JPS63130589A - 二環式化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、二環式化合物に関する。

〔発明の構成、作用および効果〕

本発明は、次式Ｉ： ｐ“ （式中、基ＯＲはヒドロキシ；未置換もしくはヒドロキ
シ、低級アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ
−低級アルキルアミノ、カルボキシもしくは低級アルコ
キシカルボニルにより置換された低級アルコキシ；又は
低級アルカノイルオキシを表わし；基Ｒ′およびＲ“の
一方は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルカノイ
ルオキシもしくは低級アルキルを表わし、それらの他方
は水素であるか；又は基ＯＲおよびＲ′は共に一緒にな
って二価のメチレンジオキシ基を形成し、この基は未置
換もしくは低級アルキルおよび／又はフェニルによって
置換されており、更にＲ“は水素であるか；又は基ＯＲ
およびＲ＃は二価のメチレンジオキシ基を形成し、この
基は未置換もしくは低級アルキルおよび／又はフェニル
により置換されており、更にＲ′は水素であり；更に環
Ｂは未置換もしくは低級アルキル、フェニル−低級アル
キル、ジフェニル−低級アルキル、フェニル、低級アル
カノイルオキシ、ハロゲン、アミノ、低級アルキルアミ
ノ、ジ−低級アルキルアミノ、フェニルアミノ、低級ア
ルカノイルアミノ、ベンゾイルアミノ：低級アルキルス
ルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ；低級アル
カノイル、ベンゾイル、カルボキシ、低級アルコキシカ
ルボニル、カルバモイル、Ｎ−低級アルキルカルバモイ
ル、Ｎ、Ｎ−ジ低級アルキルカルバモイル、シアノ、ウ
レイド、Ｎ−低級アルキルウレイド、低級アルキルスル
ホニル；フェニルスルホニル；ヒドロキシ、低級アルコ
キシ、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキル
アミノ、ハロゲン、カルボキシもしくは低級アルコキシ
カルボニルによって置換された低級アルキル；ヒドロキ
シ、低級アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ
−低級アルキルアミノ、ハロゲン、カルボキシもしくは
低級アルコキシカルボニルによって置換された低級アル
コキシ；Ｃ１〜Ｃ，アルコキシ；および／又は二価のメ
チレンジオキシによって置換されており；あるいは環Ｂ
はヒドロキシ、メトキシもしくはエトキシによってモノ
置換されており、但し、もしも基ＯＲがヒドロキシ、メ
トキシもしくはエトキシを表わす場合は、Ｒ′はヒドロ
キシ、メトキシもしくはエトキシ以外であるか、あるい
は環Ｂはメトキシおよび低級アルコキシによってジ置換
されており、但し、２′，４′−ジメトキシ置換の場合
において、もしも基ＯＲがメトキシの場合、Ｒ′および
Ｒ＃はメトキシ以外であり；このようなものとして説明
された全てのフェニル基は、又は構成された基は未置換
でもあるいは低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン
、ヒドロキシおよび／又はニトロにより置換できる）で
表わされるイソフラバン（３，４−ジヒドロ−３フェニ
ル−２Ｈ’ｌ−ベンゾピラン）又ハその塩、これらの化
合物の製法、該化合物を含有する医薬組成物および医薬
製剤用のそれらの使用又は薬学的に活性な化合物として
のそれらの使用に関する。

本発明で用いられる一般的定義は本発明の範囲内におい
て次の意味を有する。

語句「低級」は、好ましくは７個以下、特に４個以下の
炭素原子を有する基を意味する。

そのようなものとしであるいは低級アルコキシの如き構
成された基における低級アルキルは、例えばｎ−プロピ
ル、・イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、第ニブ
チル、第三ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオ
ペンチル、ｎ−へキシル、イソヘキシル又はｎ−ヘプチ
ル、好ましくはエチル特にメチルである。

ハロゲンにより置換された低級アルキルは好ましくはト
リフルオロメチルである。

そのようなものとしであるいは低級アルカノイルオキシ
等の如く構成された基のうち低級アルカノイルは、例え
ばホルミル、アセチル、プロピオニル、ｎ−ブチリル、
ピバロイル又はバレロイル　。

である。

ハロゲンは好ましくはフッ素、又は塩素であるが臭素又
はヨウ素であってもよい。

フェニルスルホニルアミノは、１−ＮＩＩＳＯ□Ｃ，Ｈ
。

を意味し、低級アルキルスルホニルは、−ＳＯ，−低級
アルキルである。

ウレイド及び低級アルキルウレイドは、基−ＮＨ−ＣＯ
ＮＨ２及び−Ｎｌｌ　−Ｃ０ＮＨＡ１ｋ　（３−アルキ
ルウレイド）又は−ＮＡｌｋ　　Ｃ０ＮＨ！（１−アル
キルウレイド）をそれぞれ意味する（Ａ　Ｉ　ｋは低級
アルキルである）。

ヒドロキシ、エポキシ、低級アルコキシ、アミノ、低級
アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ又はハロゲン
により置換された低級アルコキシ基のうち、言及された
置換基は通常、低級アルコキシ中のオキシ基から少なく
とも２個の炭素原子により離れている。

塩は好ましくは製薬的に許容され得る塩、特に１ｕＡＩ
カルボキシ基を有する式Ｉの該化合物の金属もしくはア
ンモニウム塩、更に好ましくはアルカリもしくはアルカ
リ土類金属塩、例えばナトリウム、カリウム、マグネシ
ウムもしくはカルシウム塩；又は好都合にはアンモニア
から誘導された容易に結晶化し得るアンモニウム塩又は
有機アミン、例えば七ノー、ジ−もしくはトリー低級（
アルキル、シクロアルキルもしくはヒドロキシアルキル
）−アミン、低級アルキレンジアミン、又は低級（ヒド
ロキシアルキルもしくはアルアルキル）−アルキルアン
モニウムヒドロキシド、例えばメチルアミン、ジエチル
アミン、トリエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、
トリエタノールアシ、エチレンジアミン、トリス−（ヒ
ドロキシメチル）アミノメタンもしくはベンジルトリメ
チルアンモニウム水酸化物である。塩基性基を有する式
■の該化合物は、好ましくは医薬として許容され得る無
機もしくは有機酸、例えば強鉱酸、例えばヒドロハリツ
ク酸、例えば塩酸もしくは臭化水素酸；スルホン酸、燐
酸。硝酸又は過塩素酸；脂肪族もしくは′Ｉ７香族カル
ボン酸もしくはスルホン酸、例えばギ酸、酢酸、プロピ
オン酸、コハク酸、グルタル酸、乳酸、リンゴ酸、酒石
酸、グルコン酸、クエン酸、マレイン酸、フマール酸、
ピルビン酸、フェニル酢酸、安息香酸、４−アミノ安息
香酸、アントラニル酸、４−ヒドロキシ安息香酸、サリ
チル酸、４−アミンサリチル酸、パモイック酸、ニコチ
ン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ヒドロキ
シェタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−）ルエ
ンスルホン酸、ナフタリンスルホン酸、スルファニル酸
もしくはシクロへキシルスルファミン酸、又は他の酸性
有機物質、例えばアスコルビン酸との酸付加塩を形成す
る。

単離もしくは精製の目的の為、製薬的に許容し得ない塩
を使用することもできる。しかし製薬的に許容し得る、
非毒性の塩が治療的に用いられ、従って好ましい。

本発明の化合物は、価値ある薬理特性を示す。

例えばそれ等は血液レオロジ−パラメーターを改善し、
血小板の凝集及びホスホジェステラーゼを抑制し、カル
シウム拮抗作用を有し更に末梢性の酸素付加を改善する
。これ等の特性は例えば血管の疾患、例えば間欠性の踵
行、関節硬化症、血栓崩壊性疾患、心筋虚血、心筋梗塞
、冠状疾患大脳虚血、大脳梗塞、糖尿病の細小血管症、
動脈潰瘍、レイノルド症候群、血管けいれん、慢性静脈
不全症、静脈潰瘍又は痔等の治療に対し化合物を有効な
らしめる。

更に、本発明の化合物は５−リポキシゲナーゼおよび／
又は１２−リポキシゲナーゼの抑制因子であり、更に抗
酸化作用を有する。これ等の特性は、例えば炎症疾患、
過感作及びぜん息並びに皮膚病、例えば乾盲の治療に対
し化合物を有用ならしめる。

１）血液レオロジ−パラメーター 血液レオロジ−パラメーターの改善は、例えばヒトの血
液の薬理的モデルで試験管内で証明できる。第一のモデ
ルにおいて、洗浄した赤血球の濃厚懸濁液の流動挙動の
分析が、タイトル（ＢｌｏｏｄＣｅｌｌｓ、　３　、５
５　７０（１９７７））及びシュミツド及びシＢ　ｘヌ
ヘイ７　（ＶＡＳＡ、　　４，２６３−２７０（１９７
５）　）に従って記載されかつ測定されている。第二の
モデルにおいて、血液レオロジ−の改善が、カイエスウ
Ｌ　”／チル等（Ｂｉｂｌｔｈｃａ、ｈａｅｍａｔ、４
７．１４−２０（１９８１））およびカイエスウエツテ
ル等（Ｂｉｏｒｈｅｏｌｏｇｙ・■。

３６３−３７４（１９８２）　）に従ってイールド（Ｙ
ｉｅｌｄ）せん断応力技術を用いて分析される。結果は
ＥＤ５０をマイクロモル（Ｃａ〜ミルストレス血液レオ
ロジ−交代を５０％だけ改良する物質の濃度）で計算す
ることによって得られる。本発明の化合物の場合には、
ＥＤ５０値は、約０．０５マイクロモル又はそれ以上で
ある。

２）ｃＡＭＰ−ホスホジェステラーゼ抑制作用ｃＡＭＰ
ホスホジェステラーゼ活性に対する本発明の化合物の抑
制作用は、例えばウェルス等ＣＢｉｏ−ｃｈｉｍ、Ｂｉ
ｏｐｈｙｓ、Ａｃｔａ　３８４．４３０　４３２（１９
７５）　）及びベレッッ等（Ｂｉｏｃｈｅｍ、　Ｐｈａ
ｒｍａｃｏｌ、　３５．２５７−２６２（１９８６）　
）に従って得ることができる。ホスホエステラーゼは、
新鮮なヒトの血小板又は新鮮なヒトの大動脈から得られ
る。新鮮なヒトのＭｉ織のｃＡＭＰ−ホスホジェステラ
ーゼに対する化合物の作用は、１〜１００マイクロモル
の試験すべき化合物の溶液を添加することによって調べ
られる。ＩＣ５０値（反応の５０％を抑制するのに必要
な濃度）は、化合物の活性を評価する為測定される。そ
れ等は本発明の化合物においては約１マイクロモル又は
それ以上である。

３）血小板凝集の抑制 血小板凝集の抑制は、例えば前腕静脈から採取した洗浄
ヒト血小板の薬理的モデルで実証できる。

洗浄した血小板の懸濁液を、カゼ、ナーベ等（Ａｎｎ。

Ｂｉｏｌ、Ｃｌ１ｎ、４１，１６７（１９８３））及び
ベレッッ等ＣＢｉｏ−ｃｈｅａｐ、　Ｐｈａｒｎ＋ａｃ
ｏ１．３５．２５７　２６２＜１９８６）　）に従って
得られる。結果はＩＣ５０（血小板凝集の５０％を抑制
する化合物の濃度）により測定できる。Ｉ　Ｃ５０値は
本発明の化合物の場合、約１マイクロモル又はそれ以上
である。

次のＩＣ５０値を測定した： ４）カルシウム拮抗作用 ラットの腸間膜の脱分極した塩化カルシウム又は塩化カ
リウムによって誘起された濃度を抑制する為の性質の評
価は、例えばプロカルト及びゴドフライング（Ｅｕｒ、
Ｊ、Ｐｈａｒｏ＋ａｃｏ＋、５３．２８１　（１９７９
）　）によって記載された方法を用いて測定できる。化
合物の抑制効果は、ＣａＣ１□によって得られた初期濃
度の５０％を抑制する為に必要な濃度として評価される
。

５）末梢性の酸素付加 末梢性の酸素付加に対する化合物の効果は、サンプル−
プラスマン（Ａｎｇｉｏｌｏｇｙ、　３２．６８６−６
９８（１９８１））及びハウス（”Ｏｘｙｇ、Ｔｒａｎ
ｓｐ、ｔｉｓｓｕｅ　ｉｎＥｘｐｅｒｉｍｅｎｔａｌ　
Ｂｉｏｌｏｇｙ　ａｎｄ　Ｍｅｄｉｃｉｎｅ”、５ｉｌ
ｖｅｒ　Ｅｄ。

