JPS6314880A - 金属メツキ処理方法 - Google Patents
金属メツキ処理方法Info
- Publication number
- JPS6314880A JPS6314880A JP15609786A JP15609786A JPS6314880A JP S6314880 A JPS6314880 A JP S6314880A JP 15609786 A JP15609786 A JP 15609786A JP 15609786 A JP15609786 A JP 15609786A JP S6314880 A JPS6314880 A JP S6314880A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal plating
- polyphenylene sulfide
- resin composition
- sulfide resin
- plating layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 120
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 109
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 109
- 238000011282 treatment Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 82
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 claims abstract description 70
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 claims abstract description 70
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 40
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 29
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 29
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 58
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 31
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 17
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 13
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical group [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 11
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 11
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000012763 reinforcing filler Substances 0.000 claims description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 4
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 4
- 230000032683 aging Effects 0.000 claims description 4
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 claims description 4
- 238000010790 dilution Methods 0.000 claims description 4
- 239000012895 dilution Substances 0.000 claims description 4
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 4
- 239000012974 tin catalyst Substances 0.000 claims description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 3
- 235000012241 calcium silicate Nutrition 0.000 claims description 3
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 3
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 3
- ZMLDXWLZKKZVSS-UHFFFAOYSA-N palladium tin Chemical compound [Pd].[Sn] ZMLDXWLZKKZVSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 2
- 125000005624 silicic acid group Chemical group 0.000 claims 2
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 abstract description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-N ammonium fluoride Chemical compound [NH4+].[F-] LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 26
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- -1 alkali metal salt Chemical class 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- 238000001994 activation Methods 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 4
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003071 polychlorinated biphenyls Chemical class 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- KMUONIBRACKNSN-UHFFFAOYSA-N potassium dichromate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O KMUONIBRACKNSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 229910052705 radium Inorganic materials 0.000 description 2
- HCWPIIXVSYCSAN-UHFFFAOYSA-N radium atom Chemical compound [Ra] HCWPIIXVSYCSAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940079101 sodium sulfide Drugs 0.000 description 2
- 229910052979 sodium sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- ZGHLCBJZQLNUAZ-UHFFFAOYSA-N sodium sulfide nonahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Na+].[Na+].[S-2] ZGHLCBJZQLNUAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZXOZSQDJJNBRC-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzenethiol Chemical compound SC1=CC=C(Cl)C=C1 VZXOZSQDJJNBRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000006004 Quartz sand Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 239000004433 Thermoplastic polyurethane Substances 0.000 description 1
