JPS63139844A - 真空室内における物体の搬送方法 - Google Patents
真空室内における物体の搬送方法Info
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- JPS63139844A JPS63139844A JP61281915A JP28191586A JPS63139844A JP S63139844 A JPS63139844 A JP S63139844A JP 61281915 A JP61281915 A JP 61281915A JP 28191586 A JP28191586 A JP 28191586A JP S63139844 A JPS63139844 A JP S63139844A
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- Japan
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- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 6
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Landscapes
- Non-Mechanical Conveyors (AREA)
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Feeding Of Articles By Means Other Than Belts Or Rollers (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発シ：は、７４２１内における￥ｌＩ体の搬送方法、
特に真壁プロセス装シーにおける半導体ウェハ（以下、
単にウェハという）の搬送方法に関する。
特に真壁プロセス装シーにおける半導体ウェハ（以下、
単にウェハという）の搬送方法に関する。
（従来の技術）
公知のウェハ真空プロセス装置においては、ウェハの搬
送（例えば、ステージからステージへの）はベルトによ
ル行なわれ、そして、ウニノーの、ステージからベルト
上への受渡し又はベルトからステージへの受渡しは、ス
テージ又はベルトの昇降により行なわれている。
送（例えば、ステージからステージへの）はベルトによ
ル行なわれ、そして、ウニノーの、ステージからベルト
上への受渡し又はベルトからステージへの受渡しは、ス
テージ又はベルトの昇降により行なわれている。
（発明が解決しようとする問題点）
前記従来公知のものにおいては、ステージ又はベルトの
昇降装珈′を必要とし、装置の檎造が＆雑になるという
欠点がある。不発ツ４の目的は、かかる欠点のないウェ
ハなどの搬送方法を提供することにある。−１７’Ｃ，
本発明は、ウェハなどの搬送過程におけるダストの発生
が著しく減少するウニノ・などの搬送方法を提供するこ
とを目的とする。
昇降装珈′を必要とし、装置の檎造が＆雑になるという
欠点がある。不発ツ４の目的は、かかる欠点のないウェ
ハなどの搬送方法を提供することにある。−１７’Ｃ，
本発明は、ウェハなどの搬送過程におけるダストの発生
が著しく減少するウニノ・などの搬送方法を提供するこ
とを目的とする。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、真空室外に設けた電磁石の磁気制御によりｆ
！ｉｌＩ御されてＡを室内を浮上厘紅・運動する磁気浮
上体に、その直線運動方向にのびる搬送用アームを設け
、磁気浮上体の浮上高で及びその直線運動を制御する電
磁石の制御により前記搬送用アームを上下方向及びｉｓ
“運動方向に動かして、ウェハ等ヲ例λばステージから
ステージへと真空室内において搬送する、ウェハなどの
搬送方法にを。
！ｉｌＩ御されてＡを室内を浮上厘紅・運動する磁気浮
上体に、その直線運動方向にのびる搬送用アームを設け
、磁気浮上体の浮上高で及びその直線運動を制御する電
磁石の制御により前記搬送用アームを上下方向及びｉｓ
“運動方向に動かして、ウェハ等ヲ例λばステージから
ステージへと真空室内において搬送する、ウェハなどの
搬送方法にを。
る。
（実施例）
以下、本発明に係る搬送方法の一実施例を添付図面につ
いて説明する。
いて説明する。
＃１図は、本発明の搬送方法の一実施例を示す説明図で
ある０図中、ｌはマニュピレータ、コは該マニュピレー
タｌ内のＸ仝案と連通ずる＠腺通路３内を浮上走行する
磁気浮上Ｖ゛である。磁気浮上体コは、真空室外に設け
られそしてＩＪ ニア／′２ルスモータにより駆動され
る案内子ダ、ダにより、＠劇通路３内を浮上走行する６
Ｓは真空室内に設けたウェハカセット、６は真空案内に
設けたウェハステージ、りはウニバカ士ットＳ内におい
て！積状に支持されているウェハ、ｇｔｉＥｅ気浮上体
コに一端を固着され磁ゲ浮上体−の直ｗｉ連動方向にの
びる搬送用アームでおる。直径７６〜−００ｍ位のウェ
ハを真壁室内のウニノ・カセット（又はステージ）から
ステージ上に搬送する議会、搬送用アームＳとしてはＪ
り−＠ ０． Ｓ 〜／ Ｏｍ、長官３００〜／ｇ００
ｍの金ｒ１又は合成樹脂製長尺材が用いられる。
ある０図中、ｌはマニュピレータ、コは該マニュピレー
タｌ内のＸ仝案と連通ずる＠腺通路３内を浮上走行する
磁気浮上Ｖ゛である。磁気浮上体コは、真空室外に設け
られそしてＩＪ ニア／′２ルスモータにより駆動され
る案内子ダ、ダにより、＠劇通路３内を浮上走行する６
Ｓは真空室内に設けたウェハカセット、６は真空案内に
設けたウェハステージ、りはウニバカ士ットＳ内におい
て！積状に支持されているウェハ、ｇｔｉＥｅ気浮上体
コに一端を固着され磁ゲ浮上体−の直ｗｉ連動方向にの
びる搬送用アームでおる。直径７６〜−００ｍ位のウェ
ハを真壁室内のウニノ・カセット（又はステージ）から
ステージ上に搬送する議会、搬送用アームＳとしてはＪ
り−＠ ０． Ｓ 〜／ Ｏｍ、長官３００〜／ｇ００
ｍの金ｒ１又は合成樹脂製長尺材が用いられる。
１２図は、か１図に示す実施例におけるウニノ・の搬送
過程を示す説明図である。第一図（イ）は磁気浮上体コ