１９７８．４１９−４２２　）に従って測定できる。平
均ｐＯｚは、経口投与後更に対照ラットと処理系ラット
を比較して計算することができる。ｐＯｚの比較は、静
脈内投与に対し処置前と処置後の値で実現できる。

６）５−リポキシゲナーゼ径路の抑制 ５−リポキシゲナーゼの抑制は、例えばキュール等（Ｐ
ｒｏｓｔａｇｌａｎｄｉｎｓ　２８．７８３−８０４（
１９８４）　）に従って測定できる。豚の末梢血液の白
血球が、本発明の化合物の効果を試験する為用いられる
。これ等の効果は、０．１〜１０００マイクロモルの試
験すべき化合物の溶液を添加して行われる。ＩＣ５０値
（５−リポキシゲネーションの５０％を抑制する化合物
の濃度）は、評価する為更に化合物の活性を比較する為
計算できる。ＩＣ５０値は本発明の化合物に対し約０．
３５〜２００マイクロモル又はそれ以上である。

７）１２−リポキシゲナーゼ径路の抑制御２−リポキシ
ゲナーゼ作用に関する本発明の化合物の抑制作用は、例
えばキュール等（Ｐｒｏｓｔａ−ｇｌａｎｄｉｎｓ　２
８，７８３−８０４（１９８４）　）に従って実証され
る。

豚の末梢血液の白血球が化合物の評価に対し用いられる
。試験すべき化合物の溶液は、最終濃度０．１〜１００
０マイクロモルの濃度で添加される。結果はＩＣ５０値
（１２−リポキシゲネーションの５０％を抑制する化合
物の濃度）として表わされる。

本発明の化合物に対し、ＩＣ５０値は、約１〜２００マ
イクロモル又はそれ以上である。

８）抗酸化作用 抗酸化作用は、例えばウェラー（Ｏｉｌ　ａｎｄ　５ｏ
ａｐ９、８９（１９３２））　ニ従った活性酸素方法（
ＡＯＭ）を用いて実証できる。化合物の酸化能を評価す
る為、ストリップされたラードを用いる。温度の刺激（
３日間６０℃）を、Ｎａ５ｚ０３で滴定する前に適用し
た。抗酸化作用に対する化合物の効果は、被験化合物２
５〜５００ｐｐｍ　（２ｇのラード当り化合物２５マイ
クログラムないし２ｇのラードに対し５００マイクログ
ラムの化合物に相当）の溶液を添加して実験する。結果
は、ＩＣ５０値（酸化反応の５０％を抑制する化合物の
濃度）として評価する・。

本発明の化合物に対し、ＩＣ５０値は、約０．０６〜２
．３０マイクロモル又はそれ以上である。

前記式Ｉのイソフラバンス内以下の化合物およびその医
薬として許容され得る塩が好ましい：すなわち、基ＯＲ
はヒドロキシ、低級アルコキシ、または低級アルカノイ
ルオキシを表わし；基Ｒ′およびＲ“の一方は、ヒドロ
キシ、低級アルコキシ、低級アルカノイルオキシもしく
は低級アルキルを表わし、それらの他方は水素であるが
；又は基ＯＲおよびＲ′は共に一緒になって二価のメチ
レンジオキシ基を形成し、この基は未置換もしくは低級
アルキルおよび／又はフェニルによって置換されており
、更にＲ“は水素であるか；又は基ＯＲおよびＲ＃は二
価のメチレンジオキシ基を形成し、この基は未置換もし
くは低級アルキルおよび／又はフェニルにより置換され
ており、更にＲ′は水素であり；更に環Ｂは未置換もし
くは低級アルキル、低級アルカノイルオキシ、ハロゲン
、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミ
ノ、フェニルアミノ、低級アルカノイルアミノ、ベンゾ
イルアミノ；低級アルキルスルホニルアミノ、フェニル
スルホニルアミノ；低級アルカノイル、ベンゾイル、カ
ルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、
Ｎ−低級アルキルカルバモイル、Ｎ、Ｎ−ジ低級アルキ
ルカルバモイル、シアノ、低級アルキルスルホニル；フ
ェニルスルホニル；ハロゲン、カルボキシもしくは低級
アルコキシカルボニルによって置換された低級アルキル
；カルボキシもしくは低級アルコキシカルボニルによっ
て置換された低級アルコキシ；又は二価のメチレンジオ
キシによって置換されており；あるいは環Ｂはヒドロキ
シ、メトキシもしくはエトキシによってモノ置換されて
おり、但し、もしも基ＯＲがヒドロキシ、メトキシもし
くはエトキシを表わす場合は、Ｒ′はヒドロキシ、メト
キシもしくはエトキシ以外であるか、あるいは環Ｂはメ
トキシによってジ置換されており、但し、２’　、４’
−ジメトキシ置換の場合において、もしも基ＯＲがメト
キシの場合、Ｒ′およびＲ＃はメトキシ以外であり；但
し、もしもＲ′がヒドロキシであり、基ＯＲがヒドロキ
シ又はメトキシを表わす場合、環Ｂは置換されているこ
とを条件とする。

前記式Ｉのイソフラバンス内以下の化合物およびその医
薬として許容され得る塩が更に好ましい：すなわち、基
ＯＲはヒドロキシ、低級アルコキシ、または低級アルカ
ノイルオキシにより置換された低級アルコキシを表わし
；基Ｒ′およびＲ’の一方は、ヒドロキシ、低級アルコ
キシ、低級アルカノイルオキシもしくは低級アルキルを
表わし、それらの他方は水素であるか；又は基ＯＲおよ
びＲ′は共に一緒になって二価のメチレンジオキシ基を
形成し、この基は未置換もしくは低級アルキルおよび／
又はフェニルによって置換されており、更にＲ＃は水素
であるか；又は基ＯＲおよびＲ“は二価のメチレンジオ
キシ基を形成し、この基は未置換もしくはフェニルによ
り置換されており、更にＲ′は水素であり；更に環Ｂは
未置換もしくは低級アルキル、フェニル−低級アルキル
、ジフェニル−低級アルキル、低級アルカノイルオキシ
、ハロゲン、アミノ、低級アルカノイルアミノ、フェニ
ルスルホニルアミノ；カルボキシ、低級アルコキシカル
ボニル、カルバモイル、低級アルキルスルホニル；フェ
ニルスルホニル；ハロゲン、カルボキシによって置換さ
れた低級アルキル；カルボキシもしくは低級アルコキシ
カルボニルによって置換された低級アルコキシ：又は二
価のメチレンジオキシによって置換されており；あるい
は環Ｂはヒドロキシ又はメトキシによってモノ置換され
ており、但し、もしも基ＯＲがヒドロキシ、メトキシも
しくはエトキシを表わす場合は、Ｒ′はヒドロキシ、メ
トキシもしくはエトキシ以外であるか、あるいは環Ｂは
メトキシによってジ置換されており、但し、２′，４′
−ジメトキシ置換の場合において、もしも基ＯＲがメト
キシの場合、Ｒ′およびＲ＃はメトキシ以外であり；但
し、もしもＲ′がヒドロキシであり、基ＯＲがヒドロキ
シ又はメトキシを表わす場合、環Ｂは置換されているこ
とを条件とする。

前記式■のイソフラバンスの内填下の化合物およびその
医薬として許容され得る塩が特に好ましい： すなわち、基ＯＲはヒドロキシ、低級アルコキシ、また
は低級アルカノイルオキシにより置換された低級アルコ
キシを表わし；基Ｒ′およびＲ“の一方は、ヒドロキシ
、低級アルコキシ、低級アルカノイルオキシもしくは低
級アルキルを表わし、それらの他方は水素であるか：又
は基ＯＲおよびＲ′は共に一緒になって二価のメチレン
ジオキシ基を形成し、この基は未置換もしくはフェニル
によって置換されており、更にＲ″は水素であるか；又
は基ＯＲおよびＲ“は二価のメチレンジオキシ基を形成
し、この基は未置換もしくはフェニルにより置換されて
おり、更にＲ′は水素であり；更に環Ｂは未置換もしく
は低級アルキル、低級アルカノイルオキシ、ハロゲン、
アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ
、又は、カルボキシもしくは低級アルコキシカルボニル
によって置換された低級アルコキシであるか；又は環Ｂ
は３．４−ジメトキシ置換されており；但し、もしもＲ
′がヒドロキシであり、基ＯＲがヒドロキシ又はメトキ
シを表わす場合、環Ｂは、置換されていなければならな
い。

本発明の化合物のサブグループは、（ａ）７゜８−ジ置
換である式ｌの化合物、即ちＲ′が水素を表わす化合物
；（ｂ）６．７−ジ置換の式■の化合物、即ちＲ＃が水
素を表わす化合物；更に（Ｃ）環Ｂが全てのヒドロキシ
、低級アルコキシ及びメチレンジオキシ置換（未置換で
はない）を除いて前記に定義した如き、式１の化合物に
よって表わされる。

特に式■の化合物が好ましい。即ち式中環Ｂは未置換で
あるか、又は３−位又は４−位において前述の置換基の
一種によりモノ置換され、あるいは３−位及び４−位に
おいてメトキシによりジ置換されている。特に好ましい
化合物は、ＮＢが４−位でモノ置換されている化合物で
ある。

とりわけ実施例に記載した化合物及びその医薬として許
容され得る塩が好ましい。

式Ｉの化合物は、例えば次のプロセスによって製造でき
る： ａ）次式■； 以下余白 （式中、基ＣＸ、Ｘ２はカルボニル基を表わし、点線は
結合又は無結合を表わすか、又はＣＸ、Ｘｔはヒドロキ
シメチレン基および点線は無結合を表わし、更にＯＲ，
Ｒ’、Ｒ“および環Ｂは式Ｉで定義された意味と同じで
あるか又は基ＯＲ，Ｒ’、Ｒ’に変換できる基を表わし
、および／又は環８式■で定義された意味と同じである
） で表わされる化合物を、所望により基ＯＲ。

Ｒ’　、Ｒ“および／又は環Ｂ内で生じる同時還元を伴
いながら還元するか、又は ｂ）次式■： 以下余白 （式中、ＯＲ，Ｒ’、Ｒ“および環Ｂは式！で定義され
た意味と同じであるか又は基ＯＲ，Ｒ”。

Ｒ“に変換できる基を表わし、および／又は環８式Ｉで
定義された意味と同じである） で表わされる化合物を、所望により基ＯＲ。

Ｒ’　、Ｒ’および／又は環Ｂ内で生じる同時還元を伴
いながら還元するか、又は Ｃ）次式■： 以下余白 （式中、ＯＲ，Ｒ’　、Ｒ’および環Ｂは式■で定義さ
れた意味と同じであるか又は基ＯＲ，Ｒ’。

Ｒ“に変換できる基を表わし、および／又は環８式Ｉで
定義された意味と同じであり、）（ｅはアニオンである
） で表わされる化合物を、所望により基ＯＲ。

Ｒ’　、Ｒ“および／又は環Ｂ内で生じる同時還元を伴
いながら還元するか、又は ｄ）次式■： 以下金白 （式中、基ＮＲ，Ｒ，は第三アミノ基を表わし、更にＯ
Ｒ，Ｒ’、Ｒ“および環Ｂは式■で定義された意味と同
じであるか又は基ＯＲ，Ｒ’、Ｒ“に変換できる基を表
わし、および／又は環８式Ｉで定義された意味と同じで
ある） で表わされる化合物を、所望によりｉｏＲ。

Ｒ’　、Ｒ’および／又は環Ｂ内で生じる同時還元を伴
いながら還元するし、および／又は所望により、得られ
た式Ｉの化合物を他の式Ｉの化合物に変換しおよび／又
は得られた塩を遊離化合物又は他の塩に変換しおよび／
又は塩形成能を有する式Ｉの生成遊離化合物を塩に変換
し、および／又は立体異性体、又は光学異性体、例えば
ジアスチレオマー異性体混合物を、個々の立体異性体、
光学異性体又は対掌体混合物のそれぞれに分離し、およ
び／又は対掌体、混合物、例えばラセミ体を個々の光学
異性体に分割する。

プロセスａ）還元は、例えば水素化触媒、好ましくはＰ
ｄ／炭素、更に例えば白金又は二酸化白金の存在下水素
を用い、所望により促進剤、例えば酸、例えば無機酸、
例えば硫酸、塩酸又は過塩素酸、有機カルボン酸、例え
ば酢酸又はトリフルオロ酢酸、又は有機スルホン酸、例
えばフェニルスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸又は
メタンスルホン酸の存在中、所望により不活性の非極性
又は極性溶剤、又はそれ等の混合物の存在下、１〜５０
バールの水素圧で達成できる〔スザボ等、Ａｃｔａ　Ｃ
ｈｉＩｌｌ、＾ｃａｄ、ｓｃｉ、Ｈｕｎｇ、９０，３８
１（１９７６）；　Ｂｕｌｌ。

Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、Ｊａｐａｎ　３７，６０１，６０６
（１９６４）；＾ｕｓｔ、Ｊ、Ｃｈｅｍ。

３１．４５５（１９７８）；　Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
　Ｌｅｔｔ、　１９７３．１６５９参照〕。

式■（式中ＣＸ、Ｘ、はカルボニルを表わし、点線は結
合である）の化合物、即ち式■、：ｐ“ （式中ＯＲ，Ｒ’、Ｒ“及び環Ｂは式■で定義した意味
と同じである）のイソフラボン中間体を還元する別の可
能性は、タレメンゼン還元により、即ちアマルガム化さ
れた亜鉛、濃塩酸及び所望により例えば酢酸を用いて得
ることができる（Ｂｕｌｌ。

Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、Ｊａｐａｎ　３７．６０１，６０６
（１９６４）参照〕。

式■、のイソフラボンは、例えば１）次式■：以下令白 （式中ＯＲ，Ｒ’、Ｒ’及び環Ｂは式ｒで定義した意味
を有する）の化合物を、連化条件のもとギ酸誘導体と反
応させるか、又は ２）式■： ９＃ Ｉ （式中ＯＲ，Ｒ’、Ｒ“及び環Ｂは式Ｉで定義した意味
である）の化合物を、酸化的転位及び環化によりインフ
ラボンを形成する為の適当な試剤と反応させることによ
って調製できる。

プロセスｌ　反応は、式■の化合物の活性ＣＨ。

基とギ酸誘導体との縮合、並びにその後の連化反応から
なる。有用なギ酸誘導体は、例えばジメチルホルムアミ
ド、オルトギ酸トリエチル又はギ酸エチルである。使用
できる連化剤は例えば塩化メタンスルホニル／三フ７化
ホウ素エーテル化合物（、Ｊ、Ｃ，Ｓ、Ｃｈｅｍ、Ｃｏ
ｍｏ＋、１９７６．７８参照）、ＰＯＣｌ２　（Ｃ。

Ａ、８１．１３５８９０ｈ（１９７４）及びＣ，Ａ、８
１　、２５４９６ｂ　（１９７４）参照〕、ピリジン及
びとベリジン（Ｉｎｄｉａｎ　Ｊ。

Ｃｈｅｓ、１５旦、　２３８（１９７７）；　Ｃ，Ａ、
　８７．２２９７０ｑ（１９７７）参照〕、ＨＣｌ０ｎ
　［Ｊ、Ｃｈｅｓ＋、Ｒｅｓ、（Ｓ）１９７８．４７参
照〕又はナトリウム（Ｂｕｌｌ、Ｃｈｅ＋＋＋、Ｓｏｃ
、Ｊａｐ、５３．８３１（１９８０）；　Ｉｎｄｉａｎ
　Ｊ、Ｃｈｅｍ、　６．４８５（１９６８）参照〕であ
る。

式■の中間体は、式ｘ■； 以下余白 Ｉ　　ｉｌ　　　　　　（ｘ■）、 （式中ＯＲ，Ｒ’及びＲ“は式Ｉで定義した意味である
）のフェノールを、式ｘ■： Ｚ−Ｃ１（！＼／・＼ １Ｂ［１（ｘ■）、 ＼／。

（式中、Ｚは好ましくはシアノもしくはハロカルボニル
、特に−ＣＯＣＩであり、環Ｂは式■で定義した意味と
同じである） で表わされるフェニル酢酸誘導体を、ルイス酸触媒、例
えばハロゲン化金属、例えばＺｎＣ１ｚ　。

ＡＩＣｈ又はＦｅＣｌ３の存在下、ハウベンヘラシュ又
はフリーデルクラフトアシル化反応のもとてそれぞれ反
応させることにより調製できる（ＭｅｒｃｋＩｎｄｅｘ
、　１０ｔｈ　Ｅｄｉｔｉｏｎ、　０ＮＲ４６及び３３
参照〕。

式■の化合物を得る為の別の可能性は、例えばフリース
転位（Ｍｅｒｃｋ　Ｉｎｄｅｘ、　Ｌｏｔｈ　Ｅｄｉｔ
ｉｏｎ、　０ＮＲ３３参照〕であり、この転位は先に定
義じた式ｘｎの化合物を、式ＸＩ［［（式中Ｚはハロカ
ルボニルである）の化合物と、上記のルイス酸触媒の一
種で処理する条件のもとで式■のオルト−フェノール性
ケトンに転位するような対応したフェノール性エステル
をもたらすルイス酸触媒の存在下で、反応させることが
含まれる。

式■、： ｐ“ （式中ＯＲ，Ｒ’、Ｒ“及び環Ｂは式Ｉで定義した意味
である） の新規イソフラボンは、式Ｉの医薬的に活性なイソフラ
バンの調製に対し価値ある中間体であり、従って本発明
の別の態様を形成する。

中間体として特に好ましい化合物は、実施例で記載した
式■、の新規イソフラボンである。

プロセス２　環化は、タリウム（ＩＩＩ）塩、例えばＴ
Ｉ　（ＮＯ３）　３又はＴＩ（アセテート）、　（Ｊ、
＋Ｊｅｍ、Ｓｏｃ。

Ｐｅｒｋｉｎ　Ｔｒ、１１９７４．３０５　；　Ｊ、Ｃ
ｈｅｍ、Ｓｏｃ、　（Ｃ）１９７０．１２５又はＧａｚ
ｚ、Ｃｈｅｍ、Ｉｔａｌ、　１１２２８９（１９８２）
参照〕の存在下で、あるいは又、例えばアジ化水素〔＾
ｎｎ。

１ｓｔ、５ｕｐｅｒ、５ａｎｉｔａ（１９７３）、９．
Ｐｔ、　２−３．１７４−１７５参照〕を用いて達成さ
れる。式■の出発物質は、例えば対応するオルト−ヒド
ロキシ−アセトフェノンを所望により置換されたベンズ
アルデヒド、例えば塩基、例えば水酸化ナトリウムもし
くは水酸化カリウムの存在下で縮合させることにより調
製できる。

式■（式中ＣＸ、Ｘ、はカルボニルを表わし、点線は無
結合である）の化合物、即ち式■、二以下余白 のイソフラバノン中間体を、例えば式■１のイソフラボ
ン中間体の二重結合を、例えば第三アミン、例えばトリ
エチルアミンの存在下水素及びＰｄ／炭素触媒を用い、
あるいは又ジオキサン中水素及びＰｄ／炭素を用い、あ
るいは水性エタノール緩衝剤（ｐＨ９〜１０）の存在中
水素及びＰｄ／炭素を用いて選択的に還元することによ
り調製できる（スザボ等、＾ｃｔａ　Ｃｈｉｍ、＾ｃａ
ｄ、　　Ｓｃｉ、）ｌｕｎｇ。

皿、３８１　（１９７６）参照〕。

式■（式中ＣＸ、Ｘ２はヒドロキシメチレンを表わし、
点線は無結合である）の化合物、即ち式■ｃ：以下余白 のイソフラバノール中間体は、例えば水素及びラネイニ
ッケルを用い、あるいはエタノール中水素及びＰｄ／炭
素を用い、あるいは水性エタノール緩衝剤（ｐＨ３〜９
）中水素及びＰｄ／炭素を用いて例えば■、のイソフラ
ボン又は式■ゎのイソフラバノンを選択的に還元するこ
とにより調製できる（スザボ等、前記参照）。

プロセスｂ）プロセスｂ）に係る還元は、例えばプロセ
スａ）に対し先に掲げたと同じ還元手段、好ましくは水
素及びＰｄ／炭素を用いて行うことにより達成される。

弐■の出発物質は、例えば対応するクマリンのカルボニ
ル基を、例えばＫＢＨ。

（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ、　２Ａ、　３９
９３（１９８３）参照〕を用いて選択的に行うことによ
り調製できる。他の可能性は、式■の化合物を、先ずア
セチル化剤、例えば酢酸と反応させ次いで酢酸を除去す
ることによって得られる［Ｂｕｌｌ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ
、Ｊａｐ、３７，６０６（１９６４）参照］。

プロセスＣ）アニオンＸｅは、例えば強無機もしくは有
機酸のアニオン、例えばハロゲン化物、例えば塩化物で
あってよい。プロセスＣ）に係る還元は、例えばプロセ
スａ）に対し先に掲げたと同じ還元手段を適用すること
により、好ましくは水素／Ｐｔ及びＰｄ／炭素を用いて
行うことができる。式■の出発イソフラビリウム塩は、
例えば式ｘＨの化合物を所望により置換された２−フェ
ニルマロンジアルデヒドと酸性条件下、例えば塩酸の存
在中で反応させることにより得ることができる（Ａｕｓ
ｔｅｒ、Ｊ、Ｃｈｅｍ、３４．２６４７（１９８１）参
照〕。

プロセスｄ）基ＮＲ，Ｒ２は、好ましくはＮ、Ｎ−ジ−
低級アルキルアミノ、Ｎ−ピペリジノ、Ｎ−ピペラジノ
及び特にＮ−モルホリノを表わす。プロセスｄ）に係る
還元は、例えばプロセスａ）に対し先に掲げたと同じ還
元手段を適用することにより、好ましくは水素及びＰｄ
／炭素を用いて行われる。式■の出発物質は、例えば対
応するサリチルアルデヒドを、所望により置換された２
−第三アミノスチレンと加熱下で反応させることにより
得ることができる（Ｊ、Ｃｈｅ＋ａ、Ｓｏ、Ｐｅｒｋｉ
ｎ　Ｔｒａｎｓ。

ｌｕ録、１１９３参照〕。

もしも前述の中間体が妨害性の反応性基、例えばカルボ
キシ、ヒドロキシ、アミノもしくはメルカプト基を含有
する場合、それ等は好都合には如何なる工程でも容易に
除去できる保護基により一時的に保護され得る。特定の
保護に対する保護基の選択は、数種の因子、例えば保護
されるべき官能基の性質置換基が官能基である分子の安
定性及び反応条件に依存する。これ等の条件及びこれ等
の導入及び除去に合致する保護基は当業者に周知であり
更に例えばＪ、Ｆ、Ｗ、マクミー（ｒＰｒｏｔｅｃｔｉ
ｖｅＧｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉ
ｓｔｒｙＪ　、プレナムプレス、ロンドン、ニューヨー
ク１９７３）に記載されている。

反応条件に応じて、式Ｉの化合物は遊離の形態であるい
は又その塩の何れかとして得られる。得られた塩基は、
好ましくは治療的に有用な酸又はアニオン交換調製品を
用いて酸付加塩に交換でき、あるいは得られた塩は例え
ば、強塩基例えば金属もしくはアンモニウム水酸化物又
は塩基性基、例えばアルカリ金属水酸化物もしくは炭酸
塩、又はカチオン交換調製品を用いて対応する遊離塩基
に交換できる。一方、酸性基、例えばカルボキシもしく
はフェノール性ヒドロキシ基を含有する式ｉの化合物は
、塩基例えばアルカリ金属水酸化合物もしくはアルコキ
シド、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属塩、例え
ば炭酸水素ナトリウム、アンモニア、又は適当な有機ア
ミンで処理することにより自体公知の方法で塩に交換で
きる。遊離化合物は、酸を用いこれ等の塩を処理するこ
とにより得ることができる。遊離化合物及びそれ等の塩
の形態における化合物の間には密接な関係があることか
ら考慮すれば、化合物とはこの意味に関する限り対応す
る塩も又意味するものとする。但しそのようなことが一
定条件下可能であるか又は適当な場合に限られる。

式Ｉの化合物は、３位少なくとも１個の不整炭素を有し
、更にＲ−もしくはＳ一対掌体並びにそれ等の対掌体混
合物、例えばラセミ体として見い出され得る。本発明は
、全てのこれ等の形態、あるいは更にこれ等の異性体、
及び少なくとも二種の異性体混合物、例えばジアステレ
オマー異性体混合物又は対掌体混合物を含むものとして
意図され、これ等はもしも一種又はそれ以上の不整中心
が分子内に存在する場合にも可能である。ジアステレオ
マー異性体の生成混合物、ラセミ体もしくは幾何異性体
の生成混合物は、公知の方法で成分の物理化学的差違に
基づいて個々のジアステレオマー異性体、ラセミ体、幾
何異性体に、例えばクロマトグラフィー法及び／又は分
別結晶法により分離できる。

