JPS62213091A - El素子 - Google Patents
El素子Info
- Publication number
- JPS62213091A JPS62213091A JP61057547A JP5754786A JPS62213091A JP S62213091 A JPS62213091 A JP S62213091A JP 61057547 A JP61057547 A JP 61057547A JP 5754786 A JP5754786 A JP 5754786A JP S62213091 A JPS62213091 A JP S62213091A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- emitting layer
- light
- ceramic
- layer
- light emitting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 40
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 18
- 239000005394 sealing glass Substances 0.000 claims description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 46
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 4
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004299 TbF3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- LKNRQYTYDPPUOX-UHFFFAOYSA-K trifluoroterbium Chemical compound F[Tb](F)F LKNRQYTYDPPUOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 244000171726 Scotch broom Species 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、発光表示装置や面光源として利用される交流
駆動型のEI−素子、特に高誘電率セラミック層を絶縁
層としたEL素子に関するものである。
駆動型のEI−素子、特に高誘電率セラミック層を絶縁
層としたEL素子に関するものである。
低電圧駆動で絶縁破壊に対して非常に安定な新構造のE
L素子として、所謂、セラミック絶縁薄膜EL素子が1
985年度インターナショナル・ディスプレイ・リサー
チ・コンファレンス予稿集173頁(Conferen
ce Recn、rd o「tl+e Tnl、ern
ational ロ1splay Rrsearc
h Conrerrncel 98 5 )
に報告されている。このセラミック絶縁薄lI!EI−
素子の基本構造の断面図の一例を第2図に示ず。
L素子として、所謂、セラミック絶縁薄膜EL素子が1
985年度インターナショナル・ディスプレイ・リサー
チ・コンファレンス予稿集173頁(Conferen
ce Recn、rd o「tl+e Tnl、ern
ational ロ1splay Rrsearc
h Conrerrncel 98 5 )
に報告されている。このセラミック絶縁薄lI!EI−
素子の基本構造の断面図の一例を第2図に示ず。
第2図において、11はセラミック基板、12〜14は
それぞれセラミック基板11の一部分であり、12はセ
ラミック基部、13は銀・パラジウム等からなる内部電
極、14はPZT系、 BaTiO3系、またはPhT
iOs系統のペロブスカイト化合物からなる高誘電率の
セラミック絶縁層である。15はセラミック絶縁層]4
の」二に蒸着されたMn。
それぞれセラミック基板11の一部分であり、12はセ
ラミック基部、13は銀・パラジウム等からなる内部電
極、14はPZT系、 BaTiO3系、またはPhT
iOs系統のペロブスカイト化合物からなる高誘電率の
セラミック絶縁層である。15はセラミック絶縁層]4
の」二に蒸着されたMn。
TbF3. SmFg、 PrFg等の発光中心を大む
ZnSからなる薄膜の発光層であり、真空蒸着法やスパ
ッタ蒸着法により形成される。16は発光層15の上に
成膜されたTT○等からなる透明電極、17はEI5素
