号では、選択時間間隔内の記録用マークの寸法
はタイプの同じ３ビツトからなる１個の群の寸法に対応
している。同じタイプのもっと長いビット群も記録用マ
ークを重ねて形成することにより得ることができる。本
発明の方法によれば、先行する時間間隔で照射された放
射線エネルギーによって生じた温度効果を補償すること
ができる。そのような温度効果は、又、記録用マークの
長さが３ビツト以外の長さ、例えば１ビツトに対応する
情報信号を記録する場合にも発生する。本発明がそのよ
うな場合にも容易に適用できることは言うまでもない。
の情報信号では、選択時間間隔内の記録用マークの寸法
はタイプの同じ３ビツトからなる１個の群の寸法に対応
している。同じタイプのもっと長いビット群も記録用マ
ークを重ねて形成することにより得ることができる。本
発明の方法によれば、先行する時間間隔で照射された放
射線エネルギーによって生じた温度効果を補償すること
ができる。そのような温度効果は、又、記録用マークの
長さが３ビツト以外の長さ、例えば１ビツトに対応する
情報信号を記録する場合にも発生する。本発明がそのよ
うな場合にも容易に適用できることは言うまでもない。
本発明は、その構造が加熱によって非晶質から結晶体に
変化することが可能な材料からなる情報層について記述
された。本発明には、光学的性質が加熱により変えられ
る他の材料、例えば、熱を加えると化学反応を誘起し光
学的性質に変化をもたらすもの、又は、熱磁気記録法に
用いられる材料を用いることも可能であることはこれも
当業者にとって明らかなことであろう。これらの材料に
間しては、前述した本゛光学ディスクシステムの原理″
の第２１９〜２２５頁を参照されたい。
変化することが可能な材料からなる情報層について記述
された。本発明には、光学的性質が加熱により変えられ
る他の材料、例えば、熱を加えると化学反応を誘起し光
学的性質に変化をもたらすもの、又は、熱磁気記録法に
用いられる材料を用いることも可能であることはこれも
当業者にとって明らかなことであろう。これらの材料に
間しては、前述した本゛光学ディスクシステムの原理″
の第２１９〜２２５頁を参照されたい。
第１図は、光学的性質が加熱によって変更する事が可能
な材料に２短信号を記録する原理を示し、第２．３．５
．８、及び１５図は、本発明による方法を示し、 第４及び７図は、本発明の方法に従って放射線エネルギ
ーを照射する例を示し、 第６図は、２短信号を記録する従来方法を示し、第９及
び１６図は、本発明の方法を実施する装置の実施例を示
し、 第１０図は、第９図に示された装置の使用に適した放射
線源の一例を示し、 第１１図は、放射線源を制御するための第９図の制御部
の最適例を示し、 第１２図は、第１１図に示された制御部により発生する
信号を示し、第１３及び１４図は第１１図に示された制
御部の部分を示す。 １・・・透明記録体、 ２・・・情報層、３・・・光
学システム、４・・・放射線ビーム、５・・・記録用マ
ーク、６・・・記録レベルＴｓを示す線、７・・・ 矢
印、 １０．５０・・・光学的性質が変更された領域、２０・
・・本発明の方法を実施する装置、２１・・・駆動シス
テム、２２・・・放射線源、２３・・・制御部、
２５・・・ レーザー、２６・・・音響−光学変調器
、 ３０．３５・・・メモｌへ ３１・・・ ３ビツトカウ
ンタ、３２．３３・・・遅延回路、 ３４、 ３６． ３Ｂ、 ４０． ４１
・・・ Ａ Ｎ Ｄゲー ト、３７・・・ インバータ
回路、 ３９・・・信号発生回路、４２．５１・・・ＯＲゲート
、５２．５３・・・マルチバイブレータ ５４・−・ゲート回路 嘔１０の ＄ ｌｂ ｒｒ ｍｏｕｎ＋＋＋＋ｏｏｏｏｏｏ＋ｍｍｕｕ Ｑ
ヌ３図 箋４０ １９図 １１０田 竿１２図
な材料に２短信号を記録する原理を示し、第２．３．５
．８、及び１５図は、本発明による方法を示し、 第４及び７図は、本発明の方法に従って放射線エネルギ
ーを照射する例を示し、 第６図は、２短信号を記録する従来方法を示し、第９及
び１６図は、本発明の方法を実施する装置の実施例を示
し、 第１０図は、第９図に示された装置の使用に適した放射
線源の一例を示し、 第１１図は、放射線源を制御するための第９図の制御部