生成対掌体混合物、例えばラセミ体は公知の方法により
、例えば光学活性溶剤から再結晶により、又は微生物を
用い、あるいは又例えば酸性の目的生成物を、ラセミ体
の酸との塩を形成し得る光学活性塩基と反応させること
により更にこの方法で得られた塩を例えば分別結晶によ
り、光学活性カルボン酸対掌体が酸性下で遊離されるよ
うなジアステレオマー異性体の塩に分離することによっ
て分割できる。

上記の反応は、希釈剤、好ましくは試剤及びその溶剤に
対し不活性であるようなものの存在もしくは非存在下で
、触媒の存在もしくは非存在下で、縮合もしくは該他の
試剤の存在もしくは非存在下で及び／又は不活性雰囲気
中、低温、室温ないし高温で、例えば−２０℃〜＋２０
０℃、好ましくは室温ないし用いる溶剤の沸点温度で更
に大気圧もしくは加圧下で行うことができる。好ましい
溶剤、触媒及び反応条件は実施例で記載したものである
。

塩を含む本発明の化合物は、又はそれ等の水和物の形態
で得ることもでき、あるいはその結晶化の為使用される
他の溶剤を含有できる。

更に本発明は本発明のプロセスの如何なる変法も含み、
このプロセスにおいてその任意の段階で得ることのでき
る中間生成物は、出発物質として使用され更に残りの工
程が実施されるか、あるいはプロセスはその任意の工程
で中断され、あるいはそのプロセスにおいて出発物質は
反応条件のもとで形成され、あるいはプロセスにおいて
反応成分は塩又は光学的に純粋な対掌体の形態で用いら
れる。主にこれ等の出発物質はその反応において使用さ
れねばならず、この出発物質は特に有用なものとして先
に掲げたこれ等の化合物の形成に導かれる。本発明は又
、新規な出発物質並びにそれ等の製法に関する。

本発明の医薬として許容され得る化合物は、例えば有効
量の有効成分のみあるいは又無機もしくは有機の固体も
しくは液体の医薬として許容され得る担体と共に含有す
る医薬組成物の製造に対し使用できる。医薬製剤は、ヒ
トを含む温血動物に対し、例えば経腸、例えば経口もし
くは直腸、局所、経皮的及び非経口的例えば腹腔内、筋
肉内もしくは静脈内投与用として使用できる。

経口投与に対し、例えば錠剤もしくはゼラチンカプセル
剤が使用できこれは有効成分と共に希釈剤、例えばラク
トース、デキシトロース、スクロース、マニトール、ソ
ルビトール及び／又はセルロース、及び潤滑剤、例えば
シリカ、タルク、ステアリン酸もしくはその塩、例えば
ステアリン酸マグネシウムもしくはカルシウム、及び／
又はポリエチレングリコールを含有し；更に又錠剤は、
結合剤、例えば澱粉、例えばとうもろこし、小麦、米又
は葛粉澱粉、ゼラチン、トラガカント、メチルセルロー
ス、ナトリウムカルボキシメチルセルロース及び／又は
ポリビニルピロリドン、及び所望により崩壊剤、例えば
澱粉、寒天、アルギン酸もしくはその塩、例えばアルギ
ン酸ナトリウム及び／又は例えば起泡剤混合物、吸着剤
、着色剤、香料及びと甘味剤を含有する。

非経口投与に対し、特に注入溶液、好ましくは等張水溶
液もしくは懸濁液が適当であり、これ等は使用前に、例
えば有効成分のみあるいは担体、例えばマニトールと共
に含有する凍結調製品から調製することが可能である。

このような調製品、は滅菌され更に／又は補助剤、例え
ば保存剤、安定剤、湿潤前及び／又は乳化剤、溶解剤、
浸透圧調整用の塩及び／又は緩衝剤を含有する。

局所及び経皮投与に対し、好ましくはヒドロゲル、エマ
ルション、例えばクリーム及び軟膏、並びに微小乳化剤
、例えば等方性の透明エマルションゲルが用いられる。

このような調製品は有効成分と共に、例えば保存剤、安
定化剤、粘稠剤、乳化剤、オイル、溶解剤及び針入促進
剤を含有する。

本発明の医薬製剤は、所望により他の薬理活性成分を含
有できる。又本発明の製剤は自体の公知の方法により、
例えば通常の混合、粒状化、タブレット成形、フィルム
コーチング、溶解、糖皮がけ又は凍結乾燥プロセスによ
って製造でき、更に約０．１〜１００％、特に約１〜約
５０％の有効成分を含有し、凍結乾燥の場合には１００
％までの有効成分を含有する。

疾患のタイプ、生物の個々の条件及び投与形態に応じて
、体重約７０ｋｇの混血動物（ヒト又は動物）の治療に
対し投与すべき日用量は、約０．０５ｇ〜約４ｇである
。

次の例ａ）〜ｆ）は、幾つかの典型的投与製品の製造を
説明するが、これ等の投与形態の唯一の態様のみを表わ
すものではない。

ａ）　　２５０ｇの有効物質を、５５０ｇのラクトース
、１００ｇのマイクロクリスタリンセルロース及び１０
０ｇのとうもろこし澱粉と混合し、次いで混合物を１０
０ｇのとうもろこし澱粉の水性ペーストで湿らし、更に
篩を通して粒状化する。乾燥後、６０ｇのタルク、１０
ｇのステアリン酸マグネシウム及び２０ｇのコロイドシ
リカを添加し、次いで混合物をプレスして、各々が１１
９■の重量でありかつ２５曙の有効成分を含有する１０
，０００個の錠剤を形成し、これ等は所望により用量を
より細かに調節する為割れ目をつけることもできる。

ｂ）　　１００ｇの有効物質、６００　ｇのラクトース
、３００ｇのセルロース、２００ｇのとうもろこし澱粉
及び１２０ｇのとうもろこし澱粉の水性ペーストから顆
粒剤を調製する。乾燥後、これを３０ｇのコロイドシリ
カ、９０ｇのタルク及び１５ｇのステアリン酸マグネシ
ウムと混合し次いで１０．０００個のフィルムコートコ
アーを形成する為加工する。引キ続き２０ｇの低置換ヒ
ドロキシプロピルメチルセルロース、１５ｇのタルク及
び１０ｇの二酸化チタンの水性懸濁液でコートし次いで
乾燥する。

得られたフィルムコート錠剤は各々重量１５０■を有し
、１０■の有効物質を含有する。

ｃ）　５，０００−の蒸留水に溶解した５、０ｇの有効
物質の滅菌溶液を、５ｍｌのアンプルに導入し、このア
ンプルは５ｍｌの溶液中に５■の有効成分を含有する。

ｄ）２５ｇの有効物質並びに１９７５　ｇの微粉細の坐
剤基剤（例えばココロップター）を完全に混合し次いで
溶融させる。２ｇの１０００個の坐剤を、撹拌して均一
に保持したメルトから成形する。これ等は各々２５■の
有効物質を含有する。

ｅ）２５ｇの有効物質及び１２０ｇの顆粒状ラクトース
、例えばＴａｂｌｅｔｔｏｓｅ　（商標）、９５ｇのマ
イクロクリスタリンセルロース、例えばＡｖｉｃｅｌ（
商標）　Ｐ）ｌ−１０２，７ｇのコロイドシリカゲル及
び３ｇのステアリン酸マグネシウムを密に混合する。得
られた粉末を篩にかけ次いで２５０■部門を１０００個
のゼラチンカプセルに充填する。

ｒ）　　４００ｇの有効物質を、７０ｇの保存剤、例え
ばメチルパラベン、及び５３０ｇの粘稠剤、例えばカル
ボマー９４０、更に対応する量のＩＮ水酸化ナトリウム
溶液の添加と共に２４１の蒸留水に分散する。６０００
　ｇのベテロラタムを、６０００　ｇの脂肪アルコール
、例えばステアリルアルコールと共に、３０００　ｇの
乳化剤、例えばポリオキシエチレンソルビタンモノラウ
レートの添加と共に混合する。油相及び水相の両方を別
々に７０℃に加熱し、次いで両者を一緒にする。均質に
して冷却した後、１０００個のチューブに、各々４０ｇ
のＯ／Ｗ型の軟膏を充填する。

以下の実施例は本発明を説明するが、本発明がこれに限
定されないことはもとよりである。温度は℃を表わす。

例１〜７において、式■の０−ヒドロキシフェニル−ベ
ンジル−ケトン出発物質の調製が開示される。例８〜１
７は式１１ａのイソフラボン中間体の調製を示す。例１
８〜３５においては、式Ｉのイソフラバンの調製を示す
。例３６〜７１は、対応する出発物質及び中間体を含む
式Ｉのイソフラバンの調製を示す。

〔実施例〕

例１ １．２．４−）リヒドロキシベンゼン（４０，３ｇ　）
を、乾燥ＺｎＣ１ｚ（３８，２ｇ）及び４−メチルフェ
ニルアセトニトリル（４９，８ｇ　）を含有する乾燥ジ
エチルエーテル（２５０ａｆ）に懸濁させる。懸濁液を
０℃で６時間乾燥塩化水素の流にさらし、連続撹拌しな
がら懸濁液内にガスを吹き込む。次いで反応混合物を４
℃で５０時間保持し、しかる後上澄み液を重質のオイル
からデカントし、オイルを分離する。オイルをジエチル
エーテルで二回洗浄し、次いで水（１１）で洗浄し、更
に濃塩酸（２０ｍ７）を添加し、次いで混合物を１時間
加熱還流する。室温に冷却後、混合物をジエチルエーテ
ル（３Ｘ　２５０−）で抽出する。−緒にしたエーテル
溶液を水酸化ナトリウム２Ｎ溶液（３ｘ１００　ｍＺ）
で抽出する。

アルカリ性抽出物を、濃塩酸で酸性にし、混合物を氷で
冷却する。粗製生成物を濾別し次いでメタノール／水か
ら再結晶する。生成物を一定重量以内まで真空下で乾燥
し、融点１７３℃を有する２゜４．５−）ジヒドロキシ
フェニル−４′−メチルベンジルケトンを得る。

例２ 例１と同様に行うが、１．２．４−トリヒドロキシベン
ゼンの代りにピロガロール（３９，１ｇ）　　。

５２．５ｇの４−メチルフェニルアセトニトリル及び４
１．０　ｇのＺｎＣ１□を用いる。懸濁液を、０℃で１
０時間塩化水素流にさらす。２，３．４−）ジヒドロキ
シフェニル−４′−メチルベンジルケトンを融点１４８
°で得る。

例３ 例１と同様に行うが、１，２．４−１−リヒドロキシベ
ンゼンの代りに２，６−シヒドロキシトルエン（２４，
８ｇ）　、２７．５ｇのメチルフェニルアセトニトリル
及びＺｎＣｌ２の代りにＡｌＣｌ＋（２６，７ｇ　）を
用いる。懸濁液を０℃で１６時間塩化水素ガス流にさら
す。反応混合物を室温に冷却し、ジエチルエーテルの代
りにクロロホルムで抽出する。クロロホルム抽出物を少
量になるまで、蒸発させた後、結晶生成物を得る。乾燥
後、２．４−ジヒドロキシ−３−メチルフェニル−４′
−メチルベンジンケトンを融点１５４°で得る。

例４ 例１と同様に１．２．４−トリヒドロキシベンゼンの代
りに２，６−シヒドロキシトルエン（４９，６ｇ）　、
４−メチルフェニルアセトニトリルの代りに３．４−ジ
メキシフェニルアセトニトリル（７０，９ｇ　）及び４
７．７ｇのＺｎＣ１ｇを用いる。懸濁液を０℃で６時間
塩化水素ガス流にさらす。２゜４−ジヒドロキシ−３−
メチルフェニル−３′。

４′−ジメトキシベンジルケトンを融点１６８〜１７０
°で得る。

例５ 例１と同様に行うが、１，２．４−）リヒドロキシベン
ゼンの代りに２．６−シヒドロキシトルエン（４４，７
ｇ）　、４−メチルフェニルアセトニトリルの代りに４
−クロロフェニルアセトニトリルを（５４，６ｇ）及び
４７．７ｇのＺｎＣ１ｚを用いる。懸濁液を０℃で１２
時間塩化水素ガス流にさらす。２゜４−ジヒドロキシ−
３−メチルフェニル−４′−クロロペンジルケトンを融
点１６７°で得る。