子を駆動する交流電源であり、内部電極13と透明電極
16に接続されている。
ZnSからなる薄膜の発光層であり、真空蒸着法やスパ
ッタ蒸着法により形成される。16は発光層15の上に
成膜されたTT○等からなる透明電極、17はEI5素
子を駆動する交流電源であり、内部電極13と透明電極
16に接続されている。
第2図に示した例は、所謂片絶縁型のものであるが、発
光層15と透明電極16の間にY2O3やTa205等
の薄膜絶縁体層を挿入した2重絶縁構造としてもよい。
光層15と透明電極16の間にY2O3やTa205等
の薄膜絶縁体層を挿入した2重絶縁構造としてもよい。
次に、セラミック絶縁薄膜EL素子の発光原理について
説明する。第2図に示す発光層15は、発光開始前は単
純なコンデンサと考えられる。
説明する。第2図に示す発光層15は、発光開始前は単
純なコンデンサと考えられる。
従って内部電極13と透明電極16との間に交流電源1
7から交流電圧を印加すると発光層15及びセラミック
絶縁層14にはそれぞれの静電容量に応じた電圧が加え
られる。発光層15に加えられる電界が十分大きくなる
と(約106V/Ω以上)発光層15の伝導帯に電子が
励起される。この電子は電界によって加速され、発光中
心を励起するのに十分なエネルギーを持って発光中心に
衝突する。これにより適当な励起状態に上がった発光中
心の電子が基底状態へ戻る際に、発光中心に固有なエネ
ルギー値を持った光が放出される2実際には結晶格子と
の相互作用等により発光スペクI・ルはある程度の拡が
りを持つ。発光中心としてMn、TbF3.SmF<ま
たはPrLqを用いた場合は、それぞれ黄橙色、緑色、
赤色、白色の発光が観測される。
7から交流電圧を印加すると発光層15及びセラミック
絶縁層14にはそれぞれの静電容量に応じた電圧が加え
られる。発光層15に加えられる電界が十分大きくなる
と(約106V/Ω以上)発光層15の伝導帯に電子が
励起される。この電子は電界によって加速され、発光中
心を励起するのに十分なエネルギーを持って発光中心に
衝突する。これにより適当な励起状態に上がった発光中
心の電子が基底状態へ戻る際に、発光中心に固有なエネ
ルギー値を持った光が放出される2実際には結晶格子と
の相互作用等により発光スペクI・ルはある程度の拡が
りを持つ。発光中心としてMn、TbF3.SmF<ま
たはPrLqを用いた場合は、それぞれ黄橙色、緑色、
赤色、白色の発光が観測される。
このような第2図に示すセラミック薄膜E L素子の発
光原理そのものは従来のガラス基板上に薄膜の絶縁体層
や発光層を積層した交流駆動型の薄膜EL素子(ニス・
アイ・ディ・74・ダイジェスト・オブ・テクニカル・
ペーパーズ84頁。
光原理そのものは従来のガラス基板上に薄膜の絶縁体層
や発光層を積層した交流駆動型の薄膜EL素子(ニス・
アイ・ディ・74・ダイジェスト・オブ・テクニカル・
ペーパーズ84頁。
(S I D 74 digest of tech
nical papers))と変わるものではない
。しかし、数10μm程度の厚さの非常に誘電率の高い
セラミック絶縁層14の効果により動作電圧の大巾な低
減、絶縁破壊電圧に対する非常に高い安定性が実現され
たものであり、低コスI−の面光源や発光表示装置とし
て期待されている。
nical papers))と変わるものではない
。しかし、数10μm程度の厚さの非常に誘電率の高い
セラミック絶縁層14の効果により動作電圧の大巾な低
減、絶縁破壊電圧に対する非常に高い安定性が実現され
たものであり、低コスI−の面光源や発光表示装置とし
て期待されている。
」二連したような従来のEL素子の発光層15に用いら
れるZnSやZn5eなどは吸湿性があり、しかも発光
層]5が吸湿した状態でE[、素子に電圧を印加して発
光を行なわせると、電気化学的作用により発光層15が
変質し、EL素子が破壊してしまう。
れるZnSやZn5eなどは吸湿性があり、しかも発光
層]5が吸湿した状態でE[、素子に電圧を印加して発
光を行なわせると、電気化学的作用により発光層15が
変質し、EL素子が破壊してしまう。
このような発光層15の吸湿に起因するEL素子の破壊
を防止するため、実用に供せられるEL素子では発光層
15の吸湿をできるかぎり少くする構造になっている。
を防止するため、実用に供せられるEL素子では発光層
15の吸湿をできるかぎり少くする構造になっている。
そのような対策を施した従来のEL素子の構造の一例の
断面図を第3図に示す(特願昭60−148616号)