の最適例を示し、 第１２図は、第１１図に示された制御部により発生する
信号を示し、第１３及び１４図は第１１図に示された制
御部の部分を示す。 １・・・透明記録体、 ２・・・情報層、３・・・光
学システム、４・・・放射線ビーム、５・・・記録用マ
ーク、６・・・記録レベルＴｓを示す線、７・・・ 矢
印、 １０．５０・・・光学的性質が変更された領域、２０・
・・本発明の方法を実施する装置、２１・・・駆動シス
テム、２２・・・放射線源、２３・・・制御部、
２５・・・ レーザー、２６・・・音響−光学変調器
、 ３０．３５・・・メモｌへ ３１・・・ ３ビツトカウ
ンタ、３２．３３・・・遅延回路、 ３４、 ３６． ３Ｂ、 ４０． ４１
・・・ Ａ Ｎ Ｄゲー ト、３７・・・ インバータ
回路、 ３９・・・信号発生回路、４２．５１・・・ＯＲゲート
、５２．５３・・・マルチバイブレータ ５４・−・ゲート回路 嘔１０の ＄ ｌｂ ｒｒ ｍｏｕｎ＋＋＋＋ｏｏｏｏｏｏ＋ｍｍｕｕ Ｑ
ヌ３図 箋４０ １９図 １１０田 竿１２図
Claims (8)
- （１）光学的性質が加熱により変化する情報層からなる
光学的に読み取り可能な記録担体に２値情報信号を記録
するために、その情報信号に対応した情報パターンがそ
の情報層に形成され、その情報パターンが光学的性質が
変化した記録領域と光学的性質が変化していない非記録
領域からなり、その記録領域がその情報層に放射線ビー
ムを集束させるシステムとその情報層とをお互いに相対
的に移動させることによって得られ、 連続しかつ重なっている記録用マークからなる１個の群
の各連続する記録用マークが放射線ビームによりターゲ
ット領域を加熱し、ターゲット領域の光学的性質を変化
させるように形成されている記録方法に於いて、その群
の内の記録用マークの各々を形成するための放射線のエ
ネルギーがその群に於けるその記録用マークの位置に応
じて決められることを特徴とする光学的に読み取り可能
な記録担体に２値情報信号を記録する方法。 - （２）その群の第１番目の記録用マークを形成する放射
線エネルギーを第一の既定方法により決め、第２番目以
降の記録用マークを形成するための放射線エネルギーを
第二の方法で決めることを特徴とする特許請求の範囲第
（１）項記載の２値情報信号を記録する方法。 - （３）放射線エネルギーが放射線パルスにより与えられ
、記録用マークを形成するための放射線エネルギーを与
えるための放射線パルスの数がその群の記録用マークの
位置に対応して決められることを特徴とする特許請求の
範囲第（１）項又は（２）項記載の２値情報信号を記録
する方法。 - （４）その群の第１番目の記録用マークが既定時間間隔
経過後に書き込み放射線パルスが続く少なくとも１個の
予備加熱放射線パルスにより形成され、情報層に記録用
マークを形成する書き込み放射線パルスと予備加熱放射
線パルスのエネルギー量が、書き込み放射線パルスによ
り形成される記録用マークが占める領域外の光学的性質
を変化させないように決められていることを特徴とする
特許請求の範囲第（１）項又は第（２）項記載の２値情
報信号を記録する方法。 - （５）情報信号がビットセルからなり、第１論理値の連
続するビットセルの数を少なくとも２以上の整数ｎとし
、書き込み領域が２以上の整数であるｍ個のビットセル
からなるとしたとき、本質的に等間隔なｍ−ｎ＋１個の
時点からなる列の各時点毎に１個の放射線パルスを照射
することにより記録用マークを形成して書き込み領域を
得、この際、当該時点の列の第１番目の時点より既定時
間前の時点に於いて、拡大放射線パルスを発生させて拡
大された記録用マークを形成し、その拡大された記録用
マークが時点列の第１番目の時点の記録用マークと重な
るようにし、２個の重なった記録用マークの大きさをｎ
ビットセルの長さに対応させることを特徴とする前項の
何れかに記載の特許請求の範囲の２値情報信号を記録す
る方法。 - （６）放射線源、その放射線源により発生させた放射線
を記録担体の情報層に集束させてその情報層の光学的性
質を加熱によって変化させる光学システム、その記録担
体とその光学システムをお互いに相対的に移動させる駆