及び搬送用アームＳから成る搬送具デがマニュピレータ
ｌの厘紛通路内において浮上静止している状態を示す、
同図〔口〕は、真罠窓外に設けられリニアモータにより
ム動される案内子ダ、ダにより、磁気浮上体−が前進さ
れ、搬送用アームｇの先端部がクエハカセットＳ内の被
搬送ウェハ７の下仰１に挿入された状態を示す、同図（
ハ）は、真空室外に設けた浮上制御回路（図示されてい
ない）の制御により磁気浮上体を上昇し、搬送アーム上
にウェハをのせた状態を示す、搬送用アーム上にウェハ
がのる１での時間、すなわち、搬送用アームの上昇時間
は数秒と長くシ、搬送用アームとウェハの接触による塵
埃の発生を防止する。同図（ニ）は、搬送用アームＳを
前進させ、搬送用アームに支持されたウェハをウェハス
テージ６上に位置させた状態を示す。同図（ホ）は、浮
上ｌＩ制御回路の制御により搬送用アームＳを下降させ
、搬送用アーム上のウェハをウェハステージ上にのせた
状態を示す。搬送用アームＳの下降も、ゆつくシと行な
い塵埃の発生を防止するようにする。ついで、搬送用ア
ームは同図（イ）の状態に＠帰される。
過程を示す説明図である。第一図（イ）は磁気浮上体コ
及び搬送用アームＳから成る搬送具デがマニュピレータ
ｌの厘紛通路内において浮上静止している状態を示す、
同図〔口〕は、真罠窓外に設けられリニアモータにより
ム動される案内子ダ、ダにより、磁気浮上体−が前進さ
れ、搬送用アームｇの先端部がクエハカセットＳ内の被
搬送ウェハ７の下仰１に挿入された状態を示す、同図（
ハ）は、真空室外に設けた浮上制御回路（図示されてい
ない）の制御により磁気浮上体を上昇し、搬送アーム上
にウェハをのせた状態を示す、搬送用アーム上にウェハ
がのる１での時間、すなわち、搬送用アームの上昇時間
は数秒と長くシ、搬送用アームとウェハの接触による塵
埃の発生を防止する。同図（ニ）は、搬送用アームＳを
前進させ、搬送用アームに支持されたウェハをウェハス
テージ６上に位置させた状態を示す。同図（ホ）は、浮
上ｌＩ制御回路の制御により搬送用アームＳを下降させ
、搬送用アーム上のウェハをウェハステージ上にのせた
状態を示す。搬送用アームＳの下降も、ゆつくシと行な
い塵埃の発生を防止するようにする。ついで、搬送用ア
ームは同図（イ）の状態に＠帰される。
ウェハをウェハステージ上からウェハカセットに搬送す
る議会には、搬送用アームＳを前記の逆に作動させれば
よい。
る議会には、搬送用アームＳを前記の逆に作動させれば
よい。
π１記夾施例では、ウェハカセットとウェハステージ間
におけるウェハの搬送方法を示したが、この方法は、ウ
ェハカセットとウェハカセット間、ウェハステージとウ
ェハステージ間におけるウェハの搬送にも、もちろん同
様に使用可能である。
におけるウェハの搬送方法を示したが、この方法は、ウ
ェハカセットとウェハカセット間、ウェハステージとウ
ェハステージ間におけるウェハの搬送にも、もちろん同
様に使用可能である。
また、この方法は、３個以上のウェハステージ間、ウェ
ハカセット間、又はウェハステージとウェハカセット間
のウェハの搬送にも使用可能である。
ハカセット間、又はウェハステージとウェハカセット間
のウェハの搬送にも使用可能である。
（発明の効果）
本発明の方法によれば、ウェハ搬送のために動かされる
磁気浮上体及び搬送用アームが、真空案内を無接触で動
くため、ウェハ搬送に伴う塵埃の発生を著しく減少させ
ることができる。
磁気浮上体及び搬送用アームが、真空案内を無接触で動
くため、ウェハ搬送に伴う塵埃の発生を著しく減少させ
ることができる。
本発明の方法によれば、ウェハステージの昇降機構が不
要処なるので、装置の構造を簡単にすることができる。
要処なるので、装置の構造を簡単にすることができる。
また、搬送用アームの上下移ｔＱ１は磁気浮上装置によ
り行なわれるので、そのための追加の装ｇｉ、を必敬と
しない。
り行なわれるので、そのための追加の装ｇｉ、を必敬と
しない。
＃１図は本発明に係る半導体ウェハ等の搬送方法の一実
施例の説明図、銅−図は計１７図に示す実施例における
ウェハの搬送過程を示す説明図である。 ｌ：マニピュレータ ２：Ｔ＆磁気浮上 体：直線通路 ダニ案内子 ５：ウニへカセット ６：ウェハステージ ク：ウエハ ｇ：搬送用アーム
施例の説明図、銅−図は計１７図に示す実施例における
ウェハの搬送過程を示す説明図である。 ｌ：マニピュレータ ２：Ｔ＆磁気浮上 体：直線通路 ダニ案内子 ５：ウニへカセット ６：ウェハステージ ク：ウエハ ｇ：搬送用アーム
Claims (1)
- 真空室外に設けた電磁石の磁気制御により制御されて真
空室内を垂直方向および水平方向に動かされる磁気浮上
体に搬送用アームを取付け、該搬送用アームにより物体
を搬送することを特徴とする真空室内における物体の搬
送方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61281915A JPH0649529B2 (ja) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | 真空室内における物体の搬送方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61281915A JPH0649529B2 (ja) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | 真空室内における物体の搬送方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63139844A true JPS63139844A (ja) | 1988-06-11 |
| JPH0649529B2 JPH0649529B2 (ja) | 1994-06-29 |
Family
ID=17645726