。図におい゛て、透明な樹脂コーティング層18が発光
層15及び透明型gi16全体をおおうように配置され
た樹脂コーティング層18により薄膜発光層15が吸湿
することを防止している。しかし樹脂コーティング層1
8は一般に完全には水分の貫通を遮断できないため、樹
脂コーディング層18を配置しても結局は発光層15が
吸湿してしまい、EL素子に電圧を印加すると吸湿した
発光層15の部分において電気化学的作用により発光層
15が変質し、EL素子が破壊し、表示品質が著しく損
われる欠点があった。
断面図を第3図に示す(特願昭60−148616号)
。図におい゛て、透明な樹脂コーティング層18が発光
層15及び透明型gi16全体をおおうように配置され
た樹脂コーティング層18により薄膜発光層15が吸湿
することを防止している。しかし樹脂コーティング層1
8は一般に完全には水分の貫通を遮断できないため、樹
脂コーディング層18を配置しても結局は発光層15が
吸湿してしまい、EL素子に電圧を印加すると吸湿した
発光層15の部分において電気化学的作用により発光層
15が変質し、EL素子が破壊し、表示品質が著しく損
われる欠点があった。
なおこのような発光層15の吸湿は樹脂コーティング層
18の上にガラス板等の透明な板を接着して配置した場
合でも水分が側面から侵入するため高い信頼性が得られ
ないという問題があった。
18の上にガラス板等の透明な板を接着して配置した場
合でも水分が側面から侵入するため高い信頼性が得られ
ないという問題があった。
本発明のEL素子は、セラミック基板に設けられた高誘
電率セラミック層からなる絶縁層と、この絶縁層上に設
けられた発光層とを有するE L素子において、前記セ
ラミック基板に透光性のガラス板を封着ガラスを用いて
接着し前記発光層を封止したことを特徴とする。
電率セラミック層からなる絶縁層と、この絶縁層上に設
けられた発光層とを有するE L素子において、前記セ
ラミック基板に透光性のガラス板を封着ガラスを用いて
接着し前記発光層を封止したことを特徴とする。
本発明は、上述の構成をとることにより従来技術の問題
点を解決した。すなわち従来はEL素子を湿気から保護
するために樹脂を用いていたのを改め透光性ガラス板を
封着ガラスを用いてセラミック基板に接着した。これに
より発光層が外気から完全に遮断され、よって発光層が
吸湿しなくなるため発光層の吸湿に原因するEI−素子
の破壊が防止され、E I−素子の信頼性が著しく向上
するとともに、EL素子の表示品質が低下することを防
止できるようになり、高い信頼性と良好な表示品質を維
持できるEL素子を供給できるようになる。
点を解決した。すなわち従来はEL素子を湿気から保護
するために樹脂を用いていたのを改め透光性ガラス板を
封着ガラスを用いてセラミック基板に接着した。これに
より発光層が外気から完全に遮断され、よって発光層が
吸湿しなくなるため発光層の吸湿に原因するEI−素子
の破壊が防止され、E I−素子の信頼性が著しく向上
するとともに、EL素子の表示品質が低下することを防
止できるようになり、高い信頼性と良好な表示品質を維
持できるEL素子を供給できるようになる。
〔実施例1
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例の断面構造図である。1はセ
ラミック基板、2〜4はセラミック基板1を構成する部
分であり、2は厚さ約1龍のセラミック基部、3は内部
電極であり厚さ約3μm、4は厚さ約40μmの高誘電
率のセラミック絶縁層である。更にセラミック基板1上
には引き出し電極7が形成されている。このセラミック
基板1は、所謂、グリーンシート法により作成する。即
ちセラミック基部2やセラミック絶縁層4となるセラミ
ック生シートに適宜、内部電極3や引き出し電極4を導
体ペーストのスクリーン印刷により形成した後、生シー
トを積層焼成して作成する。このように作成したセラミ
ック基板1」二に発光層5としてZnS:Mu(Mn
fJ度約1モル%)を0.3μmの厚さに真空蒸着した
。6は厚さ約0,2μmのTT’Oよりなる透明電極で
あり、マグネトロンスパッタ法により作成した。この上
に透光性のガラス板9をかぶせ発光部を囲むように封着
ガラス8によりセラミック基板1に接着し発光部を封止
する。
ラミック基板、2〜4はセラミック基板1を構成する部
分であり、2は厚さ約1龍のセラミック基部、3は内部
電極であり厚さ約3μm、4は厚さ約40μmの高誘電
率のセラミック絶縁層である。更にセラミック基板1上
には引き出し電極7が形成されている。このセラミック