- 241000838698 Togo Species 0.000 description 1
- HLZBOFSEJLPGMJ-UHFFFAOYSA-N [Sn].[Ra] Chemical compound [Sn].[Ra] HLZBOFSEJLPGMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- 235000013405 beer Nutrition 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXJJSXABGXMUSU-UHFFFAOYSA-N disulfur dichloride Chemical compound ClSSCl PXJJSXABGXMUSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009429 electrical wiring Methods 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 239000005007 epoxy-phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000004800 psychological effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXMKPNITSTVMEF-UHFFFAOYSA-M sodium benzoate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 WXMKPNITSTVMEF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000010234 sodium benzoate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004299 sodium benzoate Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M sodium hydrosulfide Chemical compound [Na+].[SH-] HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940048181 sodium sulfide nonahydrate Drugs 0.000 description 1
- WMDLZMCDBSJMTM-UHFFFAOYSA-M sodium;sulfanide;nonahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Na+].[SH-] WMDLZMCDBSJMTM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/22—Roughening, e.g. by etching
- C23C18/24—Roughening, e.g. by etching using acid aqueous solutions
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/032—Organic insulating material consisting of one material
- H05K1/0333—Organic insulating material consisting of one material containing S
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/18—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
- H05K3/181—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/381—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the substrate
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物(以
下PPS樹脂組成物と略す)の金属メッキ処理方法に関
するものであり、さらに詳しくはPPS樹脂組成物によ
る成形品とメッキ層との密着強度が大幅に改善された金
属メッキ処理方法に関する。
下PPS樹脂組成物と略す)の金属メッキ処理方法に関
するものであり、さらに詳しくはPPS樹脂組成物によ
る成形品とメッキ層との密着強度が大幅に改善された金
属メッキ処理方法に関する。
ポリフェニレンサルファイド樹脂(以下PPS樹脂と略
す)は、極めて高度の耐熱性、耐薬品性、電気的性質、
耐燃焼性を有し、さらに強化充填剤等を用いて強化する
ことにより優れた機械的強度、剛性及び寸法安定性を示
すことが知られており、電気・電子部品、自動車部品、
機械部品等の各種成形用途に広く用いられている。
す)は、極めて高度の耐熱性、耐薬品性、電気的性質、
耐燃焼性を有し、さらに強化充填剤等を用いて強化する
ことにより優れた機械的強度、剛性及び寸法安定性を示
すことが知られており、電気・電子部品、自動車部品、
機械部品等の各種成形用途に広く用いられている。
特に最近ではpps樹脂の有する優れた特性、例えばハ
ンダ耐熱特性、線熱膨張率、誘電特性等に着目し、電子
部品の1つである印刷回路基板(以下PCBと略す)と
しての用途展開も進められている。
ンダ耐熱特性、線熱膨張率、誘電特性等に着目し、電子
部品の1つである印刷回路基板(以下PCBと略す)と
しての用途展開も進められている。
PCBは、現在ガラス繊維等で強化されたエポキシ樹脂
、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂を金属メツ千して回
路形成し次ものが主流であるが、よシ金属メッキ層と基
板材料との密着強度が高く、さらに耐熱性に優れた基板
を生産性を考慮して効率よく量産することを目的とし、
熱可塑性樹脂、特に耐熱性、成形性に優れた熱可塑性樹
脂による検討が行なわれている。
、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂を金属メツ千して回
路形成し次ものが主流であるが、よシ金属メッキ層と基
板材料との密着強度が高く、さらに耐熱性に優れた基板
を生産性を考慮して効率よく量産することを目的とし、
熱可塑性樹脂、特に耐熱性、成形性に優れた熱可塑性樹
脂による検討が行なわれている。
PPS樹脂は、極めて優れた耐熱性、射出成形性に加え
前述のような高度の各種特性を有するが、PPS樹脂及
びその成形品の表面活性は極めて乏しく、ま九卓越した
耐薬品性に由来して化学エツチングが極めて困難であり
、他の汎用の熱可塑性樹脂、例え・ばABS樹脂に装飾
用等の金属メッキ処理を施すような場合とは本質的に手
法を変えなければならない。このため、PPS樹脂をP
CB材料として用いるべくこれまでにいくつかの研究が
なされている。例えば、pps重合体成形品を強酸化性
物質の水溶液、特に重クロム酸塩と濃硫酸の水溶液でエ
ツチングの後化学メッキする方法(特開昭51−823
71号公報)、PPS樹脂組成物からなる基体に、エポ
キシ系接着剤を介して金属層を設けて電気配線用基板と
する方法(特開昭54−85380号公報)、PPS樹
脂等の熱可塑性樹脂に熱可塑性ポリウレタン、カーデン
ブラック、2黄及び金属粉末又は金属硫化物を配合して
なる組成物により化学メッキすることなく直接電気メッ
キを施す方法(特開昭57−85994号公報)、PP
S樹脂フィルムにコロナ放電又はプラズマ処理を施した
後接着剤を介在して金属層を積層する方法(特開昭57
−186385号公報)、各種基体をシラン類を主成分
とするプライマーにより処理し念後薄い金属被覆を行な
う方法(特開昭56−112453号公報)、PPS樹
脂からなる基板に化学エツチングを施した後化学メッキ
する方法(特開昭59−54290号公報)などがある
。
前述のような高度の各種特性を有するが、PPS樹脂及
びその成形品の表面活性は極めて乏しく、ま九卓越した
耐薬品性に由来して化学エツチングが極めて困難であり
、他の汎用の熱可塑性樹脂、例え・ばABS樹脂に装飾