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61281915A Expired - Fee Related JPH0649529B2 (ja) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | 真空室内における物体の搬送方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0649529B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63274308A (ja) * | 1987-04-28 | 1988-11-11 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気浮上搬送装置 |
| US5397212A (en) * | 1992-02-21 | 1995-03-14 | Ebara Corporation | Robot with dust-free and maintenance-free actuators |
| US6285102B1 (en) * | 1999-04-02 | 2001-09-04 | Tokyo Electron Limited | Drive mechanism having a gas bearing operable under a negative pressure environment |
| EP2187433A1 (en) * | 2008-11-12 | 2010-05-19 | Intevac, Inc. | Apparatus and method for transporting and processing substrates |
| US8293066B2 (en) | 2006-09-19 | 2012-10-23 | Brooks Automation, Inc. | Apparatus and methods for transporting and processing substrates |
| US8303764B2 (en) | 2006-09-19 | 2012-11-06 | Brooks Automation, Inc. | Apparatus and methods for transporting and processing substrates |
| US8419341B2 (en) | 2006-09-19 | 2013-04-16 | Brooks Automation, Inc. | Linear vacuum robot with Z motion and articulated arm |
| US9524896B2 (en) | 2006-09-19 | 2016-12-20 | Brooks Automation Inc. | Apparatus and methods for transporting and processing substrates |
| US11056722B2 (en) * | 2018-02-08 | 2021-07-06 | International Business Machines Corporation | Tool and method of fabricating a self-aligned solid state thin film battery |
| US11158506B2 (en) | 2018-02-08 | 2021-10-26 | International Business Machines Corporation | Self-aligned, over etched hard mask fabrication method and structure |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6036222A (ja) * | 1983-08-05 | 1985-02-25 | Irie Koken Kk | 高真空中の物品搬送装置 |
| JPS60170401A (ja) * | 1984-02-14 | 1985-09-03 | Toshiba Corp | 浮上式搬送装置 |
| JPS61217442A (ja) * | 1985-03-20 | 1986-09-27 | Fujitsu Ltd | ウエ−ハ插入装置 |
-
1986
- 1986-11-28 JP JP61281915A patent/JPH0649529B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US9524896B2 (en) | 2006-09-19 | 2016-12-20 | Brooks Automation Inc. | Apparatus and methods for transporting and processing substrates |
| US9691649B2 (en) | 2006-09-19 | 2017-06-27 | Brooks Automation, Inc. | Linear vacuum robot with z motion and articulated arm |
| US10204810B2 (en) | 2006-09-19 | 2019-02-12 | Brooks Automation, Inc. | Linear vacuum robot with Z motion and articulated arm |
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| US11158506B2 (en) | 2018-02-08 | 2021-10-26 | International Business Machines Corporation | Self-aligned, over etched hard mask fabrication method and structure |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0649529B2 (ja) | 1994-06-29 |
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Legal Events
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