基板1は、所謂、グリーンシート法により作成する。即
ちセラミック基部2やセラミック絶縁層4となるセラミ
ック生シートに適宜、内部電極3や引き出し電極4を導
体ペーストのスクリーン印刷により形成した後、生シー
トを積層焼成して作成する。このように作成したセラミ
ック基板1」二に発光層5としてZnS:Mu(Mn
fJ度約1モル%)を0.3μmの厚さに真空蒸着した
。6は厚さ約0,2μmのTT’Oよりなる透明電極で
あり、マグネトロンスパッタ法により作成した。この上
に透光性のガラス板9をかぶせ発光部を囲むように封着
ガラス8によりセラミック基板1に接着し発光部を封止
する。
封着ガラス8による封止は、例えば次に説明する工程に
より行なう。透光性ガラス板9として安価で、且つセラ
ミック基板1と熱膨張係数が近いソーダガラスを用い、
その上にビークルを混合しペースト状にした封着用低融
点ガラス(日本電気硝子■製 LSOll、8)をスク
リーン印刷により額縁状に形成し、乾燥f&43Q℃大
気中で仮焼成する。この後、上述のセラミック絶縁EL
素子部を重ね合せ430℃15分間の本焼成を行なう。
より行なう。透光性ガラス板9として安価で、且つセラ
ミック基板1と熱膨張係数が近いソーダガラスを用い、
その上にビークルを混合しペースト状にした封着用低融
点ガラス(日本電気硝子■製 LSOll、8)をスク
リーン印刷により額縁状に形成し、乾燥f&43Q℃大
気中で仮焼成する。この後、上述のセラミック絶縁EL
素子部を重ね合せ430℃15分間の本焼成を行なう。
本焼成は乾燥したアルゴンや窒素の不活性なガス雰囲気
で行なう。この焼成によりガラス板9とEL素子部を設
けたセラミック基板1が接着され、発光部は完全に外界
と遮断される。なお、本焼成は真空中で行なってもよい
。
で行なう。この焼成によりガラス板9とEL素子部を設
けたセラミック基板1が接着され、発光部は完全に外界
と遮断される。なお、本焼成は真空中で行なってもよい
。
上述の製造工程ではカバーとなるガラス板9の方に封着
ガラス8を仮焼成して形成したが、発光層5やITO等
の薄膜工程を行なう前にセラミック基板部1の方に前も
って形成しておいても良い。更に、ガラス板9とセラミ
ック基板1の両方に封着ガラスを仮焼成して形成した場
合はより確実に封止が行なえる。また透光性ガラス板と
して適度に着色されたガラス板を使用することもできる
。この場合は、表示のコンI・ラスト向上が実現される
。
ガラス8を仮焼成して形成したが、発光層5やITO等
の薄膜工程を行なう前にセラミック基板部1の方に前も
って形成しておいても良い。更に、ガラス板9とセラミ
ック基板1の両方に封着ガラスを仮焼成して形成した場
合はより確実に封止が行なえる。また透光性ガラス板と
して適度に着色されたガラス板を使用することもできる
。この場合は、表示のコンI・ラスト向上が実現される
。
このようなガラス封着には4oo℃以上の比較的高い処
理温度が必要であるが本実施例では、ITOの抵抗が若
干増大した以外は特性上何ら問題はなく、高湿下におい
ても劣化を示さながった。
理温度が必要であるが本実施例では、ITOの抵抗が若
干増大した以外は特性上何ら問題はなく、高湿下におい
ても劣化を示さながった。
以上述べた通り本発明のEL素子は、発光層をセラミッ
ク基板、透光性のガラス板及び封着ガラスで囲い、外気
から完全に遮断するため、従来用いられてきた樹脂コー
ティング層のような透水性がなく、発光層が外気から完
全に隔離される。
ク基板、透光性のガラス板及び封着ガラスで囲い、外気
から完全に遮断するため、従来用いられてきた樹脂コー
ティング層のような透水性がなく、発光層が外気から完
全に隔離される。
従って、本発明のEL素子は、発光層が吸湿することが
なくなり、吸湿を原因とする発光層の変質とそれに伴う
EL素子の破壊ないしは劣化が防止され、これによりE
L素子の信頼性が大きく向上するとともに表示品質の劣
化がなくなるという効果がある。
なくなり、吸湿を原因とする発光層の変質とそれに伴う
EL素子の破壊ないしは劣化が防止され、これによりE
L素子の信頼性が大きく向上するとともに表示品質の劣
化がなくなるという効果がある。
第1図は本発明の一実施例の断面図、第2図は従来のセ
ラミック絶縁薄膜EL素子の断面図、第3図は従来の樹
脂コーディング層を有するセラミック絶縁薄膜EL素子
の断面図である。 1.11・・・セラミック基板、2.12・・・セラミ
ック基部、3.13・・・内部電極、4.14・・・セ