用等の金属メッキ処理を施すような場合とは本質的に手
法を変えなければならない。このため、PPS樹脂をP
CB材料として用いるべくこれまでにいくつかの研究が
なされている。例えば、pps重合体成形品を強酸化性
物質の水溶液、特に重クロム酸塩と濃硫酸の水溶液でエ
ツチングの後化学メッキする方法(特開昭51−823
71号公報)、PPS樹脂組成物からなる基体に、エポ
キシ系接着剤を介して金属層を設けて電気配線用基板と
する方法(特開昭54−85380号公報)、PPS樹
脂等の熱可塑性樹脂に熱可塑性ポリウレタン、カーデン
ブラック、2黄及び金属粉末又は金属硫化物を配合して
なる組成物により化学メッキすることなく直接電気メッ
キを施す方法(特開昭57−85994号公報)、PP
S樹脂フィルムにコロナ放電又はプラズマ処理を施した
後接着剤を介在して金属層を積層する方法(特開昭57
−186385号公報)、各種基体をシラン類を主成分
とするプライマーにより処理し念後薄い金属被覆を行な
う方法(特開昭56−112453号公報)、PPS樹
脂からなる基板に化学エツチングを施した後化学メッキ
する方法(特開昭59−54290号公報)などがある
。
しかし、いずれの場合においても化学エツチング等の処
理が不十分なためPPS樹脂及びPPS樹脂組成物から
なる成形品表面が活性化されず基板と金属メッキ層との
密着性に劣ったシ、他の樹脂をアロイ化することによっ
てPPS樹脂の有する優れた特性が損なわれた9、さら
には実用的な生産性に問題があるなど未だ十分なものと
は言い難い。
理が不十分なためPPS樹脂及びPPS樹脂組成物から
なる成形品表面が活性化されず基板と金属メッキ層との
密着性に劣ったシ、他の樹脂をアロイ化することによっ
てPPS樹脂の有する優れた特性が損なわれた9、さら
には実用的な生産性に問題があるなど未だ十分なものと
は言い難い。
本発明の目的は、PPS樹脂の優れた特性を損なうこと
な(PPS樹脂組成物による成形品とメッキ層との密着
強度が実用的な程度まで大幅に改善された金属メッキ処
理方法を提供することにある。
な(PPS樹脂組成物による成形品とメッキ層との密着
強度が実用的な程度まで大幅に改善された金属メッキ処
理方法を提供することにある。
そこで本発明者らは、これらの問題について鋭意研究の
結果、本発明を完成するに至っ之。
結果、本発明を完成するに至っ之。
すなわち、本発明は、PPS樹脂組成物表面に無電解金
属メッキ層を形成し、さらに無電解金属メッキ層上に電
解金属メッキ層を重ねる工程を含むPPS樹脂組成物の
金属メッキ処理方法において、無電解金属メッキ層形成
に先立つエツチング処理工程のエツチング液が硝酸と3
0〜300g(エツチング液1lに対して)酸性フッ化
アンモニウム(NH4F’−HF’と略記する)とから
なる混合液であることを特徴とするPPS樹脂組成物の
金属メンキ処理方法を提供するものである。
属メッキ層を形成し、さらに無電解金属メッキ層上に電
解金属メッキ層を重ねる工程を含むPPS樹脂組成物の
金属メッキ処理方法において、無電解金属メッキ層形成
に先立つエツチング処理工程のエツチング液が硝酸と3
0〜300g(エツチング液1lに対して)酸性フッ化
アンモニウム(NH4F’−HF’と略記する)とから
なる混合液であることを特徴とするPPS樹脂組成物の
金属メンキ処理方法を提供するものである。
本発明における金属メッキ処理方法の最大の特徴は、P
PS樹脂組成物による成形品とメッキ層との密着強度が
十分高く、PCB材料等としての実用性に極めて優れる
ことである。金属メッキ処理が必要とされる精密電子部
品材料、特にPCB基体材料の金属メッキ手法には大別
して真空蒸着等の乾式法と無電解メッキ、電解メッキに
代表される湿式法とがあるが、メッキ層の密着強度、回
路・母ターンの信頼性の面から湿式法が有用とされてい
る。
PS樹脂組成物による成形品とメッキ層との密着強度が
十分高く、PCB材料等としての実用性に極めて優れる
ことである。金属メッキ処理が必要とされる精密電子部
品材料、特にPCB基体材料の金属メッキ手法には大別
して真空蒸着等の乾式法と無電解メッキ、電解メッキに
代表される湿式法とがあるが、メッキ層の密着強度、回
路・母ターンの信頼性の面から湿式法が有用とされてい
る。
特にPCBにおいては回路が確実に保持され、断線等が
存在しないことが必須条件であり、PCB材料基体とメ
ッキ層との密着強度、例えばピーリング強度(JIS
C6481)において少なくとも1.5 kg/crn
、実用的には2.、 OkgA−rR以上が必要となる
。
存在しないことが必須条件であり、PCB材料基体とメ
ッキ層との密着強度、例えばピーリング強度(JIS
C6481)において少なくとも1.5 kg/crn
、実用的には2.、 OkgA−rR以上が必要となる
。
湿式法による金属メッキ処理においては、化学エツチン
グ処理の後無電解メッキ、!解メッキを行なうのが一般
であるが、前述のようにPP5PAi脂自体卓越した耐
薬品性を有するため多くの場合化学エツチングが不十分
となることが多い。
グ処理の後無電解メッキ、!解メッキを行なうのが一般
であるが、前述のようにPP5PAi脂自体卓越した耐
薬品性を有するため多くの場合化学エツチングが不十分
となることが多い。
湿式法による化学エツチングの目的は、成形品表面にお
いて化学的に凸凹を形成させ、この後のメッキ1脅との
間に「アンカー効果」を発現せしめることにあるが、化
学エツチングが不十分な場合当然のことながら高い密着
強度は期待できない。
いて化学的に凸凹を形成させ、この後のメッキ1脅との
間に「アンカー効果」を発現せしめることにあるが、化
学エツチングが不十分な場合当然のことながら高い密着
強度は期待できない。
ま念さらには化学エツチングが過度な場合においても、
成形品表面に著しい変質層が形成され、基体材料自体が
極度に脆化して最終的に高い密着強度を得るに到らない
。
成形品表面に著しい変質層が形成され、基体材料自体が
極度に脆化して最終的に高い密着強度を得るに到らない
。
すなわち本発明においては、特定の組成を有するエツチ
ング液を用いて化学エツチングを行なうことにより、P
PS @脂組成物による成形品の表面状態を制御し、メ
ッキ層との間に堅固なる「アンカー効果」を発現せしめ
て、実用に耐える高い密着強度を達成することができた
ものである。
ング液を用いて化学エツチングを行なうことにより、P
PS @脂組成物による成形品の表面状態を制御し、メ
ッキ層との間に堅固なる「アンカー効果」を発現せしめ
て、実用に耐える高い密着強度を達成することができた
ものである。
さらK、本発明における金属メッキ処理方法は、従来試
みられ之ような接着剤を介在させる工程や化学エツチン
グ処理後のブラッシング工程等を必要としないので生産
性に優れ、効率よく量産できろことを特徴とするもので
ある。本発明におけるPPS樹脂組成物は、PPS閏脂
を主体とするものである。
みられ之ような接着剤を介在させる工程や化学エツチン
グ処理後のブラッシング工程等を必要としないので生産
性に優れ、効率よく量産できろことを特徴とするもので
ある。本発明におけるPPS樹脂組成物は、PPS閏脂
を主体とするものである。
で示される構成単位を90モルチ以上含むものが好まし
く、その量が90モルチ未満ではすぐれ念特性の組成物
は得難い。このポリマーの重合方法としては、P−ジク
ロルベンゼンを硫黄と炭酸ソーダの存在化で重合させる
方法、極性溶媒中で硫化ナトリウムあるいは水硫化ナト
リウムと水酸化ナトリウム又は硫化水素と水酸化ナトリ
ウムの存在下で重合させる方法、P−クロルチオフェノ
ールの自己縮合などがあげられるが、N−メチルピロリ
ドン、ジメチルアセトアミドなどのアミド系溶媒やスル
ホラン等のスルホン系溶媒中で硫化ナトリウムとP−ジ
クロルベンゼンを反応させる方法が適当でちる。この時
に重合度を調節するためにカルがン酸やスルホン酸のア
ルカリ金属塩を添加し九り、水酸化アルカリを添加する
ことは好ましい方法でおる。共重合成分として10モル
チ未満であればメタ結合 フェニル、アルコキシ基を示す)、3官能フエニいても
ポリマーの結晶性に大きく影響しない範囲でかまわない
が好ましくは共重合成分は5モルチ以下がよい。特に3
官能性以上のフェニル、ビフェニル、ナフチルスルフィ
ド結合などを共重合に選ぶ場合は3モルチ以下、さらに
好ましくは1モルチ以下がよい。
く、その量が90モルチ未満ではすぐれ念特性の組成物
は得難い。このポリマーの重合方法としては、P−ジク
ロルベンゼンを硫黄と炭酸ソーダの存在化で重合させる
方法、極性溶媒中で硫化ナトリウムあるいは水硫化ナト
リウムと水酸化ナトリウム又は硫化水素と水酸化ナトリ
ウムの存在下で重合させる方法、P−クロルチオフェノ
ールの自己縮合などがあげられるが、N−メチルピロリ
ドン、ジメチルアセトアミドなどのアミド系溶媒やスル
ホラン等のスルホン系溶媒中で硫化ナトリウムとP−ジ