動手段、及び２値情報信号に基づいて放射線源を制御す
る制御部からなる装置であって、連続する制御信号の群
が２値情報信号に応じて得られ、その放射線源がその群
の各々の各制御信号に応じてその情報層上に光学的性質
が変化した記録用マークを形成させるのに十分な熱をそ
の情報層に加える放射線を発生させる装置に於いて、 その制御部が異なったタイプの制御信号を発生させる信
号発生手段からなり、連続する制御信号の群内での制御
信号の位置に応じて制御信号のタイプを決め、放射線源
が制御信号のタイプに応じて放射線エネルギー量を決め
るように構成されていることを特徴とする装置。 - （７）信号発生手段が、第一タイプの制御信号を各群の
第１番目の制御信号として発生させ、第二タイプの制御
信号を各群の第２番目以降の制御信号として発生させる
ように機能することを特徴とする特許請求の範囲第（６
）項記載の装置。 - （８）その制御部が制御パルスからなる制御信号を発生
させ、その放射線源が制御信号に応じた放射線パルスを
発生させ、その信号発生手段が制御信号からなるその群
に於ける制御信号の位置によって制御信号の各タイプに
対して制御パルスの数が決まるように制御信号を発生さ
せることを特徴とする特許請求の範囲第（６）項又は第
（７）項記載の装置。（９）制御部がビットセルの長さ
に対応した長さを有する連続した時間間隔からなる１個
の群から時間間隔を選択し、選択された間隔の各々に於
て制御パルスからなる制御信号を発生させ、放射線源が
１個の制御信号に対応して１個の放射線パルスを発生さ
せ、その信号発生手段が、その選択された間隔内での時
点が連続して選択された時間間隔からなる群各々で選択
された間隔の位置によって決まるような制御信号を発生
させるようになされていることを特徴としたビットセル
からなる２値信号を記録する特許請求の範囲第（６）項
記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8602718A NL8602718A (nl) | 1986-10-29 | 1986-10-29 | Werkwijze voor het optekenen van een tweewaardig signaal op een optisch uitleesbare registratiedrager en een inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze. |
| NL8602718 | 1986-10-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63153726A true JPS63153726A (ja) | 1988-06-27 |
| JPH0777026B2 JPH0777026B2 (ja) | 1995-08-16 |
Family
ID=19848740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62268011A Expired - Lifetime JPH0777026B2 (ja) | 1986-10-29 | 1987-10-22 | ２値情報信号を記録する方法及びその装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4774522A (ja) |
| EP (1) | EP0266833B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0777026B2 (ja) |
| KR (1) | KR950006411B1 (ja) |
| CA (1) | CA1296425C (ja) |
| DE (1) | DE3777957D1 (ja) |
| NL (1) | NL8602718A (ja) |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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