JPS63144437A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は光磁気ディスク、テープ、カード等のレーザー
ビームを用いて情報を高密度に記録するのに用いられる
光記録媒体に関するものであり、特に、酸化され易いＴ
ｅ系、　Ｔｂ−Ｆｅ系等のＤＲＡＷ　。

Ｅ　−ＤＲＡＷ記録膜を有する光ディスクに関するもの
である。

（発明の背景） 光記録媒体、特に、光磁気記録方式記録媒体の実用化上
の最大の問題点は記録媒体の耐久性である。すなわち、
上記Ｔｅ系や希土類−遷移金属のアモルファス合金薄膜
は空気中の酸素、水分によって酸化され易いため、記録
膜の性質が時間の経過とともに変化する。そのため、記
録膜の記碌−再生特性が経時変化し、この変化が許容限
度を超えると、最悪の場合には記録・再生が不可能にな
る。

従って、耐久性に優れた光記録膜の開発が強く望まれて
いる。

上記問題点を解決する、すなわち記録膜の耐久性を向上
させる対策としては２つの方法があり、一つは保護膜を
用いる方法であり、他は記録膜の組成そのものの耐久性
を向上させる方法である。

本発明は前者の場合に属し、丑に、上記保護膜。

記録膜および基板の間の平面的寸法を規定することによ
って記録膜め耐久性を向上させたものである。

（従来技術） 従来、特に光磁気記録媒体の場合には、記録層を保護す
るためには第２図（ａ）　、　（ｂ）に示すように、基
板１上に内側保護膜２および／またはエンノ・ンス膜３
を介して、または介さずに遷移金属（ＴＭ）　−希土類
元素（ＲＥ）のアモルファス記録膜４が形成され、最外
面に外側保護膜５が形成されている。

この型式の保護膜の欠点は記録膜４の周辺部６すなわち
、円盤状光ディスクの場合には記録膜の放射方向外周お
よび内周端縁部から水分、酸素が侵入する結果、記録膜
の劣化がこれら内外周端縁部から始まり、この劣化は時
間の経過とともに記録膜の主要部にまで及んでいく。さ
らに、この内外周端縁部から酸素原子が比較的自由に侵
入できるだめ、記録膜の主要部の変質が促進される。こ
れは極めて重大な欠点である。

（発明の目的） 本発明の目的は耐久性の面で実用に十分耐え得ると同時
に記録−再生特性に優れた記録媒体を提供することにあ
り、特に、特定平面寸法の保護膜を用いて光磁気記録媒
体の耐久性を向上させることにある。

（発明の構成） 本発明の提供する光記録媒体は基板と、この基板上に形
成されたレーザービームの照射によりて情報が記録され
る記録層と、この記録層の上に形成された保護層とを含
み、その特徴は、上記記録層の周辺端縁が基板の周辺輪
郭より内側に後退しており、上記保護層の周辺端縁が上
記記録層の周辺端縁より外側にある点にある。

上記基板はガラス、セラミ、クス、プラスチック、金属
等任意の材料から作ることができるが、生産性、コスト
等から透明プラスチック、特にポリカーボネートが好ま
しい。

上記記録層は公知任意の光記録材でよいが、本発明の効
果は、特に空気中の酸素、水分等あるいは基板から出る
水分、モノマー等によって酸化され易い光記録材、特に
希土類−遷移金属（ＲＥ−ＴＭ）アモルファス合金の光
磁気記録層に適用した場合に特に顕著となる。

上記ＴＭとＲＥの組合せは種々研究されており、一般に
ＴＭとしてはＦｅ　、　Ｃｏ　、　Ｎｉが、また、ＲＥ
としてはＴｂ　ｇ　Ｇｄ　＊　Ｄｙ　＃　Ｈｆ　ｇ　Ｈ
ｏが用いられ、必要に応じて他の成分が添加される。こ
れらを組合せた系の中で垂直磁化膜が得られ且つキュリ
一点温度または補償温度が１００〜２５０℃の最適範囲
内にあり且つカー回転角が大きい組合せとしてＴｂ　、
　Ｆｅ　。

ＧｄＴｂＦｅ　、　ＧｄＴｂＣｏ　、　ＴｂＦｅＣｏ等
がある。これら元素の組合せ比率は実験的に求められて
おり、垂直磁化膜は特定の原子チル率でないと得られな
い。

上記のＴＭ−ＲＥの垂直磁化アモルファス膜の作成には
スパッタリングや蒸着等の物理的蒸着法を用いることが
できるが、一般には高周波スパッタリングやマグネトロ
ンスパッタリングが用いられている。特に基板としてプ
ラスチック基板を用いた場合には基板の温度上昇を避け
るためにマグネトロンスパッタリングが用いられる。

本発明の特徴は記録層の周辺端縁を基板の周辺輪郭に対
して内側に後退させ、保護層の周辺端部を記録層の上記
周辺端縁に対して外側に存在させた点にある。光ディス
クのように中心孔を有する光記録媒体の場合には上記記
録層の周辺端縁は放射方向内側の内周端縁と外側の外周
端縁があり、本発明ではこれら内外筒周辺端縁を保護層
で完全に被う。また、テープやカード形状の光記録媒体
では一般に上記内周端縁は存在しない。

本発明の保護膜の種類１組成およびその形成方法につい
ては特に限定はなく、公知の全てのものを使用すること
ができる。光磁気記録媒体の場合には特に、本出願人に
よる特開昭６０−１７７４４９号に記載の無アルカリガ
ラスの保護膜が特に好ましい。この保護膜の組成等につ
いては上記公開公報を参照されたい。

また、エンハンス膜や断熱層、熱吸収層等の公知の追加
の層を本発明と組合せることもできる。

以下、図面を用いて本発明を説明する。

第１図は本発明による光記録媒体の概念的断面図を示し
、基板１上には記録膜４および保護膜５が形成されてい
る。本発明の特徴は上記記録膜の周辺端縁６が基板１の
輪郭７より内側にあり、保護膜５の周辺端縁８が記録膜
４の周辺端縁６より外側にある点にある。元ディスクの
ように中心孔を有する場合には上記の平面的寸法関係が
ディスクの外周部と中心孔の所の両方で満たされている
。

保護層５の周辺端縁８と記録層４の周辺端縁６との間の
距離Ｄ（第１図参照）は少なくとも１　ｍｓ好ましくは
３ＩＩＩ１ｍ以上あるのが望ましい。

上記構造は記録膜４の形成時に上記距離りに対応する区
域をマスクしておくことによって容易に作ることができ
る。第３図は本発明を光ディスクに適用した場合のマス
ク装置の一実施例を示し、基板１はスフ４ツタリング装
置（図示せず）の基板ホルダー２０に２つのマスク兼基
板保持具２１゜２２によって支持されている。図示した
例では、外周保持具２１が枢着ビン２４の所に着脱自在
且つ回動自在に支持されたリングによって構成され、こ
のリングは枢着ビン２４の反対側で板バネ２３等の任意
な固定具によって作業位置に保持される。

中心保持具２２は２本の弾性ロッド２５によって基板１
の中心孔をマスクした状態で着脱自在に支持されている
。

作業時には内側保護層２やエンハンス層３を予め形成し
た、または形成しない基板１を上記ホルダー２０に上記
マスク兼基板保持具２１．２２によって取けける。次い
で、常法に従って記録層４をス・やツタ法によって基板
１上に形成する。この際、上記保持具で被われた部分に
は記録層は形成されない。

その後、常法に従って、ス／ｅツタ法、蒸着法あるいは
塗布法によって上記記録層４の形成されている基板１の
全面に保護層５を形成する。この際には遮蔽部を作らな
いために第４図に示すような基板ホルダーを用いること
ができる。この基板ホルダーは前記枢着ビン２４に上記
のホルダー２１に代えて取付けられる保持リング３１．
３２によって構成できる。この保持リング３１．３２は
その周辺部に形成された溝中に収容された板バネ等の弾
・註保持手段３３，３４によって基板を放射方向から支
持する。この保持リング３１．３２を用いて作られる保
護層２，５は基板１の全表面を均一に被覆する。

以上の２種類のホルダー２ｔ、２２：３１゜３２を用い
て作った記録媒体は記録層４の周辺端縁６が保護層５で
完全に被われた第１図の構造となる。

以下、実施例を説明する。

（実施例１） 射出成形によって成形した直径１３０■、厚さ１、２　
ｍのポリカーボネート製基板１をスフ９ツタリング装置
（日本真空製）にセットした。この装置は３つまでター
ゲットをセットすることができ、また、ターゲットの真
上には各々マスク板が設けられており、基板にス・ｅ、
夕する面積をコントロールすることが可能である。

保護膜２，５用としてコーニング７０５９のガラスヲ、
またエンハンス膜３用としてＺｎＳを、ＴＭ−ＲＥ膜４
用としてＴｂＦｅＣｏの複合ターゲットを各々用いた。

基板１は各々のタービットの真上に静止させたままで、
保護膜２．エンハンス膜３　、　ＴＭ−ＲＥ膜４．保護
膜５の順に装膜した。

この場合、上記エンハンス膜３とＲＥ−ＴＭ膜４の形成
時には第３図に示すマスク兼基板保持具２１゜２２を使
用し、上記保護膜２．５の形成時にはマスクをしない第
４図に示すホルダー３１．３２を用いた。なお、マスク
をした距離りは３瓢であったＯ 得られた記録媒体の膜厚方向の分析をオーノエ電子分光
（ＡＥＳ　）により測定した結果、膜構造は第４図に示
すようなものであった。この記録媒体を６０℃、９０％
ＲＨの恒温恒湿槽内に保持したところ、１０００時間経
過してもＴＭ−ＲＥ膜の端からの酸化は全く生じなかっ
た。

（比較例１） 実施例１と同様に４層の膜をポリカーボネート製基板上
に成膜した。ただし、基板全面に各々の膜が成膜できる
ように、マスク板は使用しなかった。ＡＥＳにより測定
した結果、膜構造は第２図−（、）のようなものであっ
た。

この記録媒体を６０℃、９０　Ｓ　ＲＨの恒温恒湿槽内
に保持したところ、１００時間経過した時点で、既に・
記録膜の端から酸化が始まっていた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による光記録媒体の概念的断面図。 第２図は従来法による光記録媒体の概念的断面図。 第３，４図は本発明の光記録媒体を製造する際に使用す
る２種類のホルダーの概念的断面図。 第５図は本発明の実施例で作られた光記録媒体の概念的
断面図。 （図中符号） １：基板、４：記録膜、５：保護膜、６，８：周辺端縁
、７：周辺輪郭。 出　願　人　　　ダイセル化学工業株式会社代　　理　
　人　　　越　　　場　　　　　　隆第２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）基板と、この基板上に形成されたレーザービームの
   照射によって情報が記録される記録層と、この記録層の
   上に形成された保護層とを含む光記録媒体において、上
   記記録層の周辺端縁が基板の周辺輪郭より内側に後退し
   ており、上記保護層の周辺端縁が上記記録層の周辺端縁
   より外側にあることを特徴とする光記録媒体。 ２）上記基板が円板であることを特徴とする特許請求の
   範囲第１項記載の光記録媒体。 ３）上記記録層が光磁気記録材料の薄膜であることを特
   徴とする特許請求の範囲第１、２項いずれか一項に記載
   の光記録媒体。