ラミック絶縁層、5.15・・・発光層、6.16・・
・透明電極、7・・・引き出し電極、8・・・封着ガラ
ス、9・・・透光性ガラス板、10・・・空間、17・
・・交流型源、18・・・樹脂コーティング層。 箒 2 M 1目℃プモコーティ〉ヅ層
ラミック絶縁薄膜EL素子の断面図、第3図は従来の樹
脂コーディング層を有するセラミック絶縁薄膜EL素子
の断面図である。 1.11・・・セラミック基板、2.12・・・セラミ
ック基部、3.13・・・内部電極、4.14・・・セ
ラミック絶縁層、5.15・・・発光層、6.16・・
・透明電極、7・・・引き出し電極、8・・・封着ガラ
ス、9・・・透光性ガラス板、10・・・空間、17・
・・交流型源、18・・・樹脂コーティング層。 箒 2 M 1目℃プモコーティ〉ヅ層
Claims (1)
- セラミック基板に設けられた高誘電率セラミック層か
らなる絶縁層と、この絶縁層上に設けられた発光層とを
有するEL素子において、前記セラミック基板に透光性
のガラス板を封着ガラスを用いて接着し前記発光層を封
止したことを特徴とするEL素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61057547A JPS62213091A (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | El素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61057547A JPS62213091A (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | El素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62213091A true JPS62213091A (ja) | 1987-09-18 |
Family
ID=13058807
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61057547A Pending JPS62213091A (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | El素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62213091A (ja) |
-
1986
- 1986-03-14 JP JP61057547A patent/JPS62213091A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2881212B2 (ja) | 電界発光素子 | |
EP1720381A1 (en) | Organic el panel | |
JPS61230296A (ja) | El素子とその製造方法 | |
JPH1140347A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
JPS62213091A (ja) | El素子 | |
JPS61250993A (ja) | El素子 | |
JPS63164196A (ja) | El素子 | |
JPS62219492A (ja) | El素子 | |
JPS6369193A (ja) | El素子とその製造方法 | |
JPS5829880A (ja) | 電場発光素子 | |
JPS63146393A (ja) | El素子の封止方法 | |
JPS6124192A (ja) | 薄膜エレクトロルミネツセンス素子 | |
JPS60160594A (ja) | 薄膜el素子 | |
JPH0541284A (ja) | El素子 | |
JPS6147097A (ja) | エレクトロルミネセンス素子 | |
JPH0516158B2 (ja) | ||
JPS6196696A (ja) | 薄膜el素子の製造方法 | |
JPH0589960A (ja) | 薄膜el素子 | |
JPS60202683A (ja) | Elパネル | |
JPS6314833B2 (ja) | ||
JPH0129319B2 (ja) | ||
JPS6035496A (ja) | Elパネル | |
JPS6147096A (ja) | 薄膜el素子の製造方法 | |
JPS61271780A (ja) | 薄膜el素子 | |
JPS61250992A (ja) | El素子 |