JPS6036222A - 高真空中の物品搬送装置 - Google Patents
高真空中の物品搬送装置Info
- Publication number
- JPS6036222A JPS6036222A JP14242283A JP14242283A JPS6036222A JP S6036222 A JPS6036222 A JP S6036222A JP 14242283 A JP14242283 A JP 14242283A JP 14242283 A JP14242283 A JP 14242283A JP S6036222 A JPS6036222 A JP S6036222A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transport
- article
- space
- conveying
- magnets
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67709—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations using magnetic elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67712—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高真空中におりる物品搬送装置に関ザるもの
である。
である。
近年、半導体素子等の表面処理加工や精製に高真空の雰
囲気が広く使われるようになった。また、核融合の実験
炉や加速器などエネルギー関連分野あるいは物理学分野
の研究設陥においては超高真空が広く使われている。
囲気が広く使われるようになった。また、核融合の実験
炉や加速器などエネルギー関連分野あるいは物理学分野
の研究設陥においては超高真空が広く使われている。
かかる高真空雰囲気下で作動り−る高真空機器、装置、
設備等（本明■１書においては高真空装置と総称する）
においては、外界から遮蔽または遮断された密閉空間内
を高度の真空に保持して密閉空間内の各種の機器、部品
、計器等を装置外ＩＪＩ Ｉら遠隔操作Ｊ−る必要のあ
る場合が少なくない。
設備等（本明■１書においては高真空装置と総称する）
においては、外界から遮蔽または遮断された密閉空間内
を高度の真空に保持して密閉空間内の各種の機器、部品
、計器等を装置外ＩＪＩ Ｉら遠隔操作Ｊ−る必要のあ
る場合が少なくない。
高真空中で所要の作動または作業を行なうは横を構成づ
るに当っては、Ｉ習動接触は勿論のこところがり接触す
る部分をもできるかぎりなくＪことが必要であり、この
理由は、ころがりまたは摺動接触部分が存在づると、厚
擦による摩耗にＪ：っＣ微細な粉塵が生じ、この微細粉
塵により真空雰囲気が汚染され、高真空装置が所期の機
能を果さないという問題が生じるからである。
るに当っては、Ｉ習動接触は勿論のこところがり接触す
る部分をもできるかぎりなくＪことが必要であり、この
理由は、ころがりまたは摺動接触部分が存在づると、厚
擦による摩耗にＪ：っＣ微細な粉塵が生じ、この微細粉
塵により真空雰囲気が汚染され、高真空装置が所期の機
能を果さないという問題が生じるからである。
かかる問題は、摺動接触しても摩耗による微細粉塵を発
生せず、十分な潤滑性を有して焼ｆ」現τでを生ずるこ
とがないような十分な耐摩耗性ど所要の潤滑性とを兼備
する材料を使用することによって解決ザることができる
が、現在の時点ではかかる（オ斜を得ることは困難また
は不可能である。
生せず、十分な潤滑性を有して焼ｆ」現τでを生ずるこ
とがないような十分な耐摩耗性ど所要の潤滑性とを兼備
する材料を使用することによって解決ザることができる
が、現在の時点ではかかる（オ斜を得ることは困難また
は不可能である。
本発明は、上述し／Ｃ点に鑑みなされたもので、磁気に
よる浮上作用と駆動作用とを高真空装置にお（プる作動
（浅４＾１、特に、移送または搬送機構に利用すること
によって回動または摩擦部分のない高真空装置用物品搬
送装置を提供することを目的としている。
よる浮上作用と駆動作用とを高真空装置にお（プる作動
（浅４＾１、特に、移送または搬送機構に利用すること
によって回動または摩擦部分のない高真空装置用物品搬
送装置を提供することを目的としている。
以下、本発明を図面につぎ３（明する。
図面は本発明を高真空雰囲気中で半導体を製造Ｊ−る高
真空半導体製造装置に実施した例を示し、図示の例では
、処理ラインに順次に設けられた成長至′１、分析苗２
および処理室３に沿って延長する搬送通路または空間４
をオーステナイトステンレス鋼のにうな非磁性材料の搬
送管５によって設（プ、この搬送管５を分岐管６．７
Ｊ５よび８によって各室１．２および３にそれぞれ接続
し、外部から電磁的その他の手段によって操作される電