クロルベンゼンを反応させる方法が適当でちる。この時
に重合度を調節するためにカルがン酸やスルホン酸のア
ルカリ金属塩を添加し九り、水酸化アルカリを添加する
ことは好ましい方法でおる。共重合成分として10モル
チ未満であればメタ結合 フェニル、アルコキシ基を示す)、3官能フエニいても
ポリマーの結晶性に大きく影響しない範囲でかまわない
が好ましくは共重合成分は5モルチ以下がよい。特に3
官能性以上のフェニル、ビフェニル、ナフチルスルフィ
ド結合などを共重合に選ぶ場合は3モルチ以下、さらに
好ましくは1モルチ以下がよい。
かかるpps P4脂は一般的な製造法、例えば(1)
ハロケ゛ン置換芳香族化合物と硫化アルカリとの反応(
米国特許第2513188号明細書、特公昭44−27
671号および特公昭45−3368号参照)(2)チ
オフェノール類のアルカリ触媒又は銅塩等の共存下にお
ける縮合反応(米国特許第3274165号、英国特許
第1160660号参照)(3)芳香族化合物を塩化硫
黄とのルイス酸触媒共存下に於ける縮合反応(特公昭4
6−27255号、ベルギー特許第29437号参照)
等により合成されるものであシ、目的に応じ任意に選択
し得る。
ハロケ゛ン置換芳香族化合物と硫化アルカリとの反応(
米国特許第2513188号明細書、特公昭44−27
671号および特公昭45−3368号参照)(2)チ
オフェノール類のアルカリ触媒又は銅塩等の共存下にお
ける縮合反応(米国特許第3274165号、英国特許
第1160660号参照)(3)芳香族化合物を塩化硫
黄とのルイス酸触媒共存下に於ける縮合反応(特公昭4
6−27255号、ベルギー特許第29437号参照)
等により合成されるものであシ、目的に応じ任意に選択
し得る。
更に本発明の目的を損なわない範囲でpps樹脂に対し
てIリフェニレンエーテル、ポリアセタール、ボリアリ
レート、テフロン樹脂、ポリアミド、ポリカーゴネート
、ポリサルホン、?リアサルサルホン、ポリエーテルサ
ルホン、Iリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド
イミド、エポキシ樹脂、Iリエチレン、ポリプロピレン
、Iリエーテルエーテルケトン、PET 、 PBT等
の各種樹脂を添加できる。
てIリフェニレンエーテル、ポリアセタール、ボリアリ
レート、テフロン樹脂、ポリアミド、ポリカーゴネート
、ポリサルホン、?リアサルサルホン、ポリエーテルサ
ルホン、Iリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド
イミド、エポキシ樹脂、Iリエチレン、ポリプロピレン
、Iリエーテルエーテルケトン、PET 、 PBT等
の各種樹脂を添加できる。
本発明におけるPPS樹脂組成物は、pps樹脂と珪酸
を主成分とする強化充填剤とからなるもの又はpps樹
脂と珪酸を主成分とする強化充填剤及びその他の無機充
填剤からなるものを使用することができる。珪酸を主成
分とする強化充填剤の例としては、ガラス繊維、マイカ
、メタ珪酸カルシウム、カラスピーズ、ガラスフレーク
、ガラスバルーン、石英繊維、石英砂などが挙げられる
。又、その他の無機充填剤の例としては、炭%ilt維
、チタン酸カリウム、アスベスト、炭化ケイ素、セラミ
ック繊維、金属繊維、窒化ケイ素、硫酸バリウム、硫酸
カルシウム、タルク、フェライト、炭酸カルシウム、炭
酸マグネシウム、酸化鉄、石コウ、クレー等を挙げろこ
とができる。
を主成分とする強化充填剤とからなるもの又はpps樹
脂と珪酸を主成分とする強化充填剤及びその他の無機充
填剤からなるものを使用することができる。珪酸を主成
分とする強化充填剤の例としては、ガラス繊維、マイカ
、メタ珪酸カルシウム、カラスピーズ、ガラスフレーク
、ガラスバルーン、石英繊維、石英砂などが挙げられる
。又、その他の無機充填剤の例としては、炭%ilt維
、チタン酸カリウム、アスベスト、炭化ケイ素、セラミ
ック繊維、金属繊維、窒化ケイ素、硫酸バリウム、硫酸
カルシウム、タルク、フェライト、炭酸カルシウム、炭
酸マグネシウム、酸化鉄、石コウ、クレー等を挙げろこ
とができる。
本発明における金属メッキ処理方法としては、エツチン
グ液による化学エツチング処理工程を含み、該エツチン
グ液としては、硝酸と30〜300g(エツチング液1
lに対して) NH4F−(社)とからなる混合液を使
用する。該エツチング液は、濃硝酸好ましくは少なくと
も67重量%(以下チと略記する)硝酸水溶液と30〜
3oog(エツチング液1lに対して) N)(4F−
HFからなる混合液であることにより、PPS樹脂組成
物よりの成形品の表面スキン層を含む表面に関してメッ
キ層との密着性において良好な効果を及ぼす凸凹面を形
成することができる。また、NH4F’−F(F含有濃
度は、30〜30ON(エツチング液1lに対して)と
することにより成形品の該表面の化学エツチング状態を
良好に制御し得る。NH4F −I(F含有濃度が、エ
ツチング液1lに対して301未満であるとPPS樹脂
組成物の成形品表面の化学エツチング処理が不十分とな
り、又、NT(4F−f(F含有濃度が、300yを越
えると成形品表面がエツチング過度となりいずれの場合
においても金属メッキ層密着強度がイ氏下する念め好ま
しくない。
グ液による化学エツチング処理工程を含み、該エツチン
グ液としては、硝酸と30〜300g(エツチング液1
lに対して) NH4F−(社)とからなる混合液を使
用する。該エツチング液は、濃硝酸好ましくは少なくと
も67重量%(以下チと略記する)硝酸水溶液と30〜
3oog(エツチング液1lに対して) N)(4F−
HFからなる混合液であることにより、PPS樹脂組成
物よりの成形品の表面スキン層を含む表面に関してメッ
キ層との密着性において良好な効果を及ぼす凸凹面を形
成することができる。また、NH4F’−F(F含有濃
度は、30〜30ON(エツチング液1lに対して)と
することにより成形品の該表面の化学エツチング状態を
良好に制御し得る。NH4F −I(F含有濃度が、エ
ツチング液1lに対して301未満であるとPPS樹脂
組成物の成形品表面の化学エツチング処理が不十分とな
り、又、NT(4F−f(F含有濃度が、300yを越
えると成形品表面がエツチング過度となりいずれの場合
においても金属メッキ層密着強度がイ氏下する念め好ま
しくない。
一方、本発明の金属メッキ処理方法におけるエツチング
液は、エツチング液1lに対して(N 10〜95容量
チの67%硝酸水溶液(B)30〜3009/lのNH
4F’−HF及び(Q 全エツチング液量1lとする量
の希釈水からなる液を混合することにより得る。このエ
ツチング工程は該エツチング液1lにおいて、67wt
チ硝酸水溶液を10〜95容量チ含みJ州、F −HF
を30〜3001/lの範囲で混合し、さらに全エツチ
ング液fH1lとする量の希釈水が含有されることによ
り、PPS樹脂組成物よりの成形品の表面スキン層を含
む表面に関して化学エツチング状態を良好に制御し得る
ものである。このエツチング処理条件は、30〜60’
C15〜20分間浸漬するのが好ましい。
液は、エツチング液1lに対して(N 10〜95容量
チの67%硝酸水溶液(B)30〜3009/lのNH
4F’−HF及び(Q 全エツチング液量1lとする量
の希釈水からなる液を混合することにより得る。このエ
ツチング工程は該エツチング液1lにおいて、67wt
チ硝酸水溶液を10〜95容量チ含みJ州、F −HF
を30〜3001/lの範囲で混合し、さらに全エツチ
ング液fH1lとする量の希釈水が含有されることによ
り、PPS樹脂組成物よりの成形品の表面スキン層を含
む表面に関して化学エツチング状態を良好に制御し得る
ものである。このエツチング処理条件は、30〜60’
C15〜20分間浸漬するのが好ましい。
本発明の金属メッキ処理方法は、PPS樹脂組成物表面
にエツチング処理の後無電解金属メッキ層を形成する工
程を含み、PPS樹脂組成物を電導体化する。該無電解
金属メッキ層は銅又はニッケル又は銀等の金属とするこ
とができ、また該無電解金属メッキ層の厚みは少なくと
も0.1μm以上、0.3〜1.0μmとすることが好
ましい。
にエツチング処理の後無電解金属メッキ層を形成する工
程を含み、PPS樹脂組成物を電導体化する。該無電解
金属メッキ層は銅又はニッケル又は銀等の金属とするこ
とができ、また該無電解金属メッキ層の厚みは少なくと
も0.1μm以上、0.3〜1.0μmとすることが好
ましい。
本発明の金属メッキ処理方法は、無電解金属メッキの後
に電解金属メッキ層tl−重ねる工程を含み、この工程
によりPPS樹脂組成物表面上の金属メッキ層の厚みを
増大させ金属メッキ層との密着強度を向上させる。
に電解金属メッキ層tl−重ねる工程を含み、この工程
によりPPS樹脂組成物表面上の金属メッキ層の厚みを