例６ 例１と同様に行うが、４５．４ｇの１．２．４−１−リ
ヒドロキシベンゼン、４−メチルフェニルアセトニトリ
ルの代りに４−クロロフェニルアセトニトリル（５６，
１ｇ　）及びＺｎＣｌ２の代りにＡＩＣｈ（４４，７ｇ
　）を用いる。懸濁液Ｏ℃で１２時間塩化水素ガス流に
さらす。粗製物質をカラムクロマトグラフィー（シリカ
ゲル；クロロホルム）により精製する。２．４．５−ト
リヒドロキシフェニル−４′−クロロベンジルケトンを
融点１７０°で得る。

例７ 例工と同様に行うが、１，２．４−）リヒドロキシベン
ゼンの代りに２．６−シヒドロキシト、ルエン（１４，
９ｇ）　、４−メチルフェニルアセトニトリルの代りに
４−ニトロフェニルアセトニトリル（１９，５ｇ　）及
びＺｎＣ１ｚの代りにＡ１ｃ＋５（１３，３ｇ）を用い
る。懸濁液０℃で１２時間塩化水素流にさらす。２．４
−ジヒドロキシ−３−メチルフェニル−４′−ニトロベ
ンジルケトンを融点１９０〜１９２゜で得る。

例８ ２．４．５−トリヒドロキシフェニル−４′−メチルベ
ンジルケトン（３，９ｇ）を乾燥ジメチルホルムアミド
（５０ｍｊ）に溶解する。この溶液に、三フッ化ホウ素
−ジエチルエーテル化合物（７，４ｇ）を滴下する。反
応は発熱的である。温度を５０°に調節した後、乾燥ジ
メチルホルムアミド（２５＋ｎＺ）に溶解したメタンス
ルホニルクロリド（５，２ｇ）の溶液を滴下する。この
混合物を、９０〜１００°で２時間加熱し、室温に冷却
し、水（５００ｍ／）に注ぎ、 この間撹拌する。分離した生成物を濾別し、水で洗浄し
、メタノールから再結晶する。生成物を一定重量になる
まで真空下で乾燥し、６．７−ジヒドロキシ−３−（４
−メチルフェニル）　−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オンを融点２８０°で得る。

例９ 例８と同様に行うが、２，４．５−トリヒドロキシフェ
ニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに２．３．４
−トリヒドロキシフェニル−４′−メチルベンジルケト
ンを用いる。７．８−ジヒドロキシ−３−（４−メチル
フェニル”）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを融
点２２５°で得る。

例１０ 例８と同様に行うが、２，４．５−）ジヒドロキシフェ
ニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに２．４−ジ
ヒドロキシ−３−メチルフェニル−４′−メチルベンジ
ルケトンを用いる。７−ヒドロキシ−８−メチル−３−
（４−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オンヲ融点２６４〜２６７°で得る。

以下余白 例１１ 例８と同様に行うが、２．４．５−トリヒドロキシフェ
ニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに２．４−ジ
ヒドロキシ−３−メチルフェニル−４′−メトキシベン
ジルケトン（Ｊ、Ｉｎｄｉａｎ　Ｃｈｅｍ。

Ｓｏｃ、３９．　（１９６２）　）を用いる。７−ヒド
ロキシ−８−メチル−３−（４−メトキシフェニル）−
４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを融点２３５°で得
る。

例１２ 例８と同様に行うが２．４．５−トリヒドロキシフェニ
ル−４′−メチルベンジルケトンの代すに２．４−ジヒ
ドロキシ−３−メチルフェニル−３′，４′−ジメトキ
シベンジルケトンを用いる。

７−ヒドロキシ−８−メチル−３−（３，４−ジメトキ
シフェニル）−４Ｈ−１−ペンツピラン−４−オンを融
点２３４°で得る。

例１３ 例８と同様に行うが２．４．５−トリヒドロキシフェニ
ル−４′−メチルベンジルケトンの代りに２．４−ジヒ
ドロキシ−３−メチルフェニル−４′−クロロベンジル
ケトンを用いる。７−ヒドロキシ−８−メチル−３−（
４−クロロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オンを融点２７５゜で得る。

例１４ 例８と同様に行うが、２，４．５−トリヒドロキシフェ
ニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに２．４．５
−）ジヒドロキシフェニル−４′−クロロベンジルケト
ンを用いる。６．７−ジヒドロキシ−３−（４−クロロ
フェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを融点
２９９°で得る。

例１５ 例８と同様に行うが、２．４．５−１−ジヒドロキシフ
ェニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに２．４−
ジヒドロキシ−３−メチルフェニル−４′−ニトロベン
ジルケトンを用いる。７−ヒドロキシ−８−メチル−３
−（４−ニトロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−
４−オンヲ融点３４５°で得る。

例１６ ツーヒドロキシ−８−メチル−３−（３，４−ジメトキ
シフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン（例
１２参照）　　（３，１２ｇ）を、ジメチルホルムアミ
ド（１５ｍ／）に溶解し次いでに、ＣＯ。

（３，５ｇ）を溶液に添加する。撹拌しながらエビブロ
モヒドリン（２，４７ｇ　）を混合物に滴下する。

６０°で５時間加熱後、反応フラスコの内容物を、水（
５００■）に注ぎ、沈澱した生成物を濾別し次いでエタ
ノールから再結晶する。生成物を一定重量になるまで真
空下で乾燥し、？−（２，３−エポキシプロポキン）８
−メチル−３−（３，４−ジメトキシフェニル’）−４
８−１−ベンゾピラン−４−オンを融点２１４゛で得る
。

例１７ ６．７−メチレンジオキシ〜３−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン〔日本化学
雑誌８５．７９３　（１９６４）　、　Ａｇｒ、Ｂｉｏ
ｌ、Ｃｈｅｍ。

（Ｔｏｋｙｏ）　３２，７４０（１９６８）及びＡｎｇ
ｅｗ、Ｃｈｅｍ、　９３，１２９（１９８１）参照）（
２，０ｇ）を溶液に添加する。撹拌しながら、２−ブロ
モエチルブチレート（２，７ｇ）を混合的に滴下する。

反応フラスコの内容物を３０分間還流する。冷却後、水
（５０ｍ７）を添加し、次いで混合物をクロロホルム（
３Ｘ３０ｍｆ）で抽出し、抽出物を水（３ｘ１５ｍ／）
で洗浄し次いで硫酸ナトリウムで乾燥する。クロロホル
ムを減圧下で除去し、残留物をメタノールから再結晶す
る。生成物を一定量になるまで真空下で乾燥し、６．７
−メチレンジオキシ−３−（４−（１−エトキシカルボ
ニル−１−プロピルオキシ）−フェニルクー４Ｈ−１−
ベンゾピラン−４−オンを融点１９９〜１２１°で得る
。

例１８ ジオキサン及びエタノール１：１混合物（１２５０ｍ７
）に溶解した６、７−ジヒドロキシ−３−（３゜４−ジ
メトキシフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オ
ン（Ｉｎｄｉａｎ　Ｊ、Ｃｈｅｍ、５ｅｃｔ、Ｂ１９Ｂ
、８２（１９８０）及びＩｎｄｉａｎ　Ｊ、Ｃｈｅｍ、
５ｅｃｔ、Ｂ１５Ｂ　１０１０４９（１９７７））（２
５を、常圧で及び室温で８日間濃硫酸（２，５ｍＺ）の
存在下活性炭（２，５ｇ）に担持したパラジウム１０％
を用い水素化する。結晶を濾過した後、濾液を減圧下で
蒸発させ約５０−の容量となし、次いで濁りが現れるま
で水で希釈する。

溶液を冷却後、固形物が沈澱する。これを濾別し、エタ
ノールから再結晶する。生成物を一定重量になるまで真
空下で乾燥し、３．４−ジヒドロ−６゜７−ジヒドロキ
シ−３−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−１−
ペンゾピランヲ融点１５３゜で得る。

例１９ 例１８と同様に、化学試剤の同じ割合を用いるが、６．
７−ジヒドロキシ−３−（３，４−ジメトキシフェニル
）−４）（−１−ベンゾピラン−４−オンの代りに６．
７−ジヒドロキシ−３−（４−メチルフェニル）−４８
−１−ベンゾピラン−４−オン（１６ｇ）を用いる。物
質を２４時間水素化し、３．４−ジｔドロー６．７−ジ
ヒドロキシ−３−（４−メチルフェニル）−２Ｈ−１−
ベンゾピランを融点１６６°で得る。

以下余白 例２０ 例１８と同様に試剤の同じ割合を用いるが、６゜７−ジ
ヒドロキシ−３−（３，４−ジメトキシフェニル）−４
Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンの代りに６．７−メチ
レンジオキシ−３−（４−メトキシフェニル”）−４Ｈ
−１−ベンゾピラン−４−オン〔日本化学雑誌顧、７９
３（１９６４）　）　　（１７ｇ）を用いる。物質を２
日間水素化する。３．４−ジヒドロ−６，７−メチレン
ジオキシ−３−（４−メトキシフェニル）−２Ｈ−１−
ベンゾピランを融点１３１°で得る。

例２１ 例１８と同様に、試剤の同じ割合を用いるけれども、６
，７−ジヒドロキシ−３−（３，４−ジメトキシフェニ
ル）−４Ｈ−１−ベンゾピア１７−４−オンの代りに７
，８−ジヒドロキシ−３−（４−メトキシフェニル）−
４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン（Ｊ、Ｓｃｉ、Ｉｎ
ｄ、Ｒｅ５ｅａｒｃｈ（Ｉｎｄｉａ）江紅３３４（１９
６１）　）　　（５ｇ）を用いる。物質を７日間水素化
する。３．４−ジヒドロ−７，８−ジヒドロキシ−３−
（４−メトキシフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピランを
融点１５６°で得る。

例２２ 例１８と同様に試剤の同じ割合を用いるけれども、６．
７−ジヒドロキシ−３−（３，４−ジメトキシフェニル
）　−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンの代りに７．
８−ジヒドロキシ−３−（３゜４−ジメトキシフェニル
）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン（Ｔｅｔｒａｈ
ｅｄｒｏｎ　１８，１４４３（１９６２）　）（１０ｇ
）を用いる。物質を７日間水素化する。３゜４−ジヒド
ロ−７，８−ジヒドロキシ−３−（３゜４−ジメトキシ
フェニル）　−２Ｈ−１−ベンゾピランを融点１７６°
で得る。

例２３ 例１８と同様に、試剤の同じ割合を用いるが、６．７−
ジヒドロキシ−３−（３，４−ジメトキシフェニル）−
４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンの代りに、７．８−
ジヒドロキシ−３−（４−メチルフェニル）−４Ｈ−１
−ベンゾピラン−４−オン（１，９ｇ）を用いる。物質
を２３時間水素化する。３．４−ジヒドロ−７，８−ジ
ヒドロキシ−３−（４−メチルフェニル）−２Ｈ−１−
ベンゾピランを融点１６４°で得る。

例２４′ 例１８と同様に、試剤の同じ割合を用いるが、６．７−
ジヒドロキシ−３−（３，４−ジメトキシフェニル）−
４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンの代りに、７−ヒド
ロキシ−８−メチル−３−（３，４−ジメトキシフェニ
ル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン（ｌｏｇ）を
用いる。物質を１０日間水素化する。３．４−ジヒドロ
−７−ヒドロキシ−８−メチル−３−（３，４−ジメト
キシフェニル）　−２Ｈ−１−ペンゾピランヲ融点１２
５〜１２７°で得る。

例２５ 例１８と同様に、試剤の同じ割合を用いるが、６．７−
ジヒドロキシ−３−（３，４−ジメトキシフェニル）−
４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンの代りに、７−ヒド
ロキシ−８メチル−３−（４−クロロフェニル）−４Ｈ
−１−ベンゾピラン−４−オン（５ｇ）を用いる。物質
を５日間水素化する。３．４−ジヒドロ−７−ヒドロキ
シ−８−メチル−３−（４−クロロフェニル）−２Ｈ−
１−ベンゾピランを融点１５９°で得る。

例２６ ジオキサン及びエタノール１：１混合物（２００ｄ）に
溶解した７−ヒドロキシ−８−メチル−３−（４−メチ
ルフェニル’）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン（
４００ｍｇ）を、ｐ−トルエンスルホン酸−水和物（１
２０■）の存在下活性炭（１００■）に担持したパラジ
ウム１０％の存在下室温で６４時間水素化する。触媒を
濾過した後、濾液を減圧下で蒸発させ約５０ｒｄの容量
にする。水（１５０ａＯを添加し、溶液をジクロロメタ
ン（３ｘｌＯＯａＺ）で抽出する。−緒にした有機溶液
を水で洗浄し、乾燥し次いで蒸発させる。生成物を一定
重量になるまで真空下で乾燥し、３，４−ジヒドロ−７
−ヒドロキシ−８−メチル−３−（４−メチルフェニル
）−２Ｈ−１−ベンゾピランを融点１３６〜１３７°で
得る。