磁チャック付ハンドル１０を分岐管６．７．８と同一線
上で搬送管５の反対側に延長して連結された操作室１２
〜１４の各端板１２′〜１４′ に、例えば、金属へロ
ーズ１５を介してそれぞれ密封連結し、ハンドル１０を
外部から電磁的、機械的または手動にＪ、り操作してハ
ンドル内端の電磁チ１７ツク（図示せず）により搬送空
間４内に搬送された半導体ウェフＩ−のような被処理物
品を搬送空間から各室１．２または３内に装入し、また
は、各室から搬′３Ａ空間に取出し得るよう構成してい
る。
真空半導体製造装置に実施した例を示し、図示の例では
、処理ラインに順次に設けられた成長至′１、分析苗２
および処理室３に沿って延長する搬送通路または空間４
をオーステナイトステンレス鋼のにうな非磁性材料の搬
送管５によって設（プ、この搬送管５を分岐管６．７
Ｊ５よび８によって各室１．２および３にそれぞれ接続
し、外部から電磁的その他の手段によって操作される電
磁チャック付ハンドル１０を分岐管６．７．８と同一線
上で搬送管５の反対側に延長して連結された操作室１２
〜１４の各端板１２′〜１４′ に、例えば、金属へロ
ーズ１５を介してそれぞれ密封連結し、ハンドル１０を
外部から電磁的、機械的または手動にＪ、り操作してハ
ンドル内端の電磁チ１７ツク（図示せず）により搬送空
間４内に搬送された半導体ウェフＩ−のような被処理物
品を搬送空間から各室１．２または３内に装入し、また
は、各室から搬′３Ａ空間に取出し得るよう構成してい
る。
搬送空間４内に被処理物品を搬送するための搬送装置と
して、第２図に示す例では、駆動用電磁石１Ｇを非磁性
材料製搬送管５の下面に搬送空間４の長さ方向に沿って
配設し、この駆動用電磁石１６の両側に平行して浮上用
永久磁石１７．１８をＩｆｆＪ ３Ａ空間４に治って配
設している。
して、第２図に示す例では、駆動用電磁石１Ｇを非磁性
材料製搬送管５の下面に搬送空間４の長さ方向に沿って
配設し、この駆動用電磁石１６の両側に平行して浮上用
永久磁石１７．１８をＩｆｆＪ ３Ａ空間４に治って配
設している。
搬送管５内には、搬送づべき物品１９を保持して搬送空
間４に沿って移動可能の非磁性材別製のそり状の搬送ケ
ース２０を設け、この搬送ケース２ｏの下面に上述した
駆動用電磁石１Ｇおよび浮上用永久磁石１７．１８とそ
れぞれ協動する強磁性材料の電成子２１および浮上用永
久磁石２２．２３を設ける。
間４に沿って移動可能の非磁性材別製のそり状の搬送ケ
ース２０を設け、この搬送ケース２ｏの下面に上述した
駆動用電磁石１Ｇおよび浮上用永久磁石１７．１８とそ
れぞれ協動する強磁性材料の電成子２１および浮上用永
久磁石２２．２３を設ける。
駆動用電磁石１６および電（氏子２１は、第４図に示す
ように、対向面側を凹凸歯型状とし、電磁石１６の上方
に向って突出するｖ１１極部にそれぞれ電磁コイル２４
を巻いて、既知のように、電磁コイルに供給づるパルス
を制御して電機子２１を取付りた搬送ケース２０を搬送
空間の軸線方向に駆動して所定場所への移動おＪ：び停
止位置決めを行ない寄る可変リラクタンス型のりニヤス
テップモータを構成する。
ように、対向面側を凹凸歯型状とし、電磁石１６の上方
に向って突出するｖ１１極部にそれぞれ電磁コイル２４
を巻いて、既知のように、電磁コイルに供給づるパルス
を制御して電機子２１を取付りた搬送ケース２０を搬送
空間の軸線方向に駆動して所定場所への移動おＪ：び停
止位置決めを行ない寄る可変リラクタンス型のりニヤス
テップモータを構成する。
浮上用永久磁石１７．２２および１８．２３は左右それ
ぞれ反発力を発生するように、第３図に示すように同極
を対向して配置され、浮上用永久磁石１７．２２Ｊ５よ
び１８．２３の対向する磁極面は反対方向に傾斜して配
置され、これにより反発ツノの垂直成分は搬送ケース２
０ｄ５よび物品１９の重量を支持し、水平成分は搬送ケ
ース２０が中立の位置にある時は相殺され、左右いずれ
かに偏倚した時は中立位置への復元力として作用し、こ
れにより搬送ケース２０の電機子２１が駆動用電磁石１
６に対して所定の１に２働関係位置に維持されるよう構
成されている。
ぞれ反発力を発生するように、第３図に示すように同極
を対向して配置され、浮上用永久磁石１７．２２Ｊ５よ
び１８．２３の対向する磁極面は反対方向に傾斜して配
置され、これにより反発ツノの垂直成分は搬送ケース２
０ｄ５よび物品１９の重量を支持し、水平成分は搬送ケ
ース２０が中立の位置にある時は相殺され、左右いずれ
かに偏倚した時は中立位置への復元力として作用し、こ
れにより搬送ケース２０の電機子２１が駆動用電磁石１
６に対して所定の１に２働関係位置に維持されるよう構
成されている。
駆動方式どしては、上述したりニヤステップモータ方式
の他に、交流リニヤモータ方式も適用できる。また、設
定空間の条件が許容される場合には、駆動用磁石として
電磁石１Ｇの代りに永久磁石を用い、これを搬送管５の