増大させ金属メッキ層との密着強度を向上させる。
該電解金属メッキ層は、銅又はニッケル又kま銀等の金
属とすることができ、また該電解金、属メッキ層の厚み
は少なくとも5μm以上、好ましく&家10〜50μm
とすることが好ましい。
属とすることができ、また該電解金、属メッキ層の厚み
は少なくとも5μm以上、好ましく&家10〜50μm
とすることが好ましい。
本発明の金属メッキ処理方法は、PPS樹脂組成物の成
形品表面をエツチング処理し念後無電解金属メッキを施
し、さらに電解金縛メッキを行なう手順に従うものであ
り、エツチング処理に先立つ脱脂工程、エツチング処理
後の無電解金属メッキに先立つコンディジ、ニング工程
、ブリディップ工程及びキャタリスト工程さらに促進工
程を含むことができる。
形品表面をエツチング処理し念後無電解金属メッキを施
し、さらに電解金縛メッキを行なう手順に従うものであ
り、エツチング処理に先立つ脱脂工程、エツチング処理
後の無電解金属メッキに先立つコンディジ、ニング工程
、ブリディップ工程及びキャタリスト工程さらに促進工
程を含むことができる。
該脱脂工程は、エツチングするに先立ちpps 樹脂組
成物による成形品等をアルカリクリーナー又はトルエン
等の溶剤により脱脂する工程である。
成物による成形品等をアルカリクリーナー又はトルエン
等の溶剤により脱脂する工程である。
コンディショニング工程は、エコ・チング処理され7’
(PPS樹脂組成物による成形品等を界面活性剤を含む
溶液中に浸漬する工程で無電解金属メッキ工程の前に行
うのがよい。コンディショニングエ程は、pps樹脂組
成物中に疎水性充填剤が含有される場合、エツチング処
理され友成形品表面を無電解金属メッキ層形成において
好ましい親水性表面に改質することを目的とするもので
ある。
(PPS樹脂組成物による成形品等を界面活性剤を含む
溶液中に浸漬する工程で無電解金属メッキ工程の前に行
うのがよい。コンディショニングエ程は、pps樹脂組
成物中に疎水性充填剤が含有される場合、エツチング処
理され友成形品表面を無電解金属メッキ層形成において
好ましい親水性表面に改質することを目的とするもので
ある。
該ブリディップ工程は、無電解金属メッキを行なうに先
立ち、pps樹脂組成物による成形品等を、101i量
−以下の塩酸水溶液に浸漬する工程であり、キャタリス
ト工程はこの工程の後で酸性下パラジウムースズ触媒等
を該成形品表面に付加させろ工程であり、さらに促進工
程はキャタリスト工程の後io重i′チ以下の塩酸又は
硫酸水溶液に浸漬する工程である。
立ち、pps樹脂組成物による成形品等を、101i量
−以下の塩酸水溶液に浸漬する工程であり、キャタリス
ト工程はこの工程の後で酸性下パラジウムースズ触媒等
を該成形品表面に付加させろ工程であり、さらに促進工
程はキャタリスト工程の後io重i′チ以下の塩酸又は
硫酸水溶液に浸漬する工程である。
該ブリディップ工程は、成形品表面を酸性化することを
目的とし、該キャタリスト工程は無電解金属メッキを開
始するに際し、金属メッキ層成長の核となる触媒を成形
品表面に酸性下付加することを目的とするもので、該触
媒により無電解金属メッキ時に形成された金属メッキ層
はさらに自触媒的成長を遂げることができる。
目的とし、該キャタリスト工程は無電解金属メッキを開
始するに際し、金属メッキ層成長の核となる触媒を成形
品表面に酸性下付加することを目的とするもので、該触
媒により無電解金属メッキ時に形成された金属メッキ層
はさらに自触媒的成長を遂げることができる。
該促進工程は、触媒でちる・ぐラジウムに〉ける還元レ
ドックス反応を促進するものであり、これにより金属・
9ラジウムを成形品表面に固定化することができろ。
ドックス反応を促進するものであり、これにより金属・
9ラジウムを成形品表面に固定化することができろ。
更に、本発明の金属メッキ処理方法は、無電解金属メッ
キ工程後にpps樹脂組成物の成形品等を加熱エージン
グ工程及び/又は活性化工程を行うのが良い。
キ工程後にpps樹脂組成物の成形品等を加熱エージン
グ工程及び/又は活性化工程を行うのが良い。
該加熱エージング工程は1本質的には無電解金属メッキ
層表面及び成形品と無寛解金稿メッキ層の界面、さらに
は該界面付近の水分の除去が目的で設けられる工程であ
り、これらの水分の存在は、成形品と金属メッキjとの
最終的な密着強度を低下させる要因となるものである。
層表面及び成形品と無寛解金稿メッキ層の界面、さらに
は該界面付近の水分の除去が目的で設けられる工程であ
り、これらの水分の存在は、成形品と金属メッキjとの
最終的な密着強度を低下させる要因となるものである。
該活性化工程は、電解金属メッキに先立ちpps樹脂組
成物による成形品等を10チ以下の酸性水溶液中に浸漬
し活性化する工程である。該活性化工程は、成形品に無
電解金属メッキ層が形成された直後から、環境下、例え
ば空気中において無電解金属メッキ層表面の酸化反応が
進行することより該酸化層の除去による無電解金属メッ
キ層表面の活性化を目的とする。
成物による成形品等を10チ以下の酸性水溶液中に浸漬
し活性化する工程である。該活性化工程は、成形品に無
電解金属メッキ層が形成された直後から、環境下、例え
ば空気中において無電解金属メッキ層表面の酸化反応が
進行することより該酸化層の除去による無電解金属メッ
キ層表面の活性化を目的とする。
本発明の金属メッキ処理方法は、無電解金属メッキ層上
にさらに電解金属メッキ層が形成されたPPS樹脂組成
物による成形品等を加熱ニー・ノングする工程を含むの
が良い。該加熱エージング工程は、成形品と金属メッキ
層との最終的な密着強度低下の要因となる水分除去を主
な目的とし次ものである。
にさらに電解金属メッキ層が形成されたPPS樹脂組成
物による成形品等を加熱ニー・ノングする工程を含むの
が良い。該加熱エージング工程は、成形品と金属メッキ
層との最終的な密着強度低下の要因となる水分除去を主
な目的とし次ものである。
本発明の金属メッキ処理方法による成形品は、pps樹
脂組成物による成形品に特定の組成を有する化学エツチ
ング液を用いてエツチングを施した後、無電解金属メッ
キ層とさらには電解金属メッキ層を形成することにより
成形品とメッキ層との密着強度が大きく改善されたもの
である。
脂組成物による成形品に特定の組成を有する化学エツチ
ング液を用いてエツチングを施した後、無電解金属メッ
キ層とさらには電解金属メッキ層を形成することにより
成形品とメッキ層との密着強度が大きく改善されたもの
である。
従って本発明の金属メッキ処理方法による成形物品は、
PCB材料及び金属メッキ形式(従来の金属端子形式で
なく)スイッチ、リレー等の精密電子部品分野さらには
電磁波シールド用分野、装飾用分野等への応用展開が可
能となる。
PCB材料及び金属メッキ形式(従来の金属端子形式で
なく)スイッチ、リレー等の精密電子部品分野さらには
電磁波シールド用分野、装飾用分野等への応用展開が可
能となる。
以下に実施例を挙げて本発明をさらに説明するが、文中
断わシのない限月1」「部」は重量基準であるものとす
る。
断わシのない限月1」「部」は重量基準であるものとす
る。
参考例1 (PPS樹脂の合成)
50スケールのオートクレーブにN−メチルピロリドン
をモル比で70、硫化ナトリウム9水塩を0.99 、
安息香酸ナトリウムを0.60、水酸化ナトリウムを0
.15モルの比で仕込み(50モルスケール)窒素気流
中で210℃まで昇温し脱水率110チまで脱水を行な
った。系を160℃まで冷却後P−ジクロルベンゼンを
モル比10で仕込み封をした後窒素で内圧を25 kg
A6n2まで加圧しした。昇温温度を調節しながら重合
による発熱をコントロールし270℃まで昇温し5時間
攪拌下に重合を行なった。内圧は17 kg/cm に
上昇していた。次に系を冷却後放任し、内容物を大量の
水中へ注ぎフレーク状のポリマーを回収した。ポリマー
は熱水とアセト/による洗浄を〈シ返して最終的に70
%の収率で白色フレーク状であった。
をモル比で70、硫化ナトリウム9水塩を0.99 、
安息香酸ナトリウムを0.60、水酸化ナトリウムを0
.15モルの比で仕込み(50モルスケール)窒素気流
中で210℃まで昇温し脱水率110チまで脱水を行な
った。系を160℃まで冷却後P−ジクロルベンゼンを
モル比10で仕込み封をした後窒素で内圧を25 kg
A6n2まで加圧しした。昇温温度を調節しながら重合
による発熱をコントロールし270℃まで昇温し5時間
攪拌下に重合を行なった。内圧は17 kg/cm に
上昇していた。次に系を冷却後放任し、内容物を大量の
水中へ注ぎフレーク状のポリマーを回収した。ポリマー
は熱水とアセト/による洗浄を〈シ返して最終的に70
%の収率で白色フレーク状であった。
このPPS樹脂ツクウダーをリデンブレンダーニ投入し
、270℃で空気を吹き込みながら攪拌し、パウダー状
態でppsを一部架橋せしめて最終的に固有粘度が0.
