JPS62162260A - 光磁気記録素子およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、熱エネルギーで情報を記録あるいは消去し、
光と磁気との相互作用を利用して情報を再生する光磁気
記録素子に関する。

［発明の技術的背景とその問題点〕 近年、高密度、大容量、亮速アクセスが可能な光メモリ
装置の研究開発が各方面で精力的に行われている。なか
でも情報の記録、再生、消去が可能な光磁気メモリ装置
（光磁気記録素子）は文字。

画像等のファイルメモリやコンピューター用のメモリ等
の用途が考えられるため、産業界から注目を浴びている
。

この光磁気記録素子の基本構成は、ディスク基板上に案
内溝を形成し、その後この案内溝を被覆する様にＴｂＣ
ｏ、　ＧｄＣｏ、　ＴｂＦｅ、　ＧｄＴｂＦａ、　Ｔｂ
ＤｙＦｅ等の希土類と遷移金属との非晶質合金膜等から
なる記録材料等を被着することによりなる。この例示し
た記録材料は、膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有し、
非晶質であるため粒界ノイズがなく、記録に必要とされ
るレーザ・パワーを低減できる効果がある。しかし、こ
の記録材料は磁気光学効果であるカー回転角が０．２乃
至０．４度と小さいために、再生信号の品質を向上させ
るために、記録材料上あるいはディスク基板と記録材料
との間にＳｉＯ。

ＳｉＯ□、　ＳｉＮ、　Ａ９．Ｎ等の透明誘電膜を形成
することにより、カー回転角を大きくする工夫がなされ
ている。

また、この案内溝（Ｇｒｏｏｖｅ）は記録密度を大きく
シトラッキング・フォー力ミングサーボを確実に行なう
ために必要不可欠である。この案内溝を形成する点から
鑑みると、ディスク基板には有機材料のアクリルポリカ
ーボネイトエポキシ等を用いると、注形あるいは射−出
成形が容易に行なえる長所がある。この案内溝を形成す
る方法は、案内溝があらかじめ形成されている金属製の
スタンパを使用して、注形あるいは射出成形を行なう際
に、ディスク基板に案内溝を形成する。

このディスク基板を用いた光磁気記録素子は有機ディス
ク基板上に、記録材料と誘電体膜、あるいは誘電体膜と
記録材料とその保護のための金属膜または誘電体膜を真
空中でスパッタリング等を行って形成する。この光磁気
記録素子を真空中より大気中に取り出すと、吸湿による
膨張が生じ、ディスク基板のそりによる変形が大きい。

したがって、実用面から見てもこの光磁気記録素子を用
いた記録再生装置の動作特性上問題が生じる。

その上、長期の寿命信頼性の目安である高温高湿下例え
ば８０℃で湿度が９０％の雰囲気中に、この光磁気記録
素子を曝すと、有機ディスク基板の熱膨張係数が記録材
料等の熱膨張係数よりも大きいためと、吸湿膨張のため
、記録材料や誘電体膜等が剥離する問題がある。

また、光磁気記録素子のディスク基板は複屈折性が小さ
いものでないと使用できない。しかし、射出成形による
有機ディスク基板（例えばアクリル・ポリカーボネイト
）は、射出材料の流れ、冷却の不均一性により中心から
外周方向へ複屈折性が大きく変化し、光磁気記録素子と
して用いるには不適当である。複屈折性が小さい基板と
して、注形によるエポキシのディスク基板があるが、こ
の基板は量産性に乏しく、大量生産できない欠点がある
。

上述の欠点を有さないディスク基板として、ガラス基板
が注目されている。このガラス基板は、熱膨張係数が小
さく吸湿性の問題もない。その上、研磨後に充分にアニ
ールを行なうことにより、光学特性上重要である複屈折
の問題も完全に回避できる。

しかしながら、ガラス基板に対しては、案内溝を形成す
ることは極めて困難である。ガラス基板上に案内溝を形
成するために、従来は、ガラス基板上にレジストを塗布
して案内溝付のマスクで露光しエツチングする方法を用
いるか、または精密な送り機構とレーザ装置とを有する
露光装置によりレジストによる案内溝を形成した後にＲ
ＩＥ　（リアクティブ・イオン・エツチング）によりガ
ラスを直接エツチングする方法を用いる。この従来の方
法により形成された案内溝は、エツチングを用いるため
案内溝の底面に微少な凹凸および溝形状そのものも凹凸
が形成される。この凹凸により、ノイズが発生する第１
の問題点がある。その上、エツチングを用いると、ガラ
ス鵡板自身が全体として凹状または凸状となり案内溝の
深さがばらつく等全体の均一性が得られなくなる第２の
問題点がある。さらに、エツチングを用いる場合、その
量産性が乏しい上に高価格となる第３の問題点がある。

〔発明の目的〕

本発明は上述の問題点に鑑みてなされたものであり、極
めて良質な案内溝を有するガラス基板からなる光磁気記
録素子およびその製造方法を提供することを目的とする
。

〔発明の概要〕

上述の目的を達成するため、本発明の光磁気記録素子お
よびその製造方法は、ガラス基体の少なくとも一主面上
に耐熱性有機材料からなる案内溝を形成し、少なくとも
この案内溝を覆う様にこのガラス基体の一主面上に記録
層を形成することを特徴とする。これにより、極めて良
質な案内溝を有する光磁気記録素子が得られる。