外側に説けた案内レール上に移動することにＪ：って同
様の目的を達成することができる。
の他に、交流リニヤモータ方式も適用できる。また、設
定空間の条件が許容される場合には、駆動用磁石として
電磁石１Ｇの代りに永久磁石を用い、これを搬送管５の
外側に説けた案内レール上に移動することにＪ：って同
様の目的を達成することができる。
搬送ケース２０を形成づ゛る非磁性材料どしては、軽崖
化の点でアルミニウム材を使用Ｊるのがよいが、原理的
には非磁性材料であれば、所望に応じ種々の材料を用い
ることができる。
化の点でアルミニウム材を使用Ｊるのがよいが、原理的
には非磁性材料であれば、所望に応じ種々の材料を用い
ることができる。
上述の構成になる装置においては、搬送づべき物品を保
持した搬送ケース２０は、高真空雰囲気に維持された搬
送空間４内で、浮」二用磁石の反光力により浮いた状態
、ずなわち、搬送管５の底壁部分の内壁面から上方に離
間した状態で移動され、または、所定位置、例えば、第
１図に示すように、処理室３への分岐管８の軸線と搬送
＠５の軸線とが交差する位置に停止される。
持した搬送ケース２０は、高真空雰囲気に維持された搬
送空間４内で、浮」二用磁石の反光力により浮いた状態
、ずなわち、搬送管５の底壁部分の内壁面から上方に離
間した状態で移動され、または、所定位置、例えば、第
１図に示すように、処理室３への分岐管８の軸線と搬送
＠５の軸線とが交差する位置に停止される。
今、物品１９を搬送するには、駆動用電磁石１６の電磁
コイル２４に供給するパルスを制御して既知のように搬
送ケース２０の下面の駆動用電機子２１の凹凸山部と駆
動用電磁石１６の磁極部との間に所定の順序で磁束を流
すことによって、搬送ケース２０を所定の位置まで移動
ざゼるとともに位置決め停止させて次の処理室に対応す
る位置まで被処理物１９を［［９送する。次に、ハンド
ル１０を作動して搬送ケース２０上の半導体ウェファ−
のような物品１９を処理４り内に装入し、処理室内で所
要の処理加工を施した後、再びハンドル１０によって処
理室から物品１９を取出して搬送ケース２０に戻し、再
び、上述したと同様にして次工程に搬送する。
コイル２４に供給するパルスを制御して既知のように搬
送ケース２０の下面の駆動用電機子２１の凹凸山部と駆
動用電磁石１６の磁極部との間に所定の順序で磁束を流
すことによって、搬送ケース２０を所定の位置まで移動
ざゼるとともに位置決め停止させて次の処理室に対応す
る位置まで被処理物１９を［［９送する。次に、ハンド
ル１０を作動して搬送ケース２０上の半導体ウェファ−
のような物品１９を処理４り内に装入し、処理室内で所
要の処理加工を施した後、再びハンドル１０によって処
理室から物品１９を取出して搬送ケース２０に戻し、再
び、上述したと同様にして次工程に搬送する。
第５〜７図は本発明の他の実施例を示し、本例では、駆
動用電磁石１６および浮上用永久磁石１７．１８を搬送
管５の内部に設け、これらの磁石１Ｇ、１７．１８とそ
れぞれ協動する強磁性材料の電機子２１および浮上用永
久磁石２２．２３を搬送ケース２０に設けている。
動用電磁石１６および浮上用永久磁石１７．１８を搬送
管５の内部に設け、これらの磁石１Ｇ、１７．１８とそ
れぞれ協動する強磁性材料の電機子２１および浮上用永
久磁石２２．２３を搬送ケース２０に設けている。
この実施例で示すように構成することによって、搬送管
５の外側に管継手フランジその他の（幾器またはその取
付用フランジ等が存在りることにＪ−って生ずるリニヤ
モータの取付上の問題をなくすことができる。
５の外側に管継手フランジその他の（幾器またはその取
付用フランジ等が存在りることにＪ−って生ずるリニヤ
モータの取付上の問題をなくすことができる。
第８〜１３図は、搬送通路または空間４が水平面内およ
び／または垂直面内にｄ５いＣ直線でなく曲線をなす場
合において、この曲線状の搬送通路または空間内に１１
０送り−スが浮いた状態で移動しＣ摺動部分が生じない
ように構成しＩＣ本発明の他の実施例を示し、第８〜１
０図は駆動用磁気装置１Ｇ。
び／または垂直面内にｄ５いＣ直線でなく曲線をなす場
合において、この曲線状の搬送通路または空間内に１１
０送り−スが浮いた状態で移動しＣ摺動部分が生じない
ように構成しＩＣ本発明の他の実施例を示し、第８〜１
０図は駆動用磁気装置１Ｇ。
２１および浮上用磁気装置１７．１８．２２．’２３の
全てが搬送管５の内側に位置するよう構成した例を示し
、第１１〜１３図は駆動用磁気装置および浮上用磁気装
置を構成する磁石のうち固定側のコイルよｌこは電磁石
１６および永久磁石１７を１１送管５の外側に設りた例
を示す。なお、前述した実施例において説明したと同様
部分を同じ符号で示してその訂カ）１１な説明を省略づ
る。
全てが搬送管５の内側に位置するよう構成した例を示し
、第１１〜１３図は駆動用磁気装置および浮上用磁気装
置を構成する磁石のうち固定側のコイルよｌこは電磁石
１６および永久磁石１７を１１送管５の外側に設りた例
を示す。なお、前述した実施例において説明したと同様
部分を同じ符号で示してその訂カ）１１な説明を省略づ
る。
図示の例では、搬送空間４内にその長さ方向に治って移
動し得る非磁性材製の搬送ケース２０は長さ方向に分割
された複数個の微小ブロック２５と、これらの微小ブロ
ック２５を互に可撓連結する例えば、溶接型を司とする
角形ベローズ２Ｇのような可撓性連結素子とで構成され
、各微小ブロック２５には半導体ウェファ−のような物
品１９を保持するための一対の保持枠２７がそれぞれ取
ｆ号けられ、また駆動用電気子２１および浮上用永久磁
石２２．２３がそれぞれ取（＝Ｉけられている。
動し得る非磁性材製の搬送ケース２０は長さ方向に分割
された複数個の微小ブロック２５と、これらの微小ブロ
ック２５を互に可撓連結する例えば、溶接型を司とする
角形ベローズ２Ｇのような可撓性連結素子とで構成され
、各微小ブロック２５には半導体ウェファ−のような物
品１９を保持するための一対の保持枠２７がそれぞれ取
ｆ号けられ、また駆動用電気子２１および浮上用永久磁
石２２．２３がそれぞれ取（＝Ｉけられている。
可撓連結手段として、種々の適当なものを用いることか
できるが、溶接型の角形ベローズを用いることによって
、水平面および垂直面での回転を容易にし・寄るととも
に長さ方向における伸縮を可能にし、これに反し、ねじ
れおよびずれに対して高い剛性を有することによって、
搬送ケース２０、したがって、その物品支持面の横方向
への傾斜を防止するどともに順次のブ１コック２５の整
列位置関係を７；ｉに確医できるという利点が１Ｔられ
る。
できるが、溶接型の角形ベローズを用いることによって
、水平面および垂直面での回転を容易にし・寄るととも
に長さ方向における伸縮を可能にし、これに反し、ねじ
れおよびずれに対して高い剛性を有することによって、
搬送ケース２０、したがって、その物品支持面の横方向
への傾斜を防止するどともに順次のブ１コック２５の整
列位置関係を７；ｉに確医できるという利点が１Ｔられ
る。
本発明にＪ：れば、搬送リーベぎ物品を保持する搬送り
−スを搬送空間内に磁気浮上させ、磁気駆動し−Ｃ移動
させｉｑる構成としたから、囲動部分がないので、摩耗
による真空度の低下の問題、駆動装置の焼付による問題
等をなくし得て、高度の真空雰囲気の維持が容易に可能
となり、高真空装置における処理加工の品質管理を向上
さμることができるという効果が得られる。
−スを搬送空間内に磁気浮上させ、磁気駆動し−Ｃ移動
させｉｑる構成としたから、囲動部分がないので、摩耗
による真空度の低下の問題、駆動装置の焼付による問題
等をなくし得て、高度の真空雰囲気の維持が容易に可能
となり、高真空装置における処理加工の品質管理を向上
さμることができるという効果が得られる。
第１図は本発明による物品搬送装置を取イ」りた高真空
装置の概略斜視図、 第２図は本発明による物品搬送装置の部分拡大斜視図、 第３図は第２図に示す浮上用磁気装置Ｊ３よび駆動用磁
気装置の作用説明用図、 第４図は駆動用磁気装置の部分斜視図、第５図は本発明
の他の実施例を示づ部分斜視図、第６図は第５図に示す
浮上用磁気装置およ０−駆動用磁気装置の配置を示づ概
略線図、 第７図は第５図に示づ駆動用磁気装置の部分拡大斜視図
、 第８図は本発明の他の実施例を示すｗＬＫ面し１、第９
図は第８図に示す装置の一部を゛断面として示す側面図
、 第１０図は第８図に示す装置の一部を断面として示す平
面図、 第１１図は本発明の他の実施例を示ず縦Ｉｆｌｉ面図、
第１２図は第１１図に示す装置の一部を断面として示す
側面図、 第１３図は第１１図に示す装置の一部を断面として示す
平面図である。 １、 ２． ３・・・高真空装置の処理加工至４・・・
搬送通路または空間 ５・・・搬送管 ６． ７． ８・・・分岐管１０・・
・電磁チャック付ハンドル １Ｇ・・・駆動用電磁石 １７．１８・・・浮上用永久
磁石１９・・・物品 ２０・・・搬送装置 ２１・・・駆動用Ｎ梃子 ２２．２３・・・浮上用永久
１１石２４・・・コイル ２５・・・ブロック２６・・
・可撓性連結素子または角形ベローズ２７・・・保持枠
。 ／Ｑ 第４図 ２イ 第９図 第１Ｏ図 第１Ｉ図 第１２図 手続補正書 昭和５９年 ６ 月１３日 １、事件の表示 昭和５８年特許 願第１ ’１２４２２号２・発明の名
称 高真空中の物品搬送装置 ３、補正をする者 事ｆ１との関係 特許出願人 大江工研株式会社 ■、明細書第１頁第８〜１６行間の特許請求の範囲の記
載を下記の通り訂正する。 「２、特許請求の範囲
装置の概略斜視図、 第２図は本発明による物品搬送装置の部分拡大斜視図、 第３図は第２図に示す浮上用磁気装置Ｊ３よび駆動用磁
気装置の作用説明用図、 第４図は駆動用磁気装置の部分斜視図、第５図は本発明
の他の実施例を示づ部分斜視図、第６図は第５図に示す
浮上用磁気装置およ０−駆動用磁気装置の配置を示づ概
略線図、 第７図は第５図に示づ駆動用磁気装置の部分拡大斜視図
、 第８図は本発明の他の実施例を示すｗＬＫ面し１、第９
図は第８図に示す装置の一部を゛断面として示す側面図
、 第１０図は第８図に示す装置の一部を断面として示す平
面図、 第１１図は本発明の他の実施例を示ず縦Ｉｆｌｉ面図、
第１２図は第１１図に示す装置の一部を断面として示す
側面図、 第１３図は第１１図に示す装置の一部を断面として示す
平面図である。 １、 ２． ３・・・高真空装置の処理加工至４・・・
搬送通路または空間 ５・・・搬送管 ６． ７． ８・・・分岐管１０・・
・電磁チャック付ハンドル １Ｇ・・・駆動用電磁石 １７．１８・・・浮上用永久
磁石１９・・・物品 ２０・・・搬送装置 ２１・・・駆動用Ｎ梃子 ２２．２３・・・浮上用永久
１１石２４・・・コイル ２５・・・ブロック２６・・
・可撓性連結素子または角形ベローズ２７・・・保持枠
。 ／Ｑ 第４図 ２イ 第９図 第１Ｏ図 第１Ｉ図 第１２図 手続補正書 昭和５９年 ６ 月１３日 １、事件の表示 昭和５８年特許 願第１ ’１２４２２号２・発明の名
称 高真空中の物品搬送装置 ３、補正をする者 事ｆ１との関係 特許出願人 大江工研株式会社 ■、明細書第１頁第８〜１６行間の特許請求の範囲の記
載を下記の通り訂正する。 「２、特許請求の範囲
Claims (1)
- １、所定の高真空に保持される搬送空間を内側に限定す
る非磁性材製搬送管と、搬送すべき物品を保持して前記
搬送空間内に長さ方向に移動し得る非磁性拐製の搬送ケ
ースと、前記搬送管の長さ方向に沿って配設固定された
浮上用磁石ど、この固定浮上用磁石と協働して前記搬送
ケースを搬送空間内に浮上させ得るよう搬送ケースに設
けられた浮上用磁石と、１）ａ記搬送ケースに前記搬送
管の長さ方向に配設された強磁性相の電機子ど、この電
機子と協働して搬送ケースを搬送管の長さ方向に駆動ざ
Ｕる駆動用磁石とを具えることを特徴とＪる高真空中で
の物品搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14242283A JPS6036222A (ja) | 1983-08-05 | 1983-08-05 | 高真空中の物品搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14242283A JPS6036222A (ja) | 1983-08-05 | 1983-08-05 | 高真空中の物品搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6036222A true JPS6036222A (ja) | 1985-02-25 |
Family
ID=15314958
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14242283A Pending JPS6036222A (ja) | 1983-08-05 | 1983-08-05 | 高真空中の物品搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6036222A (ja) |
Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61295926A (ja) * | 1985-06-25 | 1986-12-26 | Ulvac Corp | 真空装置用磁気浮上搬送装置 |
| JPS62259921A (ja) * | 1986-05-02 | 1987-11-12 | Hitachi Ltd | 気密ボツクス施設 |
| JPS62183628U (ja) * | 1986-05-14 | 1987-11-21 | ||
| JPS6392205A (ja) * | 1986-10-06 | 1988-04-22 | Ulvac Corp | 真空装置用磁気浮上搬送装置 |
| JPS63133803A (ja) * | 1986-11-26 | 1988-06-06 | Ulvac Corp | 磁気浮上搬送装置 |
| JPS63139844A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-11 | Ulvac Corp | 真空室内における物体の搬送方法 |
| JPH01281217A (ja) * | 1988-05-02 | 1989-11-13 | Nippon Steel Corp | 閉鎖空間内におけるパケットの磁気浮上輸送方法および装置 |
| JPH01312072A (ja) * | 1988-06-13 | 1989-12-15 | Asahi Glass Co Ltd | 真空処理装置 |
| JPH02188104A (ja) * | 1989-01-13 | 1990-07-24 | Irie Koken Kk | 浮上式真空内物品搬送装置 |
| JPH04142734A (ja) * | 1990-10-03 | 1992-05-15 | Mitsubishi Electric Corp | 微細加工装置及び方法 |
| WO1994001354A1 (en) * | 1992-07-07 | 1994-01-20 | Ebara Corporation | Magnetically levitated carrying apparatus |
| JP2009196796A (ja) * | 2008-02-22 | 2009-09-03 | Neturen Takuto Co Ltd | ワーク搬送方法及びワーク搬送装置 |
| JP2010037091A (ja) * | 2008-08-07 | 2010-02-18 | Sinfonia Technology Co Ltd | 搬送装置 |
| JP2012138522A (ja) * | 2010-12-27 | 2012-07-19 | Canon Anelva Corp | 基板搬送装置及び真空処理装置 |
| WO2019096427A1 (en) * | 2017-11-20 | 2019-05-23 | Applied Materials, Inc. | Magnetic levitation system, vacuum system, and method of transporting a carrier |
| WO2019145035A1 (en) * | 2018-01-25 | 2019-08-01 | Applied Materials,Inc. | Magnetic levitation system and method of contactlessly transporting a carrier within a vacuum environment |
| WO2019238416A1 (de) * | 2018-06-14 | 2019-12-19 | Robert Bosch Gmbh | Beförderungsvorrichtung zum befördern mindestens eines wafers |
| WO2020043277A1 (en) * | 2018-08-29 | 2020-03-05 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for transportation of a first carrier and a second carrier, processing system for vertically processing a substrate, and methods therefor |
| WO2020126040A1 (en) * | 2018-12-21 | 2020-06-25 | Applied Materials, Inc. | Magnetic levitation system, carrier for a magnetic levitation system, vacuum system, and method of transporting a carrier |
| CN111595881A (zh) * | 2019-02-21 | 2020-08-28 | Fei 公司 | 用于在两个装置之间传递样本的输送设备和方法以及样本处理系统 |
| WO2021104622A1 (en) * | 2019-11-27 | 2021-06-03 | Applied Materials, Inc. | Magnetic levitation system, processing system, and method of transporting a carrier |
| US11851274B2 (en) | 2019-12-24 | 2023-12-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Conveyance apparatus and manufacturing method of article |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54118019A (en) * | 1978-03-01 | 1979-09-13 | Akira Washida | Magnetic floating device |
-
1983
- 1983-08-05 JP JP14242283A patent/JPS6036222A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54118019A (en) * | 1978-03-01 | 1979-09-13 | Akira Washida | Magnetic floating device |
Cited By (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61295926A (ja) * | 1985-06-25 | 1986-12-26 | Ulvac Corp | 真空装置用磁気浮上搬送装置 |
| JPS62259921A (ja) * | 1986-05-02 | 1987-11-12 | Hitachi Ltd | 気密ボツクス施設 |
| JPS62183628U (ja) * | 1986-05-14 | 1987-11-21 | ||
| JPS6392205A (ja) * | 1986-10-06 | 1988-04-22 | Ulvac Corp | 真空装置用磁気浮上搬送装置 |
| JPS63133803A (ja) * | 1986-11-26 | 1988-06-06 | Ulvac Corp | 磁気浮上搬送装置 |
| JPS63139844A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-11 | Ulvac Corp | 真空室内における物体の搬送方法 |
| JPH01281217A (ja) * | 1988-05-02 | 1989-11-13 | Nippon Steel Corp | 閉鎖空間内におけるパケットの磁気浮上輸送方法および装置 |
| JPH01312072A (ja) * | 1988-06-13 | 1989-12-15 | Asahi Glass Co Ltd | 真空処理装置 |
| JPH02188104A (ja) * | 1989-01-13 | 1990-07-24 | Irie Koken Kk | 浮上式真空内物品搬送装置 |
| JPH04142734A (ja) * | 1990-10-03 | 1992-05-15 | Mitsubishi Electric Corp | 微細加工装置及び方法 |
| US5641054A (en) * | 1992-07-07 | 1997-06-24 | Ebara Corporation | Magnetic levitation conveyor apparatus |
| EP0648698A1 (en) * | 1992-07-07 | 1995-04-19 | Ebara Corporation | Magnetically levitated carrying apparatus |
| WO1994001354A1 (en) * | 1992-07-07 | 1994-01-20 | Ebara Corporation | Magnetically levitated carrying apparatus |
| JP2009196796A (ja) * | 2008-02-22 | 2009-09-03 | Neturen Takuto Co Ltd | ワーク搬送方法及びワーク搬送装置 |
| JP2010037091A (ja) * | 2008-08-07 | 2010-02-18 | Sinfonia Technology Co Ltd | 搬送装置 |
| JP2012138522A (ja) * | 2010-12-27 | 2012-07-19 | Canon Anelva Corp | 基板搬送装置及び真空処理装置 |
| WO2019096427A1 (en) * | 2017-11-20 | 2019-05-23 | Applied Materials, Inc. | Magnetic levitation system, vacuum system, and method of transporting a carrier |
| WO2019145035A1 (en) * | 2018-01-25 | 2019-08-01 | Applied Materials,Inc. | Magnetic levitation system and method of contactlessly transporting a carrier within a vacuum environment |
| WO2019238416A1 (de) * | 2018-06-14 | 2019-12-19 | Robert Bosch Gmbh | Beförderungsvorrichtung zum befördern mindestens eines wafers |
| US11430683B2 (en) | 2018-06-14 | 2022-08-30 | Robert Bosch Gmbh | Conveying device for conveying at least one wafer |
| WO2020043277A1 (en) * | 2018-08-29 | 2020-03-05 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for transportation of a first carrier and a second carrier, processing system for vertically processing a substrate, and methods therefor |
| JP2021534591A (ja) * | 2018-08-29 | 2021-12-09 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials, Incorporated | 第１のキャリア及び第２のキャリアを搬送するための装置、基板を垂直に処理するための処理システム、及びそれらの方法 |
| WO2020126040A1 (en) * | 2018-12-21 | 2020-06-25 | Applied Materials, Inc. | Magnetic levitation system, carrier for a magnetic levitation system, vacuum system, and method of transporting a carrier |
| CN111595881A (zh) * | 2019-02-21 | 2020-08-28 | Fei 公司 | 用于在两个装置之间传递样本的输送设备和方法以及样本处理系统 |
| WO2021104622A1 (en) * | 2019-11-27 | 2021-06-03 | Applied Materials, Inc. | Magnetic levitation system, processing system, and method of transporting a carrier |
| US11851274B2 (en) | 2019-12-24 | 2023-12-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Conveyance apparatus and manufacturing method of article |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6036222A (ja) | 高真空中の物品搬送装置 | |
| US4766993A (en) | Conveying apparatus | |
| JP2656659B2 (ja) | 高温超電導体を用いた物品搬送装置 | |
| JP3251654B2 (ja) | 磁気力により物体を浮上及び案内するシステム | |
| EP0648698A4 (en) | MAGNETIC EFFECT FLOATING TRANSPORT DEVICE. | |
| GB2133757A (en) | A frictionless transport system | |
| US5980193A (en) | Magnetically levitated robot and method of increasing levitation force | |
| JPH01103848A (ja) | 真空室内搬送装置 | |
| JPS60261302A (ja) | 高真空中の物品搬送装置 | |
| JPH0649529B2 (ja) | 真空室内における物体の搬送方法 | |
| KR100675559B1 (ko) | 자기부상 반송장치 | |
| JPS6392205A (ja) | 真空装置用磁気浮上搬送装置 | |
| JPH04365722A (ja) | 磁気浮上搬送装置 | |
| JPH03288725A (ja) | ウェハ搬送装置 | |
| JPS619104A (ja) | 磁気浮上搬送装置 | |
| JPH0797051A (ja) | 超伝導磁気浮上搬送装置 | |
| JPH06156729A (ja) | 磁気浮上搬送装置 | |
| JPH07117849A (ja) | 磁気浮上搬送装置 | |
| JPS63174895A (ja) | 磁気浮上式搬送マニピユレ−タ | |
| JPH02193504A (ja) | 搬送体移送装置 | |
| JPS63202204A (ja) | 磁気浮上型搬送装置 | |
| JPH07137842A (ja) | 磁気浮上搬送装置 | |
| JPS61257828A (ja) | 磁気浮上式非接触昇降装置 | |
| JPH0537773U (ja) | 交流磁気浮上搬送装置 | |
| JP3393660B2 (ja) | 搬送装置 |