JPS61295926A - 真空装置用磁気浮上搬送装置 - Google Patents
真空装置用磁気浮上搬送装置Info
- Publication number
- JPS61295926A JPS61295926A JP13689285A JP13689285A JPS61295926A JP S61295926 A JPS61295926 A JP S61295926A JP 13689285 A JP13689285 A JP 13689285A JP 13689285 A JP13689285 A JP 13689285A JP S61295926 A JPS61295926 A JP S61295926A
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- vacuum device
- floating body
- vacuum
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、例えば真空ブ１］ヒス装置にＪゴける半導体
ウェハ等の搬送や医薬品の″Ａ造工程で用いられる真空
装置用磁気浮上搬送装置に関するものである。
ウェハ等の搬送や医薬品の″Ａ造工程で用いられる真空
装置用磁気浮上搬送装置に関するものである。
従 来 の 技 術
従来、大気中において、無１習動、無接触で平行移動で
きる機構として磁気浮上システムがあり、通常、浮上体
に位置セン１ノ、電磁石、電源等が搭載されている。こ
の種の機構にはリニアパルスモータ機構が駆動手段とし
て用いられている。
きる機構として磁気浮上システムがあり、通常、浮上体
に位置セン１ノ、電磁石、電源等が搭載されている。こ
の種の機構にはリニアパルスモータ機構が駆動手段とし
て用いられている。
どころで、真空中において、無摺動でゲス１−を発生ぼ
ずに長い距離平行移動できる機構は従来促案されてなく
、そのようなＪａ椙の開発が、半導体製造技術等の真空
プロセス技術分野において酸処理物の汚染防止やプロセ
スのインライン化等の観点から要望されている。すなわ
ら、最近の半導体装置のより高度の集積化傾向のため基
板の処理中は勿論のこと一つの処理工程から次の処理工
程への移送時にゲス１へによる基板の汚染は極力低く押
えなｔノればならず、また一つの処理工程から次の処３
１Ｙ＋工程へ基板を移送する際に、真空を解放すること
はゲス１〜の問題だけでなく、仝体ｒ稈にがかる時間や
エネルギの消費の観点から乙ＩＴましくなく、これらの
課題を解決り−る一手段として真空中において、無１習
動でゲス１〜を発生Ｉずに長い距離平行移動′Ｃさる機
構が強く要望されてさている。
ずに長い距離平行移動できる機構は従来促案されてなく
、そのようなＪａ椙の開発が、半導体製造技術等の真空
プロセス技術分野において酸処理物の汚染防止やプロセ
スのインライン化等の観点から要望されている。すなわ
ら、最近の半導体装置のより高度の集積化傾向のため基
板の処理中は勿論のこと一つの処理工程から次の処理工
程への移送時にゲス１へによる基板の汚染は極力低く押
えなｔノればならず、また一つの処理工程から次の処３
１Ｙ＋工程へ基板を移送する際に、真空を解放すること
はゲス１〜の問題だけでなく、仝体ｒ稈にがかる時間や
エネルギの消費の観点から乙ＩＴましくなく、これらの
課題を解決り−る一手段として真空中において、無１習
動でゲス１〜を発生Ｉずに長い距離平行移動′Ｃさる機
構が強く要望されてさている。
発明が解決しＪ、うとする問題点
このような要求を満すために、従来大気中で用いられて
いる磁気浮上システムをそのまま真空プ［］Ｉ？ス装置
に適用しにうとづると、接触や摺動によるゲスｌ〜の問
題はないものの電磁石や電源等が真空中に持ち込まれる
ことになるため、ガス発生どい・）重大、な問題が生じ
てくる。このにう４ｉ−電磁石や電源等から発生覆るガ
スは被処理物に悪影響を及ぼすことになる。
いる磁気浮上システムをそのまま真空プ［］Ｉ？ス装置
に適用しにうとづると、接触や摺動によるゲスｌ〜の問
題はないものの電磁石や電源等が真空中に持ち込まれる
ことになるため、ガス発生どい・）重大、な問題が生じ
てくる。このにう４ｉ−電磁石や電源等から発生覆るガ
スは被処理物に悪影響を及ぼすことになる。
そこで、本発明の目的は、従来人気中で用いられ℃いる
１１気ンゝ７１ニシスデムによりけるガス発生源と４ｆ
る７を磁石や電源等を真空壁の外側に設（すて、真空中
にＪ３いてもダストやガス発生を伴４ｚうことなく使用
できる真空装置用磁気浮上搬送装置を提供することにあ
る。
１１気ンゝ７１ニシスデムによりけるガス発生源と４ｆ
る７を磁石や電源等を真空壁の外側に設（すて、真空中
にＪ３いてもダストやガス発生を伴４ｚうことなく使用
できる真空装置用磁気浮上搬送装置を提供することにあ
る。
問題点を解決するための手段
上記の目的を達成するために、本発明にＪ：る真空装置
用磁気）−；’−ｆ：搬送装首は、真空装置内に画定さ
れた搬送通路に沿って案内される搬送台を浮、［−支持
する浮上体部材を有し、上記）甲上体部祠の両側に永久
磁石を取り付（プ、これらの各永久磁Ｕｒと共動して上
記浮上体部材を真空装置内において上記搬送台の搬送通
路全体に波って無接触の平衡した状態で案内する浮上用
電磁石を真空装置壁の外側に設置Ｊ 、少数個の等間隔
で万いに平行な歯合−側に備えた磁性体から成る可動子
を上記浮り体部月に設置）、上記可動子に対向して位置
決めされ、上記可動子を駆動するために順次励磁するよ
うにされた多数の巻線を真空装置壁の外側に備えた固定
子を真空装置壁に−１−記）゛７上体部材の移動経路に
沿って設【ノたことを特徴としている。
用磁気）−；’−ｆ：搬送装首は、真空装置内に画定さ
れた搬送通路に沿って案内される搬送台を浮、［−支持
する浮上体部材を有し、上記）甲上体部祠の両側に永久
磁石を取り付（プ、これらの各永久磁Ｕｒと共動して上
記浮上体部材を真空装置内において上記搬送台の搬送通
路全体に波って無接触の平衡した状態で案内する浮上用
電磁石を真空装置壁の外側に設置Ｊ 、少数個の等間隔
で万いに平行な歯合−側に備えた磁性体から成る可動子
を上記浮り体部月に設置）、上記可動子に対向して位置
決めされ、上記可動子を駆動するために順次励磁するよ
うにされた多数の巻線を真空装置壁の外側に備えた固定
子を真空装置壁に−１−記）゛７上体部材の移動経路に
沿って設【ノたことを特徴としている。
作 用
このように構成した本発明による真空装置用磁気浮上搬
送装置においては、浮上体部材は、それ自体に取り（＝
Ｊりられた永久磁石と外部に設けられた浮上用電磁石ど
の相互作用によって平衡状態を保って無１′Ｆ！動、無
接触状態で真空装置内の搬送通路に沿って移動すること
ができる。また固定子の各谷線の励磁を適当に制御する
ことによって、浮上体部材の移動速度、移動距離Ｊ３よ
び停止位置等を任意に１１１陣りることができる。
送装置においては、浮上体部材は、それ自体に取り（＝
Ｊりられた永久磁石と外部に設けられた浮上用電磁石ど
の相互作用によって平衡状態を保って無１′Ｆ！動、無
接触状態で真空装置内の搬送通路に沿って移動すること
ができる。また固定子の各谷線の励磁を適当に制御する
ことによって、浮上体部材の移動速度、移動距離Ｊ３よ
び停止位置等を任意に１１１陣りることができる。
実 施 例
以下、添トド１図面を参照して本発明の一実施例につい
′Ｃ説明ザる。
′Ｃ説明ザる。
第１図には本発明の一実施例にＪ：る真空装置用磁気）
ｙ」−搬送装置を示し、１．２はＸ′［空菰置壁であり
、非磁性月１′３１から成っている。これらの真空装置
壁１，２によつ−（画定された真空装置内にＳＱＬ搬送
台３′が示され、この搬送台３は真空装置内に形成され
た搬送通路に沿って案内されるＪ、うになっている。搬
送台３の下側には非磁性８料から成る浮上体部材４が取
り付（］られている。浮上体部材４の両側には、永久磁
石５．６が装着され、また浮上体部材４の■方９ｉ：部
には磁性体から成る可動子７が装着されている。可動子
７はその下側に等間隔で互いに平衡な複数ｎηの歯７ａ
を備えている。これらの構成要素は真空装置壁１，２に
よって画定された真空装置内に収容されている。
ｙ」−搬送装置を示し、１．２はＸ′［空菰置壁であり
、非磁性月１′３１から成っている。これらの真空装置
壁１，２によつ−（画定された真空装置内にＳＱＬ搬送
台３′が示され、この搬送台３は真空装置内に形成され
た搬送通路に沿って案内されるＪ、うになっている。搬
送台３の下側には非磁性８料から成る浮上体部材４が取
り付（］られている。浮上体部材４の両側には、永久磁
石５．６が装着され、また浮上体部材４の■方９ｉ：部
には磁性体から成る可動子７が装着されている。可動子
７はその下側に等間隔で互いに平衡な複数ｎηの歯７ａ
を備えている。これらの構成要素は真空装置壁１，２に
よって画定された真空装置内に収容されている。
浮上体部４４４の各側に設けられた永久磁石５゜６の各
々を挟んで上下に真空装置壁２の外側に？！１上用電磁
石８，９，１０．１１が取り（−１けられている。これ
らの各雷腎奄石８，９，１０．１１は浮上体部材４の移
動通路に沿って全長にわたー〕でのびており、多数のＥ
Ｊ−り８ａ、９ａ、 １０ａ、 １１ ａ ト多数の谷
線８ｂ、９１１．１０ｂ、１１ ｂどｈ日ら成っている
。
々を挟んで上下に真空装置壁２の外側に？！１上用電磁
石８，９，１０．１１が取り（−１けられている。これ
らの各雷腎奄石８，９，１０．１１は浮上体部材４の移
動通路に沿って全長にわたー〕でのびており、多数のＥ
Ｊ−り８ａ、９ａ、 １０ａ、 １１ ａ ト多数の谷
線８ｂ、９１１．１０ｂ、１１ ｂどｈ日ら成っている
。
真空装置壁２には順次励磁するようにされた多数の巻線
１２ａを真空装置壁２の外側に備えた固定子１２が取り
（ｄけられ、各巻線の巻かれた各固定子１２の鉄心の一
部は真空壁２を通って可動〒７の下側の歯７ａに対向す
る位置まで突出している。固定子１２の各巻線１２ａは
図示してないパルス電源に接続され、制御された仕方で
付勢され得る。また第１図において、符号１３は位置ロ
ンすを表し、位冒センリ１３は第２図に承りように浮上
用電磁石８，９，１０．１１の巻線の付勢を制υＩｌｌ
るため浮上体部材４の位置を検出するようにされる。そ
のため位置レンリ１３は浮上体部材４の移動通路に沿っ
て多数設置ｌＪられている。
１２ａを真空装置壁２の外側に備えた固定子１２が取り
（ｄけられ、各巻線の巻かれた各固定子１２の鉄心の一
部は真空壁２を通って可動〒７の下側の歯７ａに対向す
る位置まで突出している。固定子１２の各巻線１２ａは
図示してないパルス電源に接続され、制御された仕方で
付勢され得る。また第１図において、符号１３は位置ロ
ンすを表し、位冒センリ１３は第２図に承りように浮上
用電磁石８，９，１０．１１の巻線の付勢を制υＩｌｌ
るため浮上体部材４の位置を検出するようにされる。そ
のため位置レンリ１３は浮上体部材４の移動通路に沿っ
て多数設置ｌＪられている。
このＪ、うに構成された本発明の装置の０１作において
、浮」ニ体部材４は、浮上用電磁石８，９，１０．１１
の巻線をイ・１勢することによって、浮上体部材４の永
久磁石５．６との相互吸引釣用で搬送台３と共に無摺動
、無接触で浮遊した平衡状態に保持される。そして可動
子７と固定子１２とから成るリニアパルスモータ機構の
付勢によって、浮」体部材づおよび搬送台３は移動通路
に沿って予定の方向に予定の位置まで移動され１ｑる。
、浮」ニ体部材４は、浮上用電磁石８，９，１０．１１
の巻線をイ・１勢することによって、浮上体部材４の永
久磁石５．６との相互吸引釣用で搬送台３と共に無摺動
、無接触で浮遊した平衡状態に保持される。そして可動
子７と固定子１２とから成るリニアパルスモータ機構の
付勢によって、浮」体部材づおよび搬送台３は移動通路
に沿って予定の方向に予定の位置まで移動され１ｑる。
この場合、？’７ 、Ｅ体部材１の移動に従って各位置
レンザ１ご３（よ順次位置１３号を検出し、これにより
浮上用電磁石８．９，１０．１１の巻線の付勢がｆｌａ
ｔ御され１！７る。また固定子１２の巻線１２ａの付勢
の仕方を適当に制御することにより、被搬送物にいかな
る衝撃やに１傷も与えることなしにソ７１〜に搬送する
ことができる。
レンザ１ご３（よ順次位置１３号を検出し、これにより
浮上用電磁石８．９，１０．１１の巻線の付勢がｆｌａ
ｔ御され１！７る。また固定子１２の巻線１２ａの付勢
の仕方を適当に制御することにより、被搬送物にいかな
る衝撃やに１傷も与えることなしにソ７１〜に搬送する
ことができる。
なお、図示実施例にＪｊいて、必要ならばリニ）７モ一
タ機（１４を真空装胃壁の下側の代りに真空装２１′壁
の上側または横側に設Ｃ）ることしできる。
タ機（１４を真空装胃壁の下側の代りに真空装２１′壁
の上側または横側に設Ｃ）ることしできる。
発 明 の 効 果
以上説明してきたように、本発明による真空Ｋｎ用磁気
）７上搬送装置においては、Ｌ１空装置内に画定された
搬送通路に沿って案内される搬送台を浮上支ト）−づる
浮上体部＋１の両側に永久磁石を取り（ｊけ、これらの
各永久磁石と共働して上記）ソ上体部材を上記搬送台の
搬送通路全体にわたつ−Ｃ無接触の平衡した状態で案内
りる浮１用電磁石を真空装置壁の外側に設（Ｊ、複数個
の等間隔でηいに平行な歯を一側に備えた磁性体から成
る可動子を上記浮上体部材に設け、上記可動子に対向し
て位？１決めされ、上記可動子を駆動するために順次励
磁づるようにされた多数の巻線を真空装置壁の外側に備
えた固定子を真空装胃壁に上記浮上体部材の移動経路に
沿って設けているので、真空外より浮上、ＷＩ送の制御
ができ、また真空中にガス放出源となる要素を挿ｉ７ｊ
ｔ５でイｉい）こめ超高真空中で６十分使用４するこ
とがＣσる。
）７上搬送装置においては、Ｌ１空装置内に画定された
搬送通路に沿って案内される搬送台を浮上支ト）−づる
浮上体部＋１の両側に永久磁石を取り（ｊけ、これらの
各永久磁石と共働して上記）ソ上体部材を上記搬送台の
搬送通路全体にわたつ−Ｃ無接触の平衡した状態で案内
りる浮１用電磁石を真空装置壁の外側に設（Ｊ、複数個
の等間隔でηいに平行な歯を一側に備えた磁性体から成
る可動子を上記浮上体部材に設け、上記可動子に対向し
て位？１決めされ、上記可動子を駆動するために順次励
磁づるようにされた多数の巻線を真空装置壁の外側に備
えた固定子を真空装胃壁に上記浮上体部材の移動経路に
沿って設けているので、真空外より浮上、ＷＩ送の制御
ができ、また真空中にガス放出源となる要素を挿ｉ７ｊ
ｔ５でイｉい）こめ超高真空中で６十分使用４するこ
とがＣσる。
ｆｆ１１図は本発明の゛一実施例による真空装置用磁気
）７土搬送装置を示づ゛概略斜視図、第２図は装置の一
部の構成を示す平面図である。
）７土搬送装置を示づ゛概略斜視図、第２図は装置の一
部の構成を示す平面図である。
Claims (1)
- 真空装置内に形成された搬送通路に沿って案内される搬
送台を浮上支持する浮上体部材を有し、上記浮上体部材
の両側に永久磁石を取り付け、これらの各永久磁石と共
働して上記浮上体部材を上記搬送台の搬送通路全体にわ
たって無接触の平衡した状態で案内する浮上用電磁石を
真空装置壁の外側に設け、複数個の等間隔で互いに平行
な歯を一側に備えた磁性体から成る可動子を上記浮上体
部材に設け、上記可動子に対向して位置決めされ、上記
可動子を駆動するために順次励磁するようにされた多数
の巻線を真空装置壁の外側に備えた固定子を真空装置壁
に上記浮上体部材の移動経路に沿って設けたことを特徴
とする真空装置用磁気浮上搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13689285A JPS61295926A (ja) | 1985-06-25 | 1985-06-25 | 真空装置用磁気浮上搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13689285A JPS61295926A (ja) | 1985-06-25 | 1985-06-25 | 真空装置用磁気浮上搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61295926A true JPS61295926A (ja) | 1986-12-26 |
Family
ID=15185991
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13689285A Pending JPS61295926A (ja) | 1985-06-25 | 1985-06-25 | 真空装置用磁気浮上搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61295926A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03127405U (ja) * | 1990-04-04 | 1991-12-20 | ||
| US5641054A (en) * | 1992-07-07 | 1997-06-24 | Ebara Corporation | Magnetic levitation conveyor apparatus |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6036222A (ja) * | 1983-08-05 | 1985-02-25 | Irie Koken Kk | 高真空中の物品搬送装置 |
-
1985
- 1985-06-25 JP JP13689285A patent/JPS61295926A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6036222A (ja) * | 1983-08-05 | 1985-02-25 | Irie Koken Kk | 高真空中の物品搬送装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03127405U (ja) * | 1990-04-04 | 1991-12-20 | ||
| US5641054A (en) * | 1992-07-07 | 1997-06-24 | Ebara Corporation | Magnetic levitation conveyor apparatus |
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