〔発明の実施例〕

以下１本発明の一実施例について第１図を参照して説明
する。

第１図において、外周φ１３０ｍｍ、内周φ１５ｍｍｔ
厚さ１．２ｍｍの強化ガラスからなるガラス基板■を用
意する。このガラス基板■の材質が、ソーダ石灰ガラス
で、イオン交換法を泪いて表面より略３０μｓの強化層
を持つものを用いると、この強化層が充分深いため安全
性が非常に高くなる。

次いで、このガラス基板■を洗浄し、その上に案内溝形
成層として感光性ポリイミドを光学長でλ／８の厚さく
略７００人）だけ、スピンコータを用いて塗布する。こ
の後、６０℃に温度を２０分間保ちプリベークを行なっ
た後、２−ピッチのら線マスク（線幅は１−）をプロジ
ェクションマスクアライナ−（商品名ＭＰＡ−５００Ｄ
ｅｅｐ　ＵＶ光源）を使用して、鱈光後、現像する。

その後、４００℃で３０分間熱処理を行なう。　この熱
処理を行なうことによって、この感光性ポリイミドから
なる案内溝は４００℃まで充分耐える。

次いで、多元スパッタリング装置により、ＴｂＣ。

からなる厚さ５００人の垂直磁化膜（記ｔｔｃ層）に）
、厚さ１０００人のＳｉＮからなる保護層（ハ）、厚さ
３００人のアルミニウム、厚さ２０００人のコバール合
金、厚さ５００人の金からなる反射層（これはレーザ光
を反射するため必要）（Ｑを順次連続形成し、光磁気記
録素子を得る。なお、この反射膜０のコバール合金の厚
さは、反射多層膜の熱膨張係数がガラス基板α）の熱膨
張係数の２倍以下の範囲になる様に澗整すると良い。

ここで感光性ポリイミド等の耐熱性有機材料を案内溝形
成層とした効果を列挙する。

（ｉ）　　耐熱性有機材料を用いてスパッタリング法に
より記録膜を付着させる際、この材料の耐熱性が良いた
め基板温度を上げることができる。

る。さらに、基板温度が高いため、数置で特性の良い膜
（層）を得ることができる。

（ｉｉ）　　耐熱性有機材料のうち、特に感光性ポリイ
ミドを選択すると、これは露光現像によって案内溝を形
成するため、案内溝の底面の平面度が良好となりディス
ク基板から生じるノイズを防止できる。

（市）感光性ポリイミドはガラスに比較して、保温性が
良好で、記８感度の良い光磁気記録素子を得ることがで
きる。

（ｉｖ　）　　光反射層の熱膨張係数がガラス基板と近
似しているため、熱変化に強く耐久性の優れた光磁気記
録素子が得られる。

次に第２図を参照して本発明の他の実施例を説明する。

第２図において、第２図に示した光磁気記録素子は第１
図に示した光磁気記録素子と基本的には同一である。異
なる点は、第２図に示した光磁気記録素子ではＳｉＮか
らなる案内溝■の上に再度、ＳｉＮ、　Ｓｉｎ、等から
なる透明誘電層■を１ｏｏｏ人多元スパッタリング装置
を用いて連続成膜する。これにより、記録膜のカー回転
角が大きくなる効果が生じる。

なお、上述の実施例においては、感光性ポリイミドを用
いて説明したが、本実施例はこれに限定されるものでは
ない。また、案内溝はら線または円心円状の形状をとる
と記録が箭易に行なえる上、ガラス基板は平担なガラス
円板から構成されれば、案内溝が円心円状に形成された
場合等に非常に便利である。

〔発明の効果〕

上述の如く、本発明の光磁気記録素子およびその製造方
法は、ディスク基板にガラス基体を用い、このガラス基
体の一主面上に耐熱性有機材料からなる案内溝を形成し
、この案内溝を覆う様にこのガラス基体の一主面上に記
録層を形成することを特徴とする。これにより、簡易に
極めて高品質。

高信頼性である案内溝を有する光磁気記録素子が得られ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光磁気記録素子の一実施例を示す模式
断面図、第２図は本発明の光磁気記録素子の他の実施例
を示す模式断面図である。 ■・・・ガラス基板　　　　■・・・案内溝■・・・透
明誘電層　　　　に）・・・記録層■・・・保護層　　
　　　　０反射層（多層膜）代理人　弁理士　　則　近
　憲　佑 同　　大胡典夫 第　　１　図 第２図

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）ガラス基体と、 このガラス基体の少なくとも一主面上に配置された耐熱
   性有機材料からなる案内溝と、 少なくともこの案内溝を覆う様に前記ガラス基体の一主
   面上に配置された記録層とを少なくとも具備することを
   特徴とする光磁気記録素子。
2. （２）前記耐熱性有機材料は、感光性ポリイミドである
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光磁気記
   録素子。
3. （３）前記記録層上には少なくとも一層の誘電体層及び
   少なくとも一層の光反射層が形成され、かつこの光反射
   層の熱膨張係数が前記ガラス基体の熱膨張係数の２倍以
   下の範囲にあることを特徴とする特許請求の範囲第１項
   記載の光磁気記録素子。
4. （４）前記案内溝は、ら線または同心円状のいずれかの
   形状であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
   の光磁気記録素子。
5. （５）前記ガラス基体は、平担なガラス円板からなるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光磁気記録
   素子。
6. （６）ガラス基体の一主面上に感光性ポリイミドを被着
   する工程と、 この感光性ポリイミドから案内溝を形成する工程と、 少なくともこの案内溝を覆う様に前記ガラス基体の一主
   面上に記録層を形成する工程とを少なくとも具備したこ
   とを特徴とする光磁気記録素子の製造方法。