例２７ 例２６と同様に行うが、７−ヒドロキシ−８−メチル−
３−（４−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン
−４−オンの代りに、７．８−ジヒドロキシ−３−（４
−ヒドロキシフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オン（Ｊ、Ｓｃｉ、　Ｉｎｄ。

Ｒｅ５ｅａｒｃｈ（Ｉｎｄｉａ）　２０Ｂ、３３４（１
９６１）　）　（５４０ｗ）を用いる。水を添加すると
結晶性沈澱物が得られる；これを濾別し次いで水で洗浄
する。３．４−ジヒドロ−７，８−ジヒドロキシ−３−
（４−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピラン
を融点２２５〜２２６°で得る。

例２８ 例２６と同様に行うが、７−ヒドロキシ−８−メチル−
３−（４−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン
−４−オンの代りに、７−ヒドロキシ−８−メチル−３
−（４−メトキシフェニル）−４８−１−ベンゾピラン
−４−オン（２８■）を用いる。水を添加すると結晶性
沈澱物が得られる；ごれを濾別し次いで水で洗浄する。

３．４−ジヒドロー７−ヒドロキシ−８−メチル−３−
（４−メトキシフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピランを
融点１４０〜１４１°で得る。

例２９ 例２６と同様に行うが、７−ヒドロキシ−８−メチル−
３−（４−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン
−４−オンの代りに、６．７−メチレンジオキシ−３−
（４−（１−エトキシカルボニル−１−プロピルオキシ
）−フェニル〕＝４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン（
２５■）を用いる。触媒を濾過後、溶剤を蒸発させ、次
いで残留物を溶離剤としてジクロロメタンを用いシリカ
ゲルによるカラムクロマトグラフィー法で精製する。３
．４−ジヒドロ−６，７−メチレンジオキシ−３−（４
−（１−エトキシカルボニル−１−プロピルオキシ）−
フェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピランを油状物として得
る； ’Ｈ−ＮＭＲ（ｄ、−Ｄ？ｌ５Ｏ）　：δ＝６．９．７
．０．７．４（ｄ）、　７．６（ｄ）〔６Ｈ１芳香族水
素］　；　３．４（Ｉｌｌ、２１＋、ＣＨ２）；　２．
５（ｍ、２Ｈ。

ＣＨｚ）ｉ　１．８（ｔ、３８．ＣＨｚ）；　１．６（
ｔ、３１１．ＣＬ）、　ＭＳ：Ｑｌ／ｅ＝３８４（Ｍ”
　）ｍ 例３０ ジオキサン／エタノール１：１混合物（２００ｍりに溶
解した７−ヒドロキシ−８−メチル−３−（４−ニトロ
フェニル）−４Ｈ−１−ペンソヒランー４−オン（４４
０■）を、ラネイニッケル（２００■）で室温で１５時
間水素化する。触媒を濾過後、濾液を減圧下で、蒸発さ
せる。残留物をエタノール（７５ｍＺ）に熔解し次いで
ｐ−トルエンスルホン酸−水和物（７６０躍）の存在下
活性炭（２００■）に担持したパラジウム１０％を用い
室温で１５時間水素化する。触媒を濾過後、濾液を減圧
下で蒸発させる。残留物を水（１００ｒｄ）に溶解する
。溶液を、飽和炭酸水素ナトリウム溶液を添加してｐＨ
７，５に中和し、酢酸エチル（３Ｘ５０ａｆ）で抽出す
る。−諸にした有機溶液を、水（２Ｘ２０ｍＺ）で洗浄
し、Ｍｇ５Ｏ。

で乾燥し次いで蒸発させる。残留物を溶離液としてジク
ロロメタン／酢酸エチル１：１を用いシリカゲルによる
カラムクロマトグラフィー法で精製する。生成物を一定
重量になるまで真空下で乾燥し、３．４−ジヒドロ−７
−ヒドロキシ−８−メチル−３−（４−アミノフェニル
）−２８−１−ベンゾピランを融点１５０〜１５１°で
得る。

例３１ ３．４−ジヒドロ−６，７−ジヒドロキシ−３−（４−
メトキシフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピラン〔米国特
許４，２６４．５０９参照）　　（ＩＱ、Ｏｇ　）を、
乾燥ピリジン（３０ｍｌ＞に溶解し、次いで無水酢酸（
３０ｒｎ１）を添加する。溶液を室温で４８時間保持す
る。ピリジン及び過剰の試剤を減圧下でエタノールと共
に蒸発して除去する。残留物を、溶離剤としてクロロホ
ルムを用いたシリカゲルによるカラムクロマトグラフィ
ー法により精製する。粗製生成物をメタノールから再結
晶する。生成物を一定重量になるまで真空下で乾燥し、
３．４−ジヒドロ−６，７−ジアセトキシ−３−（４−
メトキシフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピランを融点１
０４°で得る。

例３２ 例３１と同様に行うが、３，４−ジヒドロ−６，７−ジ
ヒドロキシ−３−（４−メトキシフェニル）−２Ｈ−１
−ベンゾピランの代りに、３゜４−ジヒドロ−６，７−
ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニル）−２８
−１−ベンゾピラン（Ｐｈｙｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　
２３　、２２０３（１９８４）及び米国特許４，２６４
，５０９参照）　　（１０，３ｇ）を用いる。３．４−
ジヒドロ−６，７−ジアセトキシ−３−（４−アセトキ
シフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピランを融点１４５〜
１４７°で得る。

例３３ 例３１と同様に行うが、３．４−ジヒドロ−６，７−ジ
ヒドロキシ−３−（４−メトキシフェニル）−２Ｈ−１
−ベンゾピランの代りに、３゜４−ジヒドロ−６，７−
ジヒドロキシ−３−フェニル−２Ｈ−１−ベンゾピラン
〔米国特許４．２６４．５０９参照）（９，７ｇ）を用
いる。３．４−ジヒドロ−６，７−ジアセトキシ−３−
フェニル−２Ｈ−１−ベンゾピランを融点１０２°で得
る。

例３４ トリエチルアミン（４，０ｇ）及びジクロロジフエニル
メタン（３，５ｇ）を、１％の水を含有するピリジン（
５０ｍ７）に溶解した３、４−ジヒドロ−６゜７−ジヒ
ドロキシ−３−（４−メトキシフェニル）−２Ｈ−１−
ベンゾピラン〔米国特許４，２６４．５０９参照）（１
，４ｇ）の溶液に添加する。溶液を５０゜で６時間加温
し、次いで水及び５Ｎ塩酸２：１混合物（１５０ｍｌ）
に注ぐ。これをジクロロメタン（３×５０−）で抽出し
次いで一緒にした有機溶液を水で洗浄する。溶剤を減圧
下で蒸発乾固する。残留物をエタノールから再結晶する
。一定重量になるまで真空下で乾燥した後、３．４−ジ
ヒドロ−６゜７−シフエニルメチレンジオキシー３−（
４−メトキシフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピランを融
点１３８〜１３９°で得る。

例３５ トリエチルアミン（２，０２ｇ　）及び３．４−ジヒド
ロ−７，８−ジヒドロキシ−３−（３，４−ジメトキシ
フェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピラン〔例２２参照）　
　（０，７５ｇ　）を１％の水を含有するピリジン（２
０ａ／）に溶解する。ピリジン（５Ｐｎｌ）に溶解した
ジクロロジフェニルメタン（１，７７ｇ）の溶液をゆっ
くり添加する。混合物を７０’で４時間加熱する。溶液
を水（２５０ｍ７）に注ぎ、真空下で約１００　ｍ７の
容量になるまで蒸発する。次いで酢酸メチル（３Ｘ１０
０−’）で抽出し、−緒にした有機溶液を水（２×５０
ｍＺ）で洗浄し、次いで減圧下で蒸発乾固する。残留物
を、溶離剤としてジクロロメタン／ヘキサン１：１を用
いシリカゲルによるカラムクロマトグラフィー処理によ
り精製する。生成物をヘキサンから再結晶する。真空下
で一定重量になるまで乾燥後、３．４−ジヒドロ−７，
８−ジフェニルメチレンジオキシ−３−（３，４−ジメ
トキシフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピランを融点１３
７〜１３８°で得る。

例３６ エタノール／ジオキサン２：１混合物（７５ａｆ）に溶
解した、７．８−ジヒドロキシ−３−（３−メチルフェ
ニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン（１００■
）を、ｐ−）ルエンスルホン酸−水和物（５０■）の存
在下活性炭（５０■）を担持したパラジウム１０％を用
い室温で２４時間水素化する。触媒を濾過後、濾液を真
空下で最少容量まで蒸発させ、水（７５ａ／）で希釈し
、炭酸水素ナトリウムの飽和溶液を添加してｐＨ７に中
和する。油状物を得、これを酢酸エチルで抽出する。抽
出物を硫酸マグネシウムで乾燥し、真空下で蒸発させ、
無定形の固体を得、これを塩化メチレンに溶解し次いで
シリカゲルカラムに流す。主分画を蒸発後、３．４−ジ
ヒドロ−７，８−ジヒドロキシ−３−（３−メチルフェ
ニル）−２Ｈ−１−ベンゾピランを融点９５〜９６°で
得る。

出発物質は次のように調製する： （ａ）例８と同様に行うが、２，４．５−）ジヒドロキ
シフェニル−４′−メチルベンジルケトンの代すに、２
，３．４−トリヒドロキシフェニル−３′−メチルベン
ジルケトンを用いる。７．８−ジヒドロキシ−３−（３
−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オ
ンを融点２６８゜で得る。

（ｂ）例１と同様に行うが、１．２．４−トリヒドロキ
シベンゼンの代りにピロガロールを並びに４−メチルフ
ェニル−アセトニトリルの代りに３−メチルフェニルア
セトニトリルを用いる。２．３゜４−トリヒドロキシフ
ェニル−３′−メチルベンジルケトンを融点１４１°で
得る。

例３７ 例３６と同様に行うが、７．８−ジヒドロキシ−３−（
３−メチルフェニル’）　−４Ｈ−１−ベンゾピラン−
４−オンの代りに、７．８−ジヒドロキシ−３−（３−
カルボキシフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オン（１００■）を用いる。

炭酸水素ナトリウムの飽和溶液を添加してｐＨ７に中和
した後、３．４−ジヒドロ−７，８−ジヒドロキシ−３
−（３−カルボキシフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピラ
ンの結晶沈澱物を融点１９４〜１９５°で得る。

出発物質は次のように調製する： （ａ）例８と同様であるが、２，４．５−）ジヒドロキ
シフェニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに２．
３．４−１−リヒドロキシフェニル−３′−カルボキシ
ベンジルケトンを用いる。７．８−ジヒドロキシ−３−
（３−カルボキシフェニル）−４Ｈ−１〜ベンゾビラン
−４−オンを融点３１３〜３１４°で得る。

（ｂ）例１と同様であるが、１．２．４−）リヒドロキ
シベンゼンの代りにピロガロールを並びに４−メチルフ
ェニルアセトニトリルの代りに３−カルボキシフェニル
アセトニトリルを用いる。２゜３　、４−）リヒドロキ
シフ、ニル−３′−カルボキシベンジルケトンを融点２
２２°で得る。

例３８ 例３６と同様であるが、７，８−ジヒドロキシ−３−（
３−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オンの代りに、７．８−ジヒドロキシ−３−（４−ニト
ロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン（Ｊ
、Ｓｃｉ、　Ｉｎｄ、Ｒｅ５ｅａｒｃｈ（Ｉｎｄｉａ）
　２０Ｂ、３３４（１９６１）　）　（３００ｇ）を用
いるＱ炭酸水素ナトリウム飽和溶液を添加してｐＨ７に
中和後、沈殿物を得、これを濾過し、水で洗浄し、真空
下で乾燥し五酸化燐で乾燥する。母液をｐＨ４，５に酸
性化し、酢酸エチルで抽出する。有機相を真空下で蒸発
乾固し、固形物を得る。二つの分画は３．４−ジヒドロ
−７，８−ジヒドロキシ−３−（４−アミノフェニル）
−２Ｈ−１−ベンゾピラン（融点２１０〜２１２°） から成る。