3になるまで加熱処理した。
、270℃で空気を吹き込みながら攪拌し、パウダー状
態でppsを一部架橋せしめて最終的に固有粘度が0.
3になるまで加熱処理した。
参考例2 (PPS樹脂組成物及びその成形品の調製)
参考例1で合成したpps樹脂を用い、後記第1光に示
すような配合割合で均一に混合の後、65簡押出混練機
にて330℃で溶融混練しペレットを得た。この4レツ
トからインラインスクリュ一式の3オンス射出成形機(
東芝機械製)を用い、シリンダ一温度330℃、金型温
度150℃、射出圧力1000ψ告2、射出スピード中
速にて105■X 50 tag X 1.6 篤(厚
み)のフィルムグートニよるテストピースを作成した。
参考例1で合成したpps樹脂を用い、後記第1光に示
すような配合割合で均一に混合の後、65簡押出混練機
にて330℃で溶融混練しペレットを得た。この4レツ
トからインラインスクリュ一式の3オンス射出成形機(
東芝機械製)を用い、シリンダ一温度330℃、金型温
度150℃、射出圧力1000ψ告2、射出スピード中
速にて105■X 50 tag X 1.6 篤(厚
み)のフィルムグートニよるテストピースを作成した。
参考例3 (PPS樹脂組成物及びその成形品の41参
考例1で合成したPPS樹脂を用い、後記第2表に示す
ような配合割合で、参考例2と同一の条件で溶融混練し
ペレットを得た。このペレットから参考例2と同一の条
件にて100mX100■×1簡(厚み)で直径0.8
mのスルホール穴ヲ20ケ有する正方形板テストピー
スを作成した。
考例1で合成したPPS樹脂を用い、後記第2表に示す
ような配合割合で、参考例2と同一の条件で溶融混練し
ペレットを得た。このペレットから参考例2と同一の条
件にて100mX100■×1簡(厚み)で直径0.8
mのスルホール穴ヲ20ケ有する正方形板テストピー
スを作成した。
実施例1〜3及び比較例1〜2
参考例2により作成したテストピースに対し、以下に記
載の工程に従い金属メッキ処理を施し、この後JIS
C6481記載のピーリング強度測定試験を行なった。
載の工程に従い金属メッキ処理を施し、この後JIS
C6481記載のピーリング強度測定試験を行なった。
この結果を第1表に示す。
ただし、比較例1においては、工程4のエツチング処理
に関しそのエツチング液組成を重クロム酸カリウム/濃
硫酸/濃すン酸/水=100g/2501Ll/Toゴ
/6701Ltとし、浸漬条件は50℃、3分間浸漬し
たものである。
に関しそのエツチング液組成を重クロム酸カリウム/濃
硫酸/濃すン酸/水=100g/2501Ll/Toゴ
/6701Ltとし、浸漬条件は50℃、3分間浸漬し
たものである。
また比較例2においては、工程4のエツチング処理に関
しそのエツチング液を67%硝酸水溶液1lとし、浸漬
条件は40℃、15分間浸漬したものである。
しそのエツチング液を67%硝酸水溶液1lとし、浸漬
条件は40℃、15分間浸漬したものである。
次に金属メッキ処理工程を記す。
参考例2によるテストピースを、アルカリクリーナ水溶
液(商品名ニースフIJ−7に−220:実計製薬!8
!50&を水に溶解し1lとしたもの)中で50℃、5
分間浸漬した。
液(商品名ニースフIJ−7に−220:実計製薬!8
!50&を水に溶解し1lとしたもの)中で50℃、5
分間浸漬した。
脱脂後テストピースを水道水中で室温下2分間水洗した
。
。
工程3 乾燥
水洗テストピースを100℃において2時間乾燥した。
工程4 エツチング処理
乾燥テストピースを、67%硝酸水溶液600ゴにNH
4F−HF 100 gを溶解してさらに希釈水を加え
全体を1lとしたエツチング液中に、50℃、15分間
浸漬した。
4F−HF 100 gを溶解してさらに希釈水を加え
全体を1lとしたエツチング液中に、50℃、15分間
浸漬した。
工程5 水洗
エツチング処理後テストピースを、イオン交換水の蒸留
水中で室温下1分間洗浄した。
水中で室温下1分間洗浄した。
工程6 コンディジ、ニング工程
水洗後テストピースを、界面活性剤水溶液(商品名コン
ディライデーSP:実計製薬製1501dをイオン交換
水の蒸留水で希釈し1lとしたもの)中へ45℃、4分
間浸漬した。
ディライデーSP:実計製薬製1501dをイオン交換
水の蒸留水で希釈し1lとしたもの)中へ45℃、4分
間浸漬した。
工程7 水洗
コンディショニングされたテストピースを、イオン交換
水の蒸留水中で室温下1分間洗浄した。
水の蒸留水中で室温下1分間洗浄した。
水洗テストピースを36%塩酸150dにイオン交換水
の蒸留水を加えて1lとした水溶液中に室温下1分間浸
漬した。
の蒸留水を加えて1lとした水溶液中に室温下1分間浸
漬した。
工程9 キャタリスト工程
ブリディラグ処理されたテストピースを、パラジウム−
スズ触媒を含む酸性水溶液中(イオン交換水の蒸留水に
36%塩酸150dを加え、さらに・ぐラジウム−スズ
触媒溶液;商品名OPCキャタリストM:奥野実計製4
00m1を混合して1lとしたもの)へ、室温下5分間
浸漬した。
スズ触媒を含む酸性水溶液中(イオン交換水の蒸留水に
36%塩酸150dを加え、さらに・ぐラジウム−スズ
触媒溶液;商品名OPCキャタリストM:奥野実計製4
00m1を混合して1lとしたもの)へ、室温下5分間
浸漬した。
工程10 水洗
キャタリスト処理されたテストピースを、イオン交換水
の蒸留水中で室温下30秒間洗浄した。
の蒸留水中で室温下30秒間洗浄した。
工程11 促進工程
水洗テストピースを、イオン交換水の蒸留水に36%塩
酸150fflJを加えて1lとした水溶液中へ45℃
、5分間浸漬した。
酸150fflJを加えて1lとした水溶液中へ45℃
、5分間浸漬した。
工程12 水洗
促進処理されたテストピースを、イオン交換水の蒸留水
中で室温下30秒間洗浄した。
中で室温下30秒間洗浄した。
水洗テストピースを、無電解銅メッキ液(商品名無電解
化学銅OPC’−700A :実計製薬製1OOILl
−と商品名無電解化学@ 0PC−700B :実計製
薬製100ゴ及び商品名無電解化学銅0PC−7000
:実計製薬製2rILtの混合液にイオン交換水の蒸留
水を加え1lとしたもの)中へ室温下20分浸漬し、無
電解銅メッキ処理を施した。
化学銅OPC’−700A :実計製薬製1OOILl
−と商品名無電解化学@ 0PC−700B :実計製
薬製100ゴ及び商品名無電解化学銅0PC−7000
:実計製薬製2rILtの混合液にイオン交換水の蒸留
水を加え1lとしたもの)中へ室温下20分浸漬し、無
電解銅メッキ処理を施した。
工程14 水洗
無電解銅メッキ処理されたテストピースを、イオン交換
水の蒸留水中で室温下1分間浸漬した。
水の蒸留水中で室温下1分間浸漬した。
工程15 乾燥
水洗テストピースを、120℃で3時間乾燥した。
工程16 活性化工程
乾燥テストピースを酸性水溶液(商品名トップサン:実
計製薬製509をイオン交換水の蒸留水に溶解しItと
したもの)中へ室温下1分間浸漬した。
計製薬製509をイオン交換水の蒸留水に溶解しItと
したもの)中へ室温下1分間浸漬した。
活性化処理されたテストピースを、メオン交換水の蒸留
水中で室温下1分間洗浄した。
水中で室温下1分間洗浄した。
水洗テストピースを、電解銅メッキ液(硫酸銅(CuS
O4’5H20) 200 g及び98%硫酸50gを
イオン交換水の蒸留水中に溶解し1lとしたもの)中へ
、室温下2時間浸漬した。
O4’5H20) 200 g及び98%硫酸50gを
イオン交換水の蒸留水中に溶解し1lとしたもの)中へ
、室温下2時間浸漬した。
電解銅メッキされたテストピースを、120℃、3時間
乾燥した。
乾燥した。
実施例4〜6及び比較例3
参考例3より作成したテストピースに対し、実施例1〜
3と同様の工程により金属メッキ処理を施し、この後J
IS 06481記載のビーリング強度測定試験を行な
った。この結果を第2表に示す。
3と同様の工程により金属メッキ処理を施し、この後J
IS 06481記載のビーリング強度測定試験を行な
った。この結果を第2表に示す。
ただし比較例3においては、本発明による金属処理方法
でなく、トルエンによυ脱脂したテストピースにアンダ
コート処理を施し、さらにH3R型ス・ぐツタリング装
置((株)呂律製作所製)を用いて10−2Toひ、高
周波数13.56 Mfhの条件下鋼メッキ層を形成し
、この後実施例1〜3に記載の工程18及び19により
最終的な電解銅メッキ処理を行なった。
でなく、トルエンによυ脱脂したテストピースにアンダ
コート処理を施し、さらにH3R型ス・ぐツタリング装
置((株)呂律製作所製)を用いて10−2Toひ、高
周波数13.56 Mfhの条件下鋼メッキ層を形成し
、この後実施例1〜3に記載の工程18及び19により
最終的な電解銅メッキ処理を行なった。
平畦補正−I!(自発)
昭薄ロ61年8月/7 日
特許庁長官 黒 1)明 雄 殿
1、事件の表示
昭和61年特許願第156097号
2、発明の名称
金属メッキ処理方法
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
〒174 東京都板橋区坂下三丁目35番58号(28
8) 大日本インキ化学工業株式会社代表者 用
村 茂 邦 4、代 即 人 〒103 東京都中央区日本橋三丁目7番20号大日
本インキ化学工業株式会社内 6、補正の内容 (1)明細$第13頁下から第7行の「5モルチ」を「
40モルチ」と訂正する。
8) 大日本インキ化学工業株式会社代表者 用
村 茂 邦 4、代 即 人 〒103 東京都中央区日本橋三丁目7番20号大日
本インキ化学工業株式会社内 6、補正の内容 (1)明細$第13頁下から第7行の「5モルチ」を「
40モルチ」と訂正する。
(2)同第13真下から第11行の「3モル係以下、さ
らて好ましくば1モ」を「10モルチ以下、さらに好ま
しくば5モ」と訂正する。
らて好ましくば1モ」を「10モルチ以下、さらに好ま
しくば5モ」と訂正する。
(3)同第31負第2表の比較例3の無電解銅メッキ層
厚さの欄のr $4)−Jをi” $4) 0.I J
と訂正する。
厚さの欄のr $4)−Jをi” $4) 0.I J
と訂正する。
(4)同第31頁第2表の比較例3の砒解錨メッキ層厚
さの欄の「−」を「30」と訂正する。
さの欄の「−」を「30」と訂正する。
(以上)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物表面に無電
解金属メッキ層を形成し、さらに無電解金属メッキ層上
に電解金属メッキ層を重ねる工程を含むポリフェニレン
サルファイド樹脂組成物の金属メッキ処理方法において
、無電解金属メッキ層形成に先立つエッチング処理工程
のエッチング液が、硝酸と30〜300g(エッチング
液1lに対して)NH_4F・HFとからなる混合液で
あることを特徴とするポリフェニレンサルファイド樹脂
組成物の金属メッキ処理方法。 2、前記エッチング液が、エッチング液1lに対して (A)10〜95vol%の67wt%硝酸及び(B)
30〜300g/lのNH_4F・HFさらには(C)
全エッチング液量1lとする量の希釈水からなる組成を
有する混合液であることを特徴とする特許請求の範囲第
1項のポリフェニレンサルファイド樹脂組成物の金属メ
ッキ処理方法。 3、前記ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物がポリ
フェニレンサルファイド樹脂とガラス繊維、メタ珪酸カ
ルシウム等の珪酸を主成分とする強化充填剤とからなる
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項のポ
リフェニレンサルファイド樹脂組成物の金属メッキ処理
方法。 4、前記ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物がポリ
フェニレンサルファイド樹脂とガラス繊維、メタ珪酸カ
ルシウム等の珪酸を主成分とする強化充填剤及びその他
の無機充填剤からなることを特徴とする特許請求の範囲
第1項又は第2項のポリフェニレンサルファイド樹脂組
成物の金属メッキ処理方法。 5、前記無電解金属メッキ層が銅又はニッケル又は銀で
あることを特徴とした特許請求の範囲第1項〜第4項の
ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物の金属メッキ処
理方法。 6、前記電解金属メッキ層が銅又はニッケル又は銀であ
ることを特徴とした特許請求の範囲第1項〜第5項のポ
リフェニレンサルファイド樹脂組成物の金属メッキ処理
方法。 7、前記無電解金属メッキ層の厚さが少なくとも0.1
μm以上であることを特徴とした特許請求の範囲第1項
〜第6項のいずれかに従うポリフェニレンサルファイド
樹脂組成物の金属メッキ処理方法。 8、前記電解金属メッキ層の厚さが少なくとも5μm以
上であることを特徴とした特許請求の範囲第1項〜第7
項のポリフェニレンサルファイド樹脂組成物の金属メッ
キ処理方法。 9、ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物を金属メッ
キ処理する過程において、エッチングするに先立ちポリ
フェニレンサルファイド樹脂組成物による成形品等をア
ルカリクリーナー又はトルエン等の溶剤により脱脂する
工程を含むことを特徴とした特許請求の範囲第1項〜第
8項のポリフェニレンサルファイド樹脂組成物の金属メ
ッキ処理方法。 10、ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物を金属メ
ッキ処理する過程において、エッチング処理されたポリ
フェニレンサルファイド樹脂組成物による成形品等を界
面活性剤を含む溶液中に浸漬するコンディショニング工
程を含むことを特徴とした特許請求の範囲第1項〜第9
項のポリフェニレンサルファイド樹脂組成物の金属メッ
キ処理方法。 11、ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物を金属メ
ッキ処理する過程において、無電解金属メッキを行なう
に先立ち、ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物によ
る成形品等を10重量%以下のHCl水溶液に浸漬する
プリディップ工程とこの後酸性下パラジウム−スズ触媒
を該成形品等表面に付加させるキャタリスト工程及びさ
らにキャタリスト工程の後10重量%以下の塩酸又は硫
酸水溶液に浸漬する促進工程を含むことを特徴とした特
許請求の範囲第1項〜第10項のポリフェニレンサルフ
ァイド樹脂組成物の金属メッキ処理方法。 12、ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物を金属メ
ッキ処理する過程において、無電解金属メッキ後のポリ
フェニレンサルファイド樹脂組成物による成形品等を加
熱エージングする工程を含むことを特徴とした特許請求
の範囲第1項〜第11項のポリフェニレンサルファイド
樹脂組成物の金属メッキ処理方法。 13、ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物を金属メ
ッキ処理する過程において、電解金属メッキに先立ちポ
リフェニレンサルファイド樹脂組成物による成形品等を
10重量%以下の酸水溶液中に浸漬する活性化工程を含
むことを特徴とした特許請求の範囲第1項〜第12項の
ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物の金属メッキ処
理方法。 14、ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物を金属メ
ッキ処理する過程において、電解金属メッキされたポリ
フェニレンサルファイド樹脂組成物による成形品等を加
熱キュアリングする工程を含むことを特徴とした特許請
求の範囲第1項〜第13項のポリフェニレンサルファイ
ド樹脂組成物の金属メッキ処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15609786A JPS6314880A (ja) | 1986-07-04 | 1986-07-04 | 金属メツキ処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15609786A JPS6314880A (ja) | 1986-07-04 | 1986-07-04 | 金属メツキ処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6314880A true JPS6314880A (ja) | 1988-01-22 |
Family
ID=15620243
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15609786A Pending JPS6314880A (ja) | 1986-07-04 | 1986-07-04 | 金属メツキ処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6314880A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02217477A (ja) * | 1989-02-16 | 1990-08-30 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 樹脂成形品の金属メッキ前処理方法 |
US5230927A (en) * | 1989-02-16 | 1993-07-27 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Method for metal-plating resin molded articles and metal-plated resin molded articles |
