JPS63146393A - El素子の封止方法 - Google Patents
El素子の封止方法Info
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- JPS63146393A JPS63146393A JP61293846A JP29384686A JPS63146393A JP S63146393 A JPS63146393 A JP S63146393A JP 61293846 A JP61293846 A JP 61293846A JP 29384686 A JP29384686 A JP 29384686A JP S63146393 A JPS63146393 A JP S63146393A
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Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
不発uAμ発光表示装置や歯元jとして利用さnる交流
駆動mEL素子、特に高g1!率セラミック層’ke縁
層に由いたEL素子の封止方法に関する。
駆動mEL素子、特に高g1!率セラミック層’ke縁
層に由いたEL素子の封止方法に関する。
第2図框従来のセラミックf4!3縁薄膜EL素子の一
例を示す断面図、第3L!Qは従来の薄膜EL素子の封
止方法の一例を示す断面図である。
例を示す断面図、第3L!Qは従来の薄膜EL素子の封
止方法の一例を示す断面図である。
低電圧駆動が可能で絶縁破壊に対して非常に安定な新構
造のE I、素子として、所謂、セラミック絶縁薄膜E
L素子が1985年度インターナショナル・ディスプレ
イ・リサーチ・コンファレンス予稿集、173頁(Co
nference Record of the −
International Display Re5
earch Conference1985)に報告さ
ルている。
造のE I、素子として、所謂、セラミック絶縁薄膜E
L素子が1985年度インターナショナル・ディスプレ
イ・リサーチ・コンファレンス予稿集、173頁(Co
nference Record of the −
International Display Re5
earch Conference1985)に報告さ
ルている。
このセラミック絶縁薄膜EL素子の一例の基本構造の断
面図を第2図に示す。この例においてセラミツク基板2
1框セラミツク基部22.プラチナや銀・パラジウム合
金等からなる内部電慣23及びPZT系、 BaTiU
s糸、ま九try PbT io s系統のペロブスカ
イト化合物等からなる高誘屯率のセラミック絶縁層24
から、なる。発光JfII25ζセラミック絶縁層24
の上に蒸着されfcMn * ThFs eSmF3
、 PrFs 等の発光中心を含むZnSからなる薄
膜の発光層であり、真空蒸着法やスパッタ蒸溜法により
形成される。さらに発光層25の上に成膜されたITO
等からなる透明電極26.内部電極23と透明電極26
に接続され、EL累子を駆動する交流電源27とを有し
ている。
面図を第2図に示す。この例においてセラミツク基板2
1框セラミツク基部22.プラチナや銀・パラジウム合
金等からなる内部電慣23及びPZT系、 BaTiU
s糸、ま九try PbT io s系統のペロブスカ
イト化合物等からなる高誘屯率のセラミック絶縁層24
から、なる。発光JfII25ζセラミック絶縁層24
の上に蒸着されfcMn * ThFs eSmF3
、 PrFs 等の発光中心を含むZnSからなる薄
膜の発光層であり、真空蒸着法やスパッタ蒸溜法により
形成される。さらに発光層25の上に成膜されたITO
等からなる透明電極26.内部電極23と透明電極26
に接続され、EL累子を駆動する交流電源27とを有し
ている。
第2図に示した例に、所婿、片絶綽型のものであるが1
発光ノー25と透明電極26の間K Yz OsやTa
20g等の4膜絶縁層を挿入した二重絶縁構造としても
よい。
発光ノー25と透明電極26の間K Yz OsやTa
20g等の4膜絶縁層を挿入した二重絶縁構造としても
よい。
次に、セラミック絶縁薄膜EL素子の発光原理について
説明する。第2図に示す発光層25に1発光開始an単
純なコンデンサと考えらnる0従って、内部[極23と
透明電極26との間に反流′亀源27から変流遡圧勿印
加すると、発光層25及びセラミック絶w!層24にに
それぞnのI#lI!電容量に応じた電圧が加えられる
。発光層25に加えらnる電界が十分大きくなると(約
1066以上)、発光層250慎導帝に電子が励起され
る。
説明する。第2図に示す発光層25に1発光開始an単
純なコンデンサと考えらnる0従って、内部[極23と
透明電極26との間に反流′亀源27から変流遡圧勿印
加すると、発光層25及びセラミック絶w!層24にに
それぞnのI#lI!電容量に応じた電圧が加えられる
。発光層25に加えらnる電界が十分大きくなると(約
1066以上)、発光層250慎導帝に電子が励起され
る。
この電子は電界によって加速され、十分なエネルギー七
持って発光中心に衝突する。この衝突時のエネルギーに
より適当な励起状態に上がった発光中心の電子が基底状
態へ戻る際に、発光中心に固有なエネルギー1直を待っ
た光が放出される0央際には結晶格子との相互作用等に
より1発光スペクトルUSる程度の拡がりt待つ0発光
中心としてこのような第2図に示すセラミック絶縁薄#
EL素子の発光原理に、従来のカラス基板上に薄膜の絶
縁層や発光層を積層し友交流駆動型の薄膜EL素子(ニ
ス・アイ・ディ・74・ダイジェスト・オプ・テクニカ
ル・ペーパーズ84頁、 (SID74Digest
of Technical Papers ) と父
わるものではない。しかし、数10 程度の厚さの
非μm 常に誘電率の高いセラミック絶縁層24の効果により、
動作電圧の大幅な低減及びP3縁破壊電圧に対する非常
に高い安定性が冥現されたものであり。
持って発光中心に衝突する。この衝突時のエネルギーに
より適当な励起状態に上がった発光中心の電子が基底状
態へ戻る際に、発光中心に固有なエネルギー1直を待っ
た光が放出される0央際には結晶格子との相互作用等に
より1発光スペクトルUSる程度の拡がりt待つ0発光
中心としてこのような第2図に示すセラミック絶縁薄#
EL素子の発光原理に、従来のカラス基板上に薄膜の絶
縁層や発光層を積層し友交流駆動型の薄膜EL素子(ニ
ス・アイ・ディ・74・ダイジェスト・オプ・テクニカ
ル・ペーパーズ84頁、 (SID74Digest
of Technical Papers ) と父
わるものではない。しかし、数10 程度の厚さの
非μm 常に誘電率の高いセラミック絶縁層24の効果により、
動作電圧の大幅な低減及びP3縁破壊電圧に対する非常
に高い安定性が冥現されたものであり。
低コストの面光源や発光表示装置として期待さnている
。
。
上述した従来のEL素子(2、その発光層に用いらnる
ZnS ’P Zn5eなどは吸温性があり、しかも発
光層が吸湿した状態でff1L素子に電圧上印加して発
光上行わせると、電云化学的作用によ)発光層がf’6
tLIL素子が破壊さnて非発光点を生じ九り、輝度変
化を生じたりする。このような発光層の吸湿に起因する
EI4子の破壊で防止するため、実用に供せられるPL
素子では発光層の吸湿?できる限り少くする構造になっ
ている0このような、EL素子の封止構造の一例の断面
図會第3因に示す。KL素子部tガラス等で作られた皿
状容器38で杏1い、注入孔39r通して内部を真空脚
気し、あるいは窒素等の不活性ガス’el1人し、また
にシリコンオイル等r封入することにより保護する方法
が採用されている。この工うな封止方法に、第2凶に示
し1ζセラミツク絶縁薄膜FJL素子においても有効な
1に順法でfりり、こnらの対策により高湿下の使用に
おいても発光物注げほとんど劣化しないことが確認さn
fto シかし。
ZnS ’P Zn5eなどは吸温性があり、しかも発
光層が吸湿した状態でff1L素子に電圧上印加して発
光上行わせると、電云化学的作用によ)発光層がf’6
tLIL素子が破壊さnて非発光点を生じ九り、輝度変
化を生じたりする。このような発光層の吸湿に起因する
EI4子の破壊で防止するため、実用に供せられるPL
素子では発光層の吸湿?できる限り少くする構造になっ
ている0このような、EL素子の封止構造の一例の断面
図會第3因に示す。KL素子部tガラス等で作られた皿
状容器38で杏1い、注入孔39r通して内部を真空脚
気し、あるいは窒素等の不活性ガス’el1人し、また
にシリコンオイル等r封入することにより保護する方法
が採用されている。この工うな封止方法に、第2凶に示
し1ζセラミツク絶縁薄膜FJL素子においても有効な
1に順法でfりり、こnらの対策により高湿下の使用に
おいても発光物注げほとんど劣化しないことが確認さn
fto シかし。
これらの封止方法による場合は、特殊な形状である皿状
を呈し且つ注入孔39t−有する容器會準備する必要が
あジ、更に容器とEL素子との接層、容器内の排気、更
にはガスやオイルの注入、そして注入孔の封止等の工程
が必要でおり、実用に供するEL素子の製造コストが高
くなるという欠講がある〇 本発明の目的は、セラミック絶縁薄膜EL素子の特性を
損うことなく、より簡易な方法で封止を行うことによV
%封止の信頼性を高めるとともに製造コストを低減しf
cgL素子の封止方法會実現することにある。
を呈し且つ注入孔39t−有する容器會準備する必要が
あジ、更に容器とEL素子との接層、容器内の排気、更
にはガスやオイルの注入、そして注入孔の封止等の工程
が必要でおり、実用に供するEL素子の製造コストが高
くなるという欠講がある〇 本発明の目的は、セラミック絶縁薄膜EL素子の特性を
損うことなく、より簡易な方法で封止を行うことによV
%封止の信頼性を高めるとともに製造コストを低減しf
cgL素子の封止方法會実現することにある。
本発明のEL素子の封止方法は、セラミック基板に設け
られfCig誘電率セラミック1−からなる絶縁層とこ
の絶縁層上に設けられた発光層とに有するEL素子に対
して、前記EL素子の表面に透光性のガラス板またにプ
ラスチック板よりなる透光板を透元性樹脂依看剤を用い
て@り合せるとともに前記透光板ないしはセラミツク基
板の周辺部に露出している前記透光性便脂=i剤ケ低融
点金属により覆うようにして前記発光J−r封止したこ
とt特徴とする。
られfCig誘電率セラミック1−からなる絶縁層とこ
の絶縁層上に設けられた発光層とに有するEL素子に対
して、前記EL素子の表面に透光性のガラス板またにプ
ラスチック板よりなる透光板を透元性樹脂依看剤を用い
て@り合せるとともに前記透光板ないしはセラミツク基
板の周辺部に露出している前記透光性便脂=i剤ケ低融
点金属により覆うようにして前記発光J−r封止したこ
とt特徴とする。
本発明のEL素子の封止方法は、EL菓子の上に透光性
のガラス板またはプラスチック板よりなる透光板【透光
性樹脂接着剤により張り合せるとともに、透光板ないし
はセラミック基板周辺部において直接大気と接触する樹
脂接着剤表面からの湿気没入を防止するために、この部
分の樹脂接看剤表11に低融点金、属で槍うことにより
、湿気が樹脂装ffi層r通して発光層に浸入すること
で防止する%徴を有しており、簡年な工程で良好な耐湿
効果tあげることができる。また、この封止方法は、E
L素子表面tす埋的に保騙するとともに電気的絶縁の効
果もある。
のガラス板またはプラスチック板よりなる透光板【透光
性樹脂接着剤により張り合せるとともに、透光板ないし
はセラミック基板周辺部において直接大気と接触する樹
脂接着剤表面からの湿気没入を防止するために、この部
分の樹脂接看剤表11に低融点金、属で槍うことにより
、湿気が樹脂装ffi層r通して発光層に浸入すること
で防止する%徴を有しており、簡年な工程で良好な耐湿
効果tあげることができる。また、この封止方法は、E
L素子表面tす埋的に保騙するとともに電気的絶縁の効
果もある。
不発#Uは7tJ誘電率セラミック層を絶縁層としたE
L素子において、その杷#&破駒電圧を非常に高くでき
るという知見により得られたものである。
L素子において、その杷#&破駒電圧を非常に高くでき
るという知見により得られたものである。
即ち1通常のガラス基板上に作成され次薄膜EL素子の
場合は、薄膜のピンホール等における欠陥部を皆無にす
ることができず、このため、これらの欠陥部にEL素子
の発光に必要な高電圧が印加されると、この欠V@部に
おいてP縁破壊を生じ。
場合は、薄膜のピンホール等における欠陥部を皆無にす
ることができず、このため、これらの欠陥部にEL素子
の発光に必要な高電圧が印加されると、この欠V@部に
おいてP縁破壊を生じ。
瞬時にして多量のガスと熱奮発生する。このため通常の
ガラス基板上に作成さA7tjFJL素子七樹脂で覆っ
たり%またはガラス板やプラスチック板を樹脂でEL素
子にmWしたりすると、EL素子に絶縁破壊が生じ友場
合に発生する熱により樹脂が黒変しtcL発生し九ガス
が樹脂とEL素子の間に閉じこめられて遂には爆発で起
こし、このため絶縁破壊部が伝播・拡大するので、通常
のガラス基板上に作成したEL素子には本発明のような
透光板を樹脂で接着する方法は実用的に無意味である。
ガラス基板上に作成さA7tjFJL素子七樹脂で覆っ
たり%またはガラス板やプラスチック板を樹脂でEL素
子にmWしたりすると、EL素子に絶縁破壊が生じ友場
合に発生する熱により樹脂が黒変しtcL発生し九ガス
が樹脂とEL素子の間に閉じこめられて遂には爆発で起
こし、このため絶縁破壊部が伝播・拡大するので、通常
のガラス基板上に作成したEL素子には本発明のような
透光板を樹脂で接着する方法は実用的に無意味である。
しかし、セラミック絶縁薄膜EL素子では。
高誘電率のセラミック絶a層の材料や厚さ紮過当に選ぶ
ことにより、実用上絶縁破壊を皆無にすることが容易に
でき、そのために本発明のととくEL素子上に透光板を
接着することが有効になる。
ことにより、実用上絶縁破壊を皆無にすることが容易に
でき、そのために本発明のととくEL素子上に透光板を
接着することが有効になる。
また、高誘電率セラミック層として着色さnfc材料を
使用することにより表示コントラストの憂いセラミック
絶縁薄膜EL素子が作成されているが、前述し友樹a接
滑剤や透光板に適度に着色され友もの音便用することに
より、表示のコントラストを更に改善することもできる
。
使用することにより表示コントラストの憂いセラミック
絶縁薄膜EL素子が作成されているが、前述し友樹a接
滑剤や透光板に適度に着色され友もの音便用することに
より、表示のコントラストを更に改善することもできる
。
なお1本発明において「透光性」とは「&明」。
「無色透明」、「M色透明」を含むものである〇また、
本発明の第二の特徴として、lli接大気と接する樹脂
接着剤表面を半田などの低融点金属で覆ったことがあげ
られる。一般に樹脂*X剤は耐湿性に関してガラスのよ
うに完全てはなく、かなりの水分を透過させる0このた
め、ガラス板t−EL:Jg子に樹脂接着することによ
りEL素子の寿命は改善されるものの、樹脂が大気と接
する部分から発光層に向けて湿気が浸透するので、EL
素子の水分による劣化を完全に防止することにできない
。こnに対して透光板r樹脂徽溜した懐、樹脂が大気に
直接さらされる部分を半田等の低融点金属で覆ってしま
い、EL素子の発光11とともに樹脂接着層までtまと
めて封止することにより、非常に耐湿性の良好な封止方
法が得られる。なお。
本発明の第二の特徴として、lli接大気と接する樹脂
接着剤表面を半田などの低融点金属で覆ったことがあげ
られる。一般に樹脂*X剤は耐湿性に関してガラスのよ
うに完全てはなく、かなりの水分を透過させる0このた
め、ガラス板t−EL:Jg子に樹脂接着することによ
りEL素子の寿命は改善されるものの、樹脂が大気と接
する部分から発光層に向けて湿気が浸透するので、EL
素子の水分による劣化を完全に防止することにできない
。こnに対して透光板r樹脂徽溜した懐、樹脂が大気に
直接さらされる部分を半田等の低融点金属で覆ってしま
い、EL素子の発光11とともに樹脂接着層までtまと
めて封止することにより、非常に耐湿性の良好な封止方
法が得られる。なお。
封止に用いる金rとしてa%樹脂に11伊接触させても
樹脂が変質しない範囲のOA度で封止が町爵な低融点の
金鵜である心安がある。
樹脂が変質しない範囲のOA度で封止が町爵な低融点の
金鵜である心安がある。
次に、本発明について図面ケ参照して祝明する。
第1図は本発明の一実施例の断面図である。
本実施例框セラミック基板1.セラミック基部2、内部
′t11惨3.セラミック絶縁層4、ピアホール’it
極51とり出しt億6.介在層7、発光層8、第二絶縁
層9.透明1を億10、透光性樹脂接着剤11、透光板
12及び低融点金fi13(z有してなる0 まず、セラミック基板1を構成する賛素’kii5i+
、明すると、セラミック基部2は厚さ0.1〜10門。
′t11惨3.セラミック絶縁層4、ピアホール’it
極51とり出しt億6.介在層7、発光層8、第二絶縁
層9.透明1を億10、透光性樹脂接着剤11、透光板
12及び低融点金fi13(z有してなる0 まず、セラミック基板1を構成する賛素’kii5i+
、明すると、セラミック基部2は厚さ0.1〜10門。
ないが1本’48例でくアルミナとホウケイ酸塩ガラス
の混合物を用いた0内部を惨3C厚さ0.1〜て用いら
れているものであnば10]勿用いてもよいが1本実施
例ではAg−P(1合菫會用いた。セラミック絶縁層4
α高誘″屯率のセラミックの絶縁層であ凱厚さ5〜10
00□、n程匿あればよく1本実施例でに351とした
0材料t’ffPZT系。
の混合物を用いた0内部を惨3C厚さ0.1〜て用いら
れているものであnば10]勿用いてもよいが1本実施
例ではAg−P(1合菫會用いた。セラミック絶縁層4
α高誘″屯率のセラミックの絶縁層であ凱厚さ5〜10
00□、n程匿あればよく1本実施例でに351とした
0材料t’ffPZT系。
BaTiO3系、もしくはPbTiOs系などの藁鍔電
率が得られる材料であればよく、本′A!施例では低温
焼成が可能なPb を含む複合ペロプスカイト化合物r
用いた。この材料の比朽電率に常編でL5000以上と
非常に大きい。ピアホール電極5に内部′4極3及び後
で述べる透明″tJ!L他10全ひき出丁ための電極、
とり出し゛電体6はピアホール1億5を外部回路に接瞠
するための電極で、ピアホール電極5及びとり出し電極
6の材料汀内部14ネ3と同一である。このような構成
のセラミック基板10作成にa、所謂、グリーンシート
法を用−1まずグリーンシートにピアホール用の尺r開
けたあと内部電憔3、ピアホール電極5及びとり出し電
極6のパターン?印刷し、積り加圧接宥後、一体焼成し
て作成した〇 このようにして作成しtセラミック基板1の上にEL素
子の特性改善の九めの介在層7?スパツタ法により放膜
した0膜厚げ0.01〜1□□根度であればよく1本実
施例では0.2 am とした0材料HTa−Si −
0(Ta宜05 と3i02の混合物)音用いたが、他
の薄膜絶縁材料であるY2O3や5iCh # Al
zOs −Taxes 、 SiN等勿用いてもよい
。その場合、成製法は各材料に最適な方fE、七用いれ
ばよい。次にこの介在Nk7の上にznSiMnからな
る発光層8 ’i 0.1〜3□、の厚さに真空蒸着す
る。本!!施例でyl O−4、g□とした。士た発光
N7I8の材料としてはZnS /どけでなくznS
eやCaS、SrSなどのgIt1ヒ吻やフッ化吻、ま
罠μそ心の濃度に、本実施例ではII@1モルバーセン
トドしたが、一般には0.01〜10モルパーセントの
範囲内で最適な値t:@べばよい0次に、この発光層8
の上に第二絶縁i9’kO,01〜2μmの厚さにFi
5L俟し疑実施例では厚さto、2□、とし、材料に介
在層7と同じ<Ta−8i−Ok用いてスパッタ法によ
りFjZ嗅した。この第二絶縁/1iI9の上に透明t
lJ10としてITOt−スパッタ法により放膜してE
L素子とした。なお、ここでは介在層7及び第二絶縁層
9を具備した例について述べたが。
率が得られる材料であればよく、本′A!施例では低温
焼成が可能なPb を含む複合ペロプスカイト化合物r
用いた。この材料の比朽電率に常編でL5000以上と
非常に大きい。ピアホール電極5に内部′4極3及び後
で述べる透明″tJ!L他10全ひき出丁ための電極、
とり出し゛電体6はピアホール1億5を外部回路に接瞠
するための電極で、ピアホール電極5及びとり出し電極
6の材料汀内部14ネ3と同一である。このような構成
のセラミック基板10作成にa、所謂、グリーンシート
法を用−1まずグリーンシートにピアホール用の尺r開
けたあと内部電憔3、ピアホール電極5及びとり出し電
極6のパターン?印刷し、積り加圧接宥後、一体焼成し
て作成した〇 このようにして作成しtセラミック基板1の上にEL素
子の特性改善の九めの介在層7?スパツタ法により放膜
した0膜厚げ0.01〜1□□根度であればよく1本実
施例では0.2 am とした0材料HTa−Si −
0(Ta宜05 と3i02の混合物)音用いたが、他
の薄膜絶縁材料であるY2O3や5iCh # Al
zOs −Taxes 、 SiN等勿用いてもよい
。その場合、成製法は各材料に最適な方fE、七用いれ
ばよい。次にこの介在Nk7の上にznSiMnからな
る発光層8 ’i 0.1〜3□、の厚さに真空蒸着す
る。本!!施例でyl O−4、g□とした。士た発光
N7I8の材料としてはZnS /どけでなくznS
eやCaS、SrSなどのgIt1ヒ吻やフッ化吻、ま
罠μそ心の濃度に、本実施例ではII@1モルバーセン
トドしたが、一般には0.01〜10モルパーセントの
範囲内で最適な値t:@べばよい0次に、この発光層8
の上に第二絶縁i9’kO,01〜2μmの厚さにFi
5L俟し疑実施例では厚さto、2□、とし、材料に介
在層7と同じ<Ta−8i−Ok用いてスパッタ法によ
りFjZ嗅した。この第二絶縁/1iI9の上に透明t
lJ10としてITOt−スパッタ法により放膜してE
L素子とした。なお、ここでは介在層7及び第二絶縁層
9を具備した例について述べたが。
介在層7または第二絶縁層9に必ずしも必要でになく、
省略することも可能である。
省略することも可能である。
次に、このようにして得られたEL素子の表面に透光性
樹脂接着剤11として2液混合型のエポキシ樹脂上十分
に真空脱泡して塗布し、さらに透光板12として厚さ0
.5.のガラスff1kliねて刃口熱重合させて硬化
上完了した。このようにして透光&12r透光性樹脂接
着剤11により薄膜部を放膜したセラミック基板lに張
り合せた後、側面勿カッターで切断し、SiC等の研暦
粉r用いて研磨し、セラミック基板1.透光板12及び
透光性樹脂接着剤11の側面が平らにそろうようにした
。その後、発光層8及び透光性樹脂接着剤11を完全に
大気から遮断するために、透光性樹脂接着剤11が表面
に露出している部分を低融点金属13で覆っ友。この低
融点金属13としては融点が120℃程度の低温半田を
用い、超音波半田付により半田上ガラス及びセラミック
スに付着させることにより行なった。この場合、透光性
樹脂接着剤11の厚さに、たかだか0.3□程度である
こと、また樹脂が半田に対してぬれることから、超音波
半田付により完全に透光性樹脂接着剤11の側面上半田
よりなる低融点金属13によって覆うことができた。
樹脂接着剤11として2液混合型のエポキシ樹脂上十分
に真空脱泡して塗布し、さらに透光板12として厚さ0
.5.のガラスff1kliねて刃口熱重合させて硬化
上完了した。このようにして透光&12r透光性樹脂接
着剤11により薄膜部を放膜したセラミック基板lに張
り合せた後、側面勿カッターで切断し、SiC等の研暦
粉r用いて研磨し、セラミック基板1.透光板12及び
透光性樹脂接着剤11の側面が平らにそろうようにした
。その後、発光層8及び透光性樹脂接着剤11を完全に
大気から遮断するために、透光性樹脂接着剤11が表面
に露出している部分を低融点金属13で覆っ友。この低
融点金属13としては融点が120℃程度の低温半田を
用い、超音波半田付により半田上ガラス及びセラミック
スに付着させることにより行なった。この場合、透光性
樹脂接着剤11の厚さに、たかだか0.3□程度である
こと、また樹脂が半田に対してぬれることから、超音波
半田付により完全に透光性樹脂接着剤11の側面上半田
よりなる低融点金属13によって覆うことができた。
なお、低融点金蔵13により透光性樹脂接着剤11の露
出部分tQうには必ずしも超音波半田付による必要にな
く、たとえば研磨まで埼ませたセラミック基板1.透光
板/2及び透光性樹脂接着剤13の側面にクロム及びニ
ッケル〒1@次蒸滑し、その上に半田tのせる等の方法
耐用いてもよい。
出部分tQうには必ずしも超音波半田付による必要にな
く、たとえば研磨まで埼ませたセラミック基板1.透光
板/2及び透光性樹脂接着剤13の側面にクロム及びニ
ッケル〒1@次蒸滑し、その上に半田tのせる等の方法
耐用いてもよい。
本実施例のEL累子は高い温度の条件下で使用しても、
湿気の浸透に起因する非発元点の発生や輝度の低下が少
く、高い信頼性に示した。なお透光板12としてはガラ
ス板の他に耐熱性のよいプラスチック材料%友とえばア
クリル板等七使用しても同様の効果が得られた0ま友透
光板12として適度に清色されたガラス板やプラスチッ
ク板を使用した場合には、表示のコントラス)k同上さ
せることができる〇 〔発明の効果〕 以上説明し友ように本発明は、発光層tセラミック基板
、透元性のガラス板やプラスチック板、エポキシ樹脂等
の透光性樹脂接層剤、さらに低融点金属によって完全に
外気から遮断することによりS発光層の吸湿による劣化
がなくなり、これによりEL素子の信頼性が大きく向上
するとともに表示品質の劣化がなくなる効果がある。し
かも従来の封止方法に比べて工程が簡単で製造時間1−
1縮することができ、従って製造コス)?!−低減する
ことができる効果がある。またこの封止にょDEL素子
が機械的に保繰されるとともに、?[気的にも絶縁され
、安全性が同上する。
湿気の浸透に起因する非発元点の発生や輝度の低下が少
く、高い信頼性に示した。なお透光板12としてはガラ
ス板の他に耐熱性のよいプラスチック材料%友とえばア
クリル板等七使用しても同様の効果が得られた0ま友透
光板12として適度に清色されたガラス板やプラスチッ
ク板を使用した場合には、表示のコントラス)k同上さ
せることができる〇 〔発明の効果〕 以上説明し友ように本発明は、発光層tセラミック基板
、透元性のガラス板やプラスチック板、エポキシ樹脂等
の透光性樹脂接層剤、さらに低融点金属によって完全に
外気から遮断することによりS発光層の吸湿による劣化
がなくなり、これによりEL素子の信頼性が大きく向上
するとともに表示品質の劣化がなくなる効果がある。し
かも従来の封止方法に比べて工程が簡単で製造時間1−
1縮することができ、従って製造コス)?!−低減する
ことができる効果がある。またこの封止にょDEL素子
が機械的に保繰されるとともに、?[気的にも絶縁され
、安全性が同上する。
第1図は本発明の一実施例の断面1、第2肉は従来のセ
ラミック絶縁薄gEL素子の一例勿示す断面図、第3図
に従来の薄展EL素子の封止方法の一例を示す断面図で
ある0 1.21・・・・・・セラミック基板、2,22・・・
・・・セラミック基部、3.23・・・・・・内部’U
*、4.24・・・・・・セラミック砲縁層、5・・・
・・・ピアホール成極、6・・・・・・とり出し電極、
7・・・・・・介在層、8,25゜34・・・・・・発
光層、9・・・・・・第二P3一層、10,26゜32
・・・・・・透明1を極、11・・・・・・透元注樹脂
薩漕剤。 12・・・・・・透光板、13・・・・・・低融点金属
、27・・・°・・又流電源、31・・・・・・ガラス
基板% 33,35・・・・・・絶縁層、36・・・・
・・背面電億、37・・・・・・通層剤、38・・・・
・・皿状容器、39・・・・・・注入孔、40・・・・
・・キャップ0 第1図 第2図 第3図
ラミック絶縁薄gEL素子の一例勿示す断面図、第3図
に従来の薄展EL素子の封止方法の一例を示す断面図で
ある0 1.21・・・・・・セラミック基板、2,22・・・