例３９ ジオキサン／エタノール４；６混合物（４０ａｆ）に溶
解した、６．７−ジヒドロキシ−３−　（３−メチルフ
ェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン（１，２
ｇ）を、二三滴の濃硫酸の存在下活性炭（０，４８ｇ）
に担持したパラジウム５％を用い室温で２４時間水素化
する。触媒を濾過後、濾液を真空下で蒸発乾固する。油
状物を得、これを塩化メチレンに溶解する。溶液を水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し油状物を得、これを
結晶化して３，４−ジヒドロ−６，７−ジヒドロキシ−
３−（３−メチルフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピラン
を融点１４６〜１４８°で得る。

出発物質を次のように調製する。

（ａ）例８と同様であるが、２．４．５−トリヒドロキ
シフェニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに、２
，４．５−トリヒドロキシフェニル−３′−メチルベン
ジルケトンを用いる。６．７−ジヒドロキシ−３−（３
−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オ
ンを融点２５８６で得る。

（ｂ）例１と同様であるが、４−メチルフェニルアセト
ニトリルの代りに３−メチルフェニルアセトニトリルを
用いる。２，４．５−）ジヒドロキシフェニルー３′−
メチルベンジルケトンｌｉ点１９７°で得る。

例４０ ジオキサン／エタノール４：６混合物（４０ａｆ）に溶
解した、６，７−ジヒドロキシ−３−（４−フルオロフ
ェニル’）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン（１，
２ｇ）を、二三滴の濃硫酸の存在下、活性炭（０，４８
ｇ）に担持したパラジウム５％を用い室温で２４時間水
素化する。触媒を濾過した後、濾液を真空下で蒸発乾固
する。油状物を得、これを結晶化し３．４−ジヒドロ−
６，７−ジヒドロキシ−３−（４−フルオロフェニル）
−２Ｈ−１−ベンゾピランを融点１３５〜１３７°で得
る。

出発物質を次のように調製する： （ａ）例８と同様であるが、２，４．５−）ジヒドロキ
シフェニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに、２
，４．５−）リヒドロキシフェニルー４′−フルオロベ
ンジルケトンを用いる。６，７−ジヒドロキシ−３−（
４−フルオロフェニル）−４８−１−ベンゾピラン−４
−オンを融点２９６゜で得る。

（ｂ）例１と同様に、４−メチルフェニルアセトニトリ
ルの代りに４−フルオロフェニルアセトニトリルを用い
る。２，４．５−）ジヒドロキシフェニル−４′−フル
オロペンジルケトンヲ融点１８９〜１９０゛で得る。

例４１ 例４０と同様であるが、６．７−ジヒドロキシ−３−　
（４−フルオロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−
４−オンの代りに７，８−ジヒドロキシ−３−フェニル
−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン（Ｚｈ、Ｏｒｇ、
Ｋｈｉｍ、４０．２５４９（１９７０）及びＺｈ。

Ｏｒｇ、Ｋｈｉｍ、５，５１５（１９６９））　（１，
２ｇ　）を用いる。濾液を蒸発後、残留物を水で洗浄し
次いで減圧下で乾燥し、３．４−ジヒドロ−７，８−ジ
ヒドロキシ−３−フェニル−２Ｈ−１−ベンゾピランを
融点１３８°で得る。

例４２ 例３６と同様であるが、７．８−ジヒドロキシ−３−（
３−メチルフェニル）−４８−１−ベンゾピラン−４−
オンの代りに、６，７−ジヒドロキシ−３−（３，４−
メチレンジオキシフェニル）−４８−１−ベンゾピラン
−４−オン、（Ｂｕｌｌ、Ｃｈｅｍ。

Ｓｏｃ、Ｊａｐａｎ　３８，６１２（１９６５））　（
９００ｍｇ）を用いる。ｐＨ７に中和後、沈殿物を得、
これをシリカゲルカラムにより溶出して精製し３，４−
ジヒドロ−６゜７−ジヒドロキシ−３−（３，４−メチ
レンジオキシフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピランを融
点１６３〜１６４°で得る。

以下余白 例４３ 例４０と同様であるが、６．７−ジヒドロキシ−３−（
４−フルオロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オンの代りに、６−ｎ−へキシル−７−ヒドロキシ−
３−（４−メトキシフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラ
ン−４−オン（１，２ｇ）を用いる。濾液を蒸発後、残
留物をシリカゲルカラム（塩化メチレン）で溶出する：
主分画から油状物を得、これを結晶化し、３．４−ジヒ
ドロ−６−ｎ−へキシル−７−ヒドロキシ−３−（４−
メトキシフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピランを融点６
４〜６６°で得る。

出発物質を次のように調製する： （ａ）例８と同様であるが、２，４．５−トリヒドロキ
シフェニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに、５
−ｎ−ヘキシル−２，４−ジヒドロキシフェニル−４′
−メトキシベンジルケトンを用いる。６−ｎ−へキシル
−７−ヒドロキシ−３−（４−メトキシフェニル）−４
Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを融点１８８°で得る
。

（ｂ）例１と同様であるが、１，２．４−１−リヒドロ
キシベンゼンの代りに４−ｎ−へキシルレゾルシノール
並びに４−メチルフェニルアセトニトリルの代りに４−
メトキシフェニルアセトニトリルを用いる。５−ｎ−ヘ
キシル−２，４−ジヒドロキシフェニル−４′−メトキ
シベンジルケトンを融点１３７°で得る。

例４４ 例３６と同様であるが、７．８−ヒドロキシ−３−（３
−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オ
ンの代りに、７．８−ジヒドロキシ−３−（３−フルオ
ロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン（５
４４ｇ　）を用いる。酢酸エチルで抽出後、有機溶液を
水で洗浄し、真空下で蒸発させ、３．４−ジヒドロ−７
，８−ジヒドロキシ−３−（３−フルオロフェニル）−
２Ｈ−１−ベンゾピランを融点１４８〜１４９°で得る
。

出発物質を次のように調製する： （ａ）例８と同様であるが、２．４．５−）ジヒドロキ
シフェニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに、２
．３．４−トリヒドロキシフェニル−３′−フルオロベ
ンジルケトンヲ用いる。７．８−ジヒドロ−３−（３−
フルオロフェニル）＝４Ｈ−１−ベンゾピランー４−オ
ンを融点２３０゜で得る。

（ｂ）例１と同様であるが、１，２．４−）リヒドロキ
シベンゼンの代りにピロガロール並びに４−メチルフェ
ニルアセトニトリルの代りに３−フルオロフェニルアセ
トニトリルを用いる。２．３゜４−トリヒドロキシフェ
ニル−３′−フルオロベンジルケトンを融点１６２°で
得る。

例４５ 例４０と同様であるが、６，７−ジヒドロキシ−３−　
（４−フルオロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−
４−オンの代りに６，７−ジヒドロキシ−３−（３−フ
ルオロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン
（１，２ｇ）を得る。濾液を蒸発後、油状残留物を、塩
化メチレンに溶解する。溶液を水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、真空下で蒸発乾固する。残留物を、シ
リカゲル（クロロホルム／ジイソプロピルエーテル１：
１）で溶出して精製し次いで得られた主分画ノオイルを
結晶化し、３．４−ジヒドロ−６，７−ジヒドロキシ−
３−（３−フルオロフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピラ
ンを融点１２１〜１２３°で得る。

出発物質を次のように調製する： ＜ａ）例８と同様であるが、２，４．５−トリヒドロキ
シフェニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに、２
，４．５−トリヒドロキシフェニル−３′−フルオロヘ
ンシルケトンを用いる。６．７−ジヒドロキシ−３−（
３−フルオロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オンを融点２７７゜で得る。

（ｂ）例１と同様であるが、４−メチルフェニルアセト
ニトリルの代りに、３−フルオロフェニルアセトニトリ
ルを用いる。２，４．５−４リヒドロキシフェニル−３
′−フルオロベンジルケトンを融点２０９°で得る。

以下余白 例４６ 例３６と同様であるが、７．８−ジヒドロキシ−３−（
３−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オンの代りに、７−ヒドロキシ−８−メチル−３−（３
，４−メチレンジオキシフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾ
ピラン−４−オン（１００■）を用いる。ｐＨ７に中和
後、沈殿物を得、これを濾過し、水で洗浄し、次いで真
空下で乾燥し３．４−ジヒドロ−７−ヒドロキシ−８−
メチル−３−（３，４−メチレンジオキシフェニル）−
２Ｈ−１−ベンゾピランを融点１３０〜１３１°で得る
。

出発物質を次のように調製する： （ａ）例８と同様であるが、２．４．５−トリヒドロキ
シフェニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに、２
．４−ジヒドロ−３−メチルフェニル−３′，４′−メ
チレンジオキシベンジルケトンを用いる。７−ヒドロキ
シ−８−メチル−３−（３，４−メチレンジオキシフェ
ニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを融点２７
０〜２７２゜で得る。

（ｂ）例１と同様であるが、１，２．４−）リヒドロキ
シベンゼンの代りに２，６−シヒドロキシトルエン並び
に４−メチルフェニルアセトニトリルの代りに３，４−
メチレンジオキシフェニルアセトニトリルを用いる。２
．４−ジヒドロキシ−３−メチルフェニル−３′，４′
−メチレンジオキシベンジルケトンを融点１６４°で得
る。

例４７ 例３６と同様であるが、７，８−ジヒドロキシ−３−（
３−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オンの代りに、７−ヒドロキシ−８−メチル−３−（３
−エトキシカルボニルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピ
ラン−４−オン（１００弯）を用いる。中和後、結晶性
沈殿物が得られ、これを濾過し、水で洗浄し次いで真空
下で乾燥し３．４−ジヒドロ−７−ヒドロキシ−８−メ
チル−３−（３−エトキシカルボニルフェニル）−２Ｈ
−１−ベンゾピランを融点１４３〜１４４°で得る。

出発物質を次のように調製する： （ａ）例８と同様であるが、２．４．５−トリヒドロキ
シフェニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに、２
．４−ジヒドロキシ−３−メチルフェニル−３′−エト
キシカルボニルベンジルケトンヲ用いる。７−ヒドロキ
シ−８−メチル−３−（３−エトキシカルボニルフェニ
ル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを融点２２２
°で得る。

（ｂ）例１と同様であるが、１，２．４−トリヒドロキ
シベンゼンの代りに２．６−シヒドロキシトルエン並び
に４−メチルフェニルアセトニトリルの代りに３−エト
キシカルボニルフェニルアセトニトリルを用いる。２．
４−ジヒドロキシ−３−メチルフェニル−３′−エトキ
シカルボニルベンジルケトンを融点１５７”で得る。

例４８ 例３６と同様であるが、７．８−ジヒドロキシ−３−（
３−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オンの代りに７−ヒドロキシ−８−メチル−３−（３−
）リフルオ口メチルフエニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラ
ン−４−オン（１００ｇ　）を用いる。酢酸エチルで抽
出後、有機層を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し
、次いで真空下で蒸発させ、３，４−ジヒドロ−７−ヒ
ドロキシ−８−メチル−３−（３−トリフルオロメチル
フェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピランをオイルとして得
る。

’）ｌ−ＮＨＲ（ｄ、−ＤＭＳＯ）　：δ＝７．６（麟
、４Ｈ１芳香族水素）；６．７（ｄ、ＩＨ，芳香族水素
）；６．４（ｄ、　ＩＩＩ、芳香族水素）；２．０（ｓ
、３Ｈ，Ｃｔｌｓ）、ＭＳ：ｍ／ｅ＝３０８　（Ｍ”）
。

出発物質を次のように調製する： （ａ）例８と同様に、２，４．５−１−ジヒドロキシフ
ェニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに、２．４
−ジヒドロキシ−３−メチルフェニル−３′−トリフル
オロメチルベンジルケトンを用いる。

７−ヒドロキシ−８−メチル−３−（３−トリフルオロ
メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン
を融点２８３〜２８４°で得る。

（ｂ）例１と同様に、１，２．４−）リヒドロキシベン
ゼンの代りに、２．６−シヒドロキシトルエン並びに４
−メチルフェニルアセトニトリルの代りに３−トリフル
オロメチルフェニルアセトニトリルを用いる。２．４−
ジヒドロキシ−３−メチルフェニル−３′−トリフルオ
ロメチルベンジルケトンを融点１６７°で得る。

例４９ 例４０と同様であるが、６．７−シヒドロキジ−３−　
（４−フルオロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−
４−オンの代りに、７．８−ジメトキシ−３−（４−メ
チルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン（
１，２ｇ）を用いる。濾液を蒸発後、残留物を水で洗浄
し、真空下で乾燥させ３．４−ジヒドロ−７，８−ジメ
トキシ−３−（４−メチルフェニル）　−２Ｈ−１−ベ
ンゾピランを融点９８〜９９°で得る。

出発物質を次のように調製する： ａ）例９に記載した７、８−ジヒドロキシ−３−（４−
メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン
（２，７ｇ）を、乾燥アセトン（５０ｄ）に溶解する。

熱分解炭酸カリウム（４，１４ｇ）を添加し次いで混合
物を加熱還流する。アセトン（１０＋ａＺ）に溶解した
硫酸メチル（３，７８ｇ）の溶液を、滴下し次いで３時
間以上加熱を続ける。冷却後、固形物を濾過し次いで溶
液を真空下で蒸発乾個する。水を残留物に添加し、濾過
し次いで水酸化ナトリウム水溶液（ＩＮ）で洗浄し、更
に水で洗浄し、乾燥する。メタノール中で再結晶後、７
．８−ジメトキシ−３−（４−メチルフェニル）−４Ｈ
−１−ベンゾピラン−４−オンを融点１３５゛で得る。

例５０ 例３９と同様であるが、６．７−ジヒドロキシ−３−＜
３−メチルフェニル）−４Ｈ−ｉ−ベンゾピラン−４−
オンの代りに、７−ヒドロキシ−８−メチル−３（４−
クロロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン
（１，２ｇ）を用いる。

テトラヒドロフラン及び酢酸を、ジオキサン／エタノー
ル及び硫酸の代りに用いる。得られたオイルを、シリカ
ゲルカラム（クロロホルム）で溶出して精製し、３，４
−ジヒドロ−７−ヒドロキシ−８−メチル−３−（４−
クロロフェニル）＝２Ｈ−１−ベンゾビランを融点９８
〜１００°で得る。

出発物質を次のように調製する： （ａ）例８と同様であるが、２．４．５−）ジヒドロキ
シフェニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに、２
．４−ジヒドロキシ−３−メチルフェニル−４′−クロ
ロベンジルケトンヲ用いる。７−ヒドロキシ−８−メチ
ル−３−（４−クロロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピ
ラン−４−オンを融点２９６〜２９７°で得る。

（ｂ）例１と同様であるが、１．２．４−１−リヒドロ
キシベンゼンの代りに２．６−シヒドロキシトルエン並
びに４−メチルフェニルアセトニトリルの代りに４−ク
ロロフェニルアセトニトリルを用いる。２．４−ジヒド
ロキシ−３−メチルフェニル−４′−クロロベンジルケ
トンを融点１６７°で得る。

例５１ 例３９と同様であるが、６，７−ジヒドロキシ−３−　
（３−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾビランー４
−オンの代りに、６．７−ジヒドロキシ−３−（４−ア
ミノフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン（
１，２ｇ）を得る。得られたオイルは、３，４−ジヒド
ロ−６，７−ジヒドロキシ−３−（４−アミノフェニル
）−２Ｈ−１−ベンゾピランに相当する。これを対応す
る塩酸塩更に対応するヘミスルフェートに変換する。

出発物質を次のように調製する： ａ）６．７−ジヒドロキシ−３−（４−ニトロフェニル
）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン（Ｊ、Ｉｎ５ｔ
、Ｃｈｅｍ、（Ｃａｌｃｕｔｔａ）４３．２３４（１９
７１））　　（Ｉｇ）を、ジオキサン及びエタノール１
：１混合物２５〇−に溶解する。ラネイニッケル（０，
４５ｇ）を添加し、次いで混合物を、室温で１８時間水
素化次いで濾過する。溶液を減圧下で蒸発させ、沈殿物
が生じるまで最初の量の約１／３までにし、これを濾過
し次いでジオキサン中で結晶化し６，７−ジヒドロキシ
−３−（４−アミノフェニル）　　−４Ｈ−１−ベンゾ
ピラン−４−オンを融点３０５〜３０６゜で得る。

例５２ 例３９と同様であるが、６．７−ジヒドロキシ−３−　
（３−メチルフェニル）−４８−１−ベンゾピラン−４
−オンの代りに、６．７−ジヒドロキシ−３−（３−ク
ロロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン（
１，２ｇ）を用いる。テトラヒドロフラン及び酢酸を、
ジオキサン／エタノール及び硫酸の代りに用いる。得ら
れたオイルを結晶化させ、３．４−ジヒドロ−６，７−
ジヒドロキシ−３−（３−クロロフェニル）−２Ｈ−１
−ベンゾピランを得る。

出発物質を次のように調製する： （ａ）例８と同様であるが、２，４．５−）ジヒドロキ
シフェニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに、２
，４．５−）ジヒドロキシフェニル−３′−クロロベン
ジルケトンを用いる。６．７−ジヒドロキシ−３−（３
−クロロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オ
ンを融点３０８゜で得る。

（ｂ）例１と同様であるが、４−メチルフェニルアセト
ニトリルの代りに３−クロロフェニルアセトニトリルを
用いる。２．４．５−）ジヒドロキシフェニルー３′−
クロロベンジルケトンヲ融点２１２°で得る。

例５３ 例４０と同様であるが、６．７−ジヒドロキシ−３−（
４−フルオロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オンの代りに、６．７−ジヒドロキシ−３−（３−）
リフルオロメチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン
−４−オン（１，２ｇ）を用いる。濾液を蒸発後、残留
物を塩化メチレンに溶解する。溶液を水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥し次いで真空下で蒸発させ、３．４
−ジヒドロ−６，７−ジヒドロキシ−３−（３−）リフ
ルオロメチルフェニル）　−２Ｈ−１−ベンゾピランを
融点１３９〜１４１゛で得る。

出発物質を次のように調製する： （ａ）例８と同様であるが、２．４．５−）ジヒドロキ
シフェニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに、２
，４．５−トリヒドロキシフェニル−３′−トリフルオ
ロメチルベンジルケトンを用いる。６．７−ジヒドロキ
シ−３−（３−１−リフルオロメチルフェニル）−４Ｈ
−１−ベンゾピラン−４−オンを融点２７４〜２７５°
で得る。

（ｂ）例１と同様であるが、４−メチルフェニルアセト
ニトリルの代りに３−トリフルオロメチルフェニルアセ
トニトリルを用いる。２．４．５−）リヒドロキシフヱ
ニルー３′−トリフルオロメチルベンジルケトンを融点
１７０°で得る。

例５４ 例３９と同様であるが、６．７−ジヒドロキシ−３−　
（３−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オンの代りに、７．８−ジヒドロキシ−３−（３−）
リフルオロメチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン
−４−オン（１，２ｇ）を用いる。得られたオイルを、
シリカゲルカラム（塩化メチレン）を溶出して精製し、
３．４−ジヒドロ−７，８−ジヒドロキシ−３−（３−
トリフルオロメチルフェニル’）　−２Ｈ−１−ベンゾ
ピランを融点９９〜１００°で得る。

出発物質を次のように精製する： （ａ）例８と同様であるが、２，４．５−）リヒドロキ
シフェニルー４′−メチルベンジルケトンの代りに、２
，３．４−トリヒドロキシフェニル−３′−トリフルオ
ロメチルベンジルケトンを用いる。７．８−ジヒドロキ
シ−３−（３−）リフルオロメチルフェニル）−４Ｈ−
１−ベンゾピラン−４−オンを融点２２５°で得る。

（ｂ）例１と同様であるが、１．２．４−トリヒドロキ
シベンゼンの代りにピロガロール、並びに４−メチルフ
ェニルアセトニトリルの代りに３−トリフルオロメチル
フェニルアセトニトリルを用いる。２，３．４−トリヒ
ドロキシフェニル−３′−トリフルオロメチルベンジル
ケトンを融点１７１゜で得る。

例５５ 例３９と同様であるが、６．７−ジヒドロキシ−３−（
３−メチルフェニル）　−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オンの代りに、７．８−ジヒドロキシ−３−（３−ク
ロロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン（
１，２ｇ）を用いる。ジオキサン／エタノール及び硫酸
の代りに、テトラヒドロフラン及び酢酸を用いる。得ら
れた油状物を結晶化させ、３．４−ジヒドロ−７，８−
ジヒドロキシ−３−（３−クロロフェニル）−２Ｈ−１
−ベンゾピランを融点９９〜１０１°で得る。

出発物質を次のように調製する： （ａ）例８と同様であるが、２，４．５−トリヒドロキ
シフェニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに、２
．３．４−トリヒドロキシフェニル−３′−クロロベン
ジルケトンを用いる。７．８−ジヒドロキシ−３−（３
−クロロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オ
ンを融点２５８゜で得る。

（ｂ）例１と同様であるが、１，２．４−）リヒドロキ
シベンゼンの代りにピロガロール、並びに４−メチルフ
ェニルアセトニトリルの代りに３−クロロフェニルアセ
トニトリルヲ用いる。２，３゜４−トリヒドロキシフェ
ニル−３′−クロロベンジルケトンを融点１５５°で得
る。

例５６ 例４０と同様であるが、６．７−ジヒドロキシ−３−（
４−フルオロフェニル）　−４Ｈ−１−ベンゾピラン−
４−オンの代りに、７，８−ジヒドロキシ−３−（４−
フルオロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オ
ン（１，２ｇ）を用いる。

濾液を蒸発後、残留物を水で洗浄し、真空下で乾燥させ
次いでシリカゲルカラム（塩化メチレン）で溶出して精
製し、３．４−ジヒドロ−７，８−ジヒドロキシ−３−
（４−フルオロフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピランを
融点１６６〜１６８°で得る。

出発物質を次のように調製する： （ａ）例８と同様であるが、２，４．５−１−リヒドロ
キシフェニルー４′−メチルベンジルケトンの代りに、
２，３．４−トリヒドロキシフェニル−４′−フルオロ
ベンジルケトンを用いる。７．８−ジヒドロキシ−３−
（４−フルオロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−
４−オンを融点２８９゜で得る。

（ｂ）例１と同様であるが、１，２．４−）リヒドロキ
シベンゼンの代りにピロガロール、並びに４−メチルフ
ェニルアセトニトリルの代りに４−フルオロフヱニルア
セトニトリルを用いる。２．３゜４−トリヒドロキシフ
ェニル−４′−フルオロベンジルケトンを融点１５２°
で得る。

例５７ 例３９と同様であるが、６．７−ジヒドロキシ−３−　
（３−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オンの代りに、６．７−メチレンジオキシ−３−（４
−ヒドロキシフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オン〔例１７参照〕（１，２ｇ）を用いる。得られた
オイルを結晶化させ、３．４−ジヒドロキシ−６，７−
メチレンジオキシ−３−（４−ヒドロキシフェニル）　
　−２Ｈ−１−ベンゾピランを融点１３９〜１４０°で
得る。

例５８ 例３９と同様であるが、６．７−ジヒドロキシ−３−（
３−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オンの代りに、６．７−ジヒドロキシ−３−（４−イソ
プロピルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オ
ン（１，２ｇ）を用いる。得られたオイルを結晶化させ
、３．４−ジヒドロ−６，７−ジヒドロキシ−３−（４
−イソプロピルフェニル）−２Ｈ−１−ペンゾピランヲ
融点１２９〜１３１°で得る。

出発物質を次のように調製する： ａ）例８と同様であるが、２．４．５−トリヒドロキシ
フェニル−４′−メチルヘンシルケトンの代りに、２，
４．５−トリヒドロキシフェニル−４′−イソプロピル
ベンジルケトンを用いる。６゜７−ジヒドロキシ−３−
（４−イソプロピルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラ
ン−４−オンを融点１８１〜１８２“で得る。

ｂ）例１と同様であるが、４−メチルフェニルアセトニ
トリルの代りに４−イソプロピルフェニルアセトニトリ
ルを用いる。２，４．５−トリヒドロキシフェニル−４
′−イソプロピルベンジルケトンを融点１３１°で得る
。

以下余白 例５９ 例３９と同様であるが、６．７−ジヒドロキシ−３−（
３−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オンの代りに、６．７−ジヒドロキシ−３−（４−力ル
ボキシメチルフェニル）＝４Ｈ−１−ベンゾピランー４
−オン（１，２ｇ）を用いる。得られたオイルを結晶化
し、３．４−ジヒドロ−６，７−ジヒドロキシ−３−（
４−エトキシ−カルボニルメチルフェニル）−２Ｈ−１
−ベンゾピランを融点１６４〜′１６６°で得る。

出発物質を次のように調製する： ａ）６．７−ジヒドロキシ−３−（４−シアノメチルフ
ェニル）−４Ｈ，−１−ベンゾピラン−４−オン（１ｇ
）を、濃塩酸及び酢酸にし混合物（１０ｍ７）に熔解し
、次いで溶液を２時間沸騰させる。減圧下で溶液を蒸発
後、残留物をