JPS63257942A - 光磁気記録用媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、盤状の基板に光磁気記録層を形成する光磁気
記録用媒体の製造方法に関するものである。

（従来の技術） 従来、このような分野の技術としては、特開昭５２−３
１７０３号公報、特開昭５２−１０９１９３号公報、及
び特開昭６１−２４３９６６号公報に記載されるものが
あった。以下、その講成を説明する。

従来、特開昭５２−３１７０３号公報、及び特開昭５２
−１０９１９３号公報に記載されているように、光磁気
記録用媒体は希土類−遷移金属系合金の非晶質膜（以下
、ＲＥ−ＴＨ膜という）からなる光磁気記録層を、光透
過性の基板上に形成した構造をしている。

ここで、ＲＥ−Ｔ）！膜は、具体的にはＲＥとしてガド
リニウムＧｄ、テリビウム丁す、ジスプロシウムＤＶ等
、ＴＨとして鉄ＦｅまたはコバルトＣｏを主成分として
いる。このＲＥ　−Ｔ）ｉ膜は膜面に対して垂直な磁化
をもつ、いわゆる垂直磁化膜である。

このようなＲＥ−ＴＨ膜を用いた光磁気記録用媒体の記
録方式では、光を基板を通して光磁気記録層に照射し、
その光照射による加熱作用によって磁性体により構成さ
れた光磁気記録層をキューり温度以上に加熱し、その加
熱された部分の磁極の向きをその近傍に発生させた磁界
によって、反転させることによりデータの書込みを行い
、また光磁気記録層の磁極の向きの差による入射光の倫
光面の回転角の差を利用してデータを読出すようにして
いる。

この種のＲＥ−１Ｍ膜を用いた光磁気記録用媒体では、
１μｍφ程度に絞られたレーザ光及び外部磁界を用いた
熱磁気書込み方式によって１ｏ８ｂｉｔ　／ｃｉという
きわめて高密度な記録が可能で、しかも原理的には無限
回に近い消去および再書込みができるという非常に優れ
た特長を有する。

ところで、従来の光磁気記録用媒体の製造方法では、ス
パッタ法等によって盤状の基板上にＲＥ−ＴＨ膜を被着
し、そのＲＥ−丁Ｈ膜により光磁気記録層を形成してい
た。ここで、光磁気記録層はその膜厚が基板の内周から
外周まで均一に形成されていると、回転数一定の光磁気
記録用媒体の光磁気記録層に光照射によりデータを記録
する場合、内周より外周の周速度が大きいので、内周よ
りも外周の記録光のパワーを大きくするか、あるいは記
録光の照射時間を長くするための複数な制御が必要とな
る。

そこで、上記特開昭６１−２４３９６６＠公報の技術で
は、光磁気記録層の膜厚を実質的に内周から外周へと減
少させる手段を施し、その光磁気記録層の記録感度を内
周よりも外周の方を高く設定することにより、記録光に
対する複雑な制御の問題を解決している。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、上記の光磁気記録用媒体の製造方法では
、膜厚が実質的に内周から外周まで連続的に、かつほぼ
一定の勾配で変化するように光磁気記録層を基板上に形
成することが非常に困難であるという問題点があった。

本発明は前記従来技術が持っていた問題点として、光磁
気記録層の膜厚をほぼ一定の勾配で変化させることの困
難な点について解決した光磁気記録用媒体の製造方法を
提供するものでおる。

（問題点を解決するための手段） 本発明は前記問題点を解決するために、盤状の光透過性
基板上に、ＲＥ−１Ｍ膜からなる光磁気記録層を形成す
る光磁気記録用媒体の製造方法において、ＲＥ　−Ｔ）
Ｉ系の合金ターゲットのほぼ中心から水平距離Ｘ及び垂
直距離ｙだけ離れた位置に盤状の光透過性基板を回転自
在に配置すると共に、前記合金ターゲットに対して逆方
向に開口部を有するマスクで前記基板の一部を覆い、前
記基板を回転させつつ、前記合金ターゲットをスパッタ
してその合金ターゲット材を前記開口部を通して前記基
板へ被着するようにしたものである。

（作　用） 本発明によれば、以上のように光磁気記録用媒体の製造
方法を構成したので、合金ターゲットを使用したスパッ
タ膜がその合金ターゲットからの距離により膜厚が変化
することを利用し、基板と合金ターゲットの水平距離Ｘ
及び垂直距離ｙを適宜設定し、その基板の一部をマスク
で覆うとにより、基板の半径方向にほぼ一定の膜厚勾配
をもたせた光磁気記録層が簡易、的確に得られる。従っ
て前記問題点を除去できるのである。

（実施例） 第１図は本発明の実施例に係る光磁気記録用媒体の製造
方法を示す図でおる。

この製造方法はマグネトロンスパッタ装置を用いており
、図示しないが真空状態にしたスパッタ変向には陰極と
なる盤状のＲＥ−Ｔ）ｌ系合金ターゲット１が配置され
、その合金ターゲット１のほぼ中心から水平距離Ｘ及び
垂直距離ｙだけ離れた位置に陽極となる回転可能な基板
ホルダ２が設けられている。基板ホルダ２には、透明度
が高くかつ光学特性の良いガラス板、エポキシ樹脂板、
ポリカーボネート板、Ｐ）ｌ）ＩＡ板等からなる直径が
例えば１３ｃｍ程度の盤状の基板３が装着され、ざらに
その基板ホルダ２の下方位置には基板３の一部を覆うた
めのマスク４が配設されている。また、図示しないが、
合金ターゲット１の裏面には、その裏面に接するように
円環状のマグネットが配置されており、合金ターゲット
１の表面から出てその合金ターゲット１に入る磁力線が
該合金ターゲット１の表面を取り巻くようになっている
。

第２図（１）　、　（２）は第１図におけるマスク４の
形状を示す図である。第２図（１）のマスク４−１は長
方形状をしており、その合金ターゲット１と逆方向に設
けられた開口部４−１ａにより、基板３の半分が露出す
る。第２図（２）のマスク４−２も長方形状をしており
、その合金ターゲット１と逆方向に設けられた逆三角形
状の開口部４−２ａにより、基板３の約１７４程度が露
出する。

第３図（１）　、　（２）は製造対象となる光磁気記録
用媒体の構造断面図である。第３図（１）の光磁気記録
用媒体では、基板３の上に、ＲＥ−ＴＨ膜からなる光磁
気記録層１０が形成され、ざらにその上にポリマー材料
等からなる保護膜１１が形成されている。

保護膜１１は、光磁気記録層１０を腐食や機械的ダメー
ジ等から保護するためのものである。また第３図（２）
の光磁気記録用媒体では、第３図（１）における基板３
と光磁気記録層１０との間に、カー効果エンハンスメン
トの機能を持つエンハンス膜１２が設けられている。

次に、本実施例の製造方法を説明する。

第３図（１）のような光磁気記録用媒体を製造する場合
、盤状の基板３を第１図の基板ホルダ２に装着し、その
基板ホルダ２等を収納しているスパッタ室内にガス圧が
例えば３　ｍＴＯｒｒ程度のアルゴンＡｒガスを入れ、
基板ホルダ２を回転させると共に、その基板ホルダ２と
合金ターゲット１との間に例えば５００Ｗ程度の高周波
電力を供給する。

すると、合金ターゲット１と基板ホルダ３との間に放電
が起こり、その放電による電界と、合金ターゲット１の
表面を取り巻いている磁力線によ　−る磁界とが直交す
る部分では、放電によって電離したアルゴンイオンがマ
グネトロン運動を行い、高密度のプラズマを発生する。

このプラズマにより合金ターゲット１の表面がスパッタ
され、その合金ターゲット１の微粒子が基板３の表面に
被着され、その基板３上にＲＥ−ＴＨ膜からなる光磁気
記録層１０が形成される。その後、スパッタ法等によっ
て光磁気記録層１０の上に保護膜１１を被着する。

ここで、合金ターゲット１を使用したスパッタ膜、すな
わち光磁気記録層１０はその合金ターゲット１からの距
離の変化に応じて膜厚が変わる。

例えば、第１図のマスク４を省略し、垂直距離ｙ＝１６
．５ｃｍとしたときのＴｂＦｅＣｏからなる合金ターゲ
ット１からの水平距離Ｘに対する光磁気記録層１０の膜
厚の測定結果を示すと、第４図のような膜厚特性図とな
る。この第４図では、水平距離Ｘが大きくなるに伴って
膜厚が減少していくことがわかる。

また、水平距離ｘ＝１５ｃｍ、垂直距離Ｙ＝１６．５ｃ
ｍでマスク４を付けずにスパッタした場合の光磁気記録
層１０の膜厚特性は、第５図のようになる。第５図から
明らかなように、マスク４を付けない場合には光磁気記
録層１０の膜厚が基板３の内周から外周にかけてほぼ均
一となる。従って膜厚に一定の勾配を持たせるためには
マスク４を付ける必要がある。そこで本実施例では、マ
スク４によって基板３の一部を覆うようにしている。

第６図は、マスク４を付けて直径１３Ｃｍの基板３上に
光磁気記録層１０をスパッタ形成したときの膜厚の分布
図である。第１図において、水平距離ｘ＝１０ｃｍ、垂
直距離Ｙ＝１６．５ｃｍとし、第２図（１）のマスク４
−１を用いて例えば１５分程度スパッタした。発生した
プラズマにより、合金ターゲット１の表面がスパッタさ
れると、その合金ターゲット１の微粒子がマスク４−１
の開口部４−１ａを通して、回転する基板３の表面に被
着され、その基板３上に内周と外周とで厚みがほぼ均一
な６００〜１ｏｏｏ八程度の光磁気記録層１０が形成さ
れた。この時の光磁気記録層１０の膜厚は、第６図の曲
線ａで示すように、基板３の内周から外周方向へほぼ一
定の勾配で減少している。第６図の曲線すは、第２図（
２）のマスク４−２を用いて曲線ａと同一条件でスパッ
タしたときの膜厚曲線である。