JP2007119919A (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-17 | Enthone Inc | 非導電性基板表面のエッチング方法 |
WO2020040120A1 (ja) | 2018-08-23 | 2020-02-27 | Dic株式会社 | 積層体、成形品、導電性パターン及び電子回路 |
CN114746271A (zh) * | 2019-11-26 | 2022-07-12 | Dic株式会社 | 聚芳硫醚树脂组合物、成型品、层叠体和它们的制造方法 |
WO2022249619A1 (ja) | 2021-05-25 | 2022-12-01 | Dic株式会社 | 電磁波シールド部材及びそれらの製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5182371A (ja) * | 1975-01-17 | 1976-07-19 | Hodogaya Chemical Co Ltd | Jugotaiseikeihinnokagakumetsukihoho |
JPS5280289A (en) * | 1975-12-26 | 1977-07-05 | Takuma Kiriyama | Surfactants |
JPS62142786A (ja) * | 1985-11-26 | 1987-06-26 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | ポリフエニレンスルフイド樹脂成形品のメツキ前処理方法 |
-
1986
- 1986-07-04 JP JP15609786A patent/JPS6314880A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5182371A (ja) * | 1975-01-17 | 1976-07-19 | Hodogaya Chemical Co Ltd | Jugotaiseikeihinnokagakumetsukihoho |
JPS5280289A (en) * | 1975-12-26 | 1977-07-05 | Takuma Kiriyama | Surfactants |
JPS62142786A (ja) * | 1985-11-26 | 1987-06-26 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | ポリフエニレンスルフイド樹脂成形品のメツキ前処理方法 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02217477A (ja) * | 1989-02-16 | 1990-08-30 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 樹脂成形品の金属メッキ前処理方法 |
US5230927A (en) * | 1989-02-16 | 1993-07-27 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Method for metal-plating resin molded articles and metal-plated resin molded articles |
JP2007119919A (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-17 | Enthone Inc | 非導電性基板表面のエッチング方法 |
WO2020040120A1 (ja) | 2018-08-23 | 2020-02-27 | Dic株式会社 | 積層体、成形品、導電性パターン及び電子回路 |
KR20210049027A (ko) | 2018-08-23 | 2021-05-04 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 적층체, 성형품, 도전성 패턴 및 전자 회로 |
CN114746271A (zh) * | 2019-11-26 | 2022-07-12 | Dic株式会社 | 聚芳硫醚树脂组合物、成型品、层叠体和它们的制造方法 |
KR20220101661A (ko) | 2019-11-26 | 2022-07-19 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 폴리아릴렌설파이드 수지 조성물, 성형품, 적층체 및 그들의 제조 방법 |
EP4067428A1 (en) | 2019-11-26 | 2022-10-05 | DIC Corporation | Polyarylene sulfide resin composition, molded article, layered product, and production method therefor |
WO2022249619A1 (ja) | 2021-05-25 | 2022-12-01 | Dic株式会社 | 電磁波シールド部材及びそれらの製造方法 |
KR20230132512A (ko) | 2021-05-25 | 2023-09-15 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 전자파 실드 부재 및 그들의 제조 방법 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4590115A (en) | Metallizing of plastic substrata | |
US4541894A (en) | Metallizable, essentially isotropic polymeric substrates well adopted for printed circuits | |
JP5554500B2 (ja) | プリプレグ、プリント配線板、多層回路基板、プリント配線板の製造方法 | |
JP5166980B2 (ja) | 成形回路部品の製造方法 | |
EP0391201B1 (en) | Method for treating polyetherimide substrates and articles obtained therefrom | |
GB2037488A (en) | Thermoplastics printed circuit board material | |
US5230927A (en) | Method for metal-plating resin molded articles and metal-plated resin molded articles | |
JPS6314880A (ja) | 金属メツキ処理方法 | |
US4917761A (en) | Method of rendering polymeric materials hydrophilic for etching | |
JPH03197687A (ja) | 樹脂成形品の金属メッキ前処理方法 | |
EP0097370B2 (en) | Use of a composition for making circuit board substrates and electrical connectors | |
US6878261B2 (en) | Surface treatment method of copper foil with silane coupling agent | |
JPH0839728A (ja) | 金属張積層基板の製造方法 | |
JPH0586723B2 (ja) | ||
EP0385165B1 (en) | Method for metal-plating resin molded articles and metal-plated resin molded articles | |
JPS593991A (ja) | プリント配線板 | |
JP3539447B2 (ja) | 積層板の製造法 | |
CN110351956A (zh) | 一种基于石墨烯成膜直接电镀线路板的方法 | |
JPS63354A (ja) | 樹脂組成物および金属メツキされた成形物品 | |
JPH01308628A (ja) | エポキシ樹脂から成る基材、および導体板の製法 | |
JPS58118830A (ja) | 化学メツキ用成形品の製造方法 | |
JPS6151990A (ja) | 表面を金属化した絶縁基板の製造方法 | |
JP2559717B2 (ja) | 選択的化学メツキ法 | |
JPH0259870B2 (ja) | ||
JPH04103771A (ja) | 求電子的な極性を有する材料の無電解めっき方法 |