・・・セラミック基部、3.23・・・・・・内部’U
*、4.24・・・・・・セラミック砲縁層、5・・・
・・・ピアホール成極、6・・・・・・とり出し電極、
7・・・・・・介在層、8,25゜34・・・・・・発
光層、9・・・・・・第二P3一層、10,26゜32
・・・・・・透明1を極、11・・・・・・透元注樹脂
薩漕剤。 12・・・・・・透光板、13・・・・・・低融点金属
、27・・・°・・又流電源、31・・・・・・ガラス
基板% 33,35・・・・・・絶縁層、36・・・・
・・背面電億、37・・・・・・通層剤、38・・・・
・・皿状容器、39・・・・・・注入孔、40・・・・
・・キャップ0 第1図 第2図 第3図
Claims (1)
- セラミツク基板に設けられた高誘電率セラミツク層か
らなる絶縁層と、この絶縁層上に設けられた発光層とを
有するEL素子の封止方法において、前記EL素子の表
面に透光性のガラス板またはプラスチツク板よりなる透
光板を透光性樹脂接着剤を用いて張り合せるとともに前
記透光板ないしは前記セラミツク基板の周辺部に露出し
ている前記透光性樹脂接着剤を低融点金属により覆うよ
うにして前記発光層を封止したことを特徴とするEL素
子の封止方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61293846A JPS63146393A (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | El素子の封止方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61293846A JPS63146393A (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | El素子の封止方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63146393A true JPS63146393A (ja) | 1988-06-18 |
Family
ID=17799912
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61293846A Pending JPS63146393A (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | El素子の封止方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63146393A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003272830A (ja) * | 2002-03-20 | 2003-09-26 | Casio Comput Co Ltd | 電気素子封止方法、パッケージ及び表示素子 |
WO2008120453A1 (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | Fujifilm Corporation | 有機elパネルおよびその製造方法 |
-
1986
- 1986-12-09 JP JP61293846A patent/JPS63146393A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003272830A (ja) * | 2002-03-20 | 2003-09-26 | Casio Comput Co Ltd | 電気素子封止方法、パッケージ及び表示素子 |
WO2008120453A1 (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | Fujifilm Corporation | 有機elパネルおよびその製造方法 |
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