第６図の膜厚曲線ａを示す光磁気記録層１０を有する第
３図（１）の光磁気記録用媒体を用い、それを例えば９
００ｒｐｍで回転させ、パワー７．０ｍ−のレーザ光を
基板３を通して光磁気記録層１０へ照射し、データの書
込みを行ってキャリア対ノイズ比（以下、Ｃ／Ｎという
）を測定したところ、基板３の内周から外周まで書込み
レーザパワーが一定のままで、４５ｄＢ以上の精度の高
い値を得ることができた。

また、１００万回以上の消去及び再書込みの反復に耐え
ることを確認した。その上、記録ピットは１μｍ径程ｌ
０高い微小記録が１ｑられた。

また、第６図の膜厚曲線すを示す光磁気記録層１０を有
する第３図（１）の光磁気記録用媒体では、内周から外
周方向への膜厚減少勾配が曲線ａよりも大きいが、曲線
ａのものとほぼ同様の効果が得られた。

このように水平距離Ｘ及び垂直距離ｙを適宜選定し、マ
スク４−１　、４−２の形状を変えることにより、膜厚
の勾配の微調節が可能となり、それによって光磁気記録
用媒体の回転数や、書込みレーザパワー等に合せた膜厚
分布を持つ光磁気記録用媒体の製造が可能となる。

第３図（２）の光磁気記録用媒体では、基板３上に予め
スパッタ等でエンハンス膜１２を形成してあき、そのエ
ンハンス膜１２上に第１図のスパッタ法で光磁気記録層
１０を被着し、さらにその上に保護層１１を形成するこ
とにより、”ＡＪＭできる。このようにして得られた光
磁気記録用媒体においても、前記第３図（１）のものと
ほぼ同様の作用、効果が１４られる。

なあ、本発明は図示の実施例に限定されず、マグネ１〜
ロンスパツタ法以外のスパッタ法で光磁気記録層１０を
形成したり、マスク４の形状を第２図（１）　、　（２
）以外の形状にしたり、あるいは光磁気記録用媒体の断
面構造を第３図（１）　、　（２）以外の構造に変形す
る等、種々の変形が可能である。

（発明の効果） 以上詳細に説明したように、本発明によれば、マスクで
基板の一部を覆い、その基板を回転させつつＲＥ−ＴＩ
（系合金ターゲットをスパッタしてその基板上へ光磁気
記録層を形成するようにしたので、水平圧ｌｘと垂直距
離ｙの大きざ、ざらにはマスクの形状を変えることによ
り、基板の半径方向に対して種々の膜厚勾配を持った光
磁気記録用媒体を簡易、的確に製造することができる。

従ってこのようにして得られた光磁気記録用媒体では、
記録光のパワーやその照射時間を基板の内周と外周で変
化させる必要はなく、内外周共に良好な記録を行うこと
が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例に係る光磁気記録用媒体の製造
方法を示す図、第２図（１）　、　（２）は第１図のマ
スクを示す図、第３図（１）　、　（２）は第１図の製
造対象となる光磁気記録用媒体の断面構造図、第４図は
水平距離に対する膜厚特性図、第５図は光磁気記録層の
膜厚特性図、第６図は第３図における光磁気記録層の保
持力分布図でおる。 １・・・・・・合金ターゲット、２・・・・・・基板ホ
ルダ、３・・・・・・基板、４．４−１　、４−２・・
・・・・マスク、４−１ａ。 ４−２ａ・・・・・・開口部、１０・・・・・・光磁気
記録層、１１・・・・・・保護膜、１２・・・・・・エ
ンハンス膜、Ｘ・・・・・・水平距離、ｙ・・・・・・
垂直距離。 出願人代理人　　柿　　本　　恭　　成第１図 第１図のマスク 膜厚特性 第５図 膜厚（ｎｍ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 　希土類−遷移金属合金の非晶質系からなる合金ターゲ
   ットのほぼ中心から水平距離ｘ及び垂直距離ｙだけ離れ
   た位置に盤状の光透過性基板を回転自在に配置すると共
   に、 前記合金ターゲットに対して逆方向に開口部を有するマ
   スクで前記基板の一部を覆い、 前記基板を回転させつつ、 前記合金ターゲットをスパッタしてその合金ターゲット
   材を前記開口部を通して前記基板へ被着することを特徴
   とする光磁気記録用媒体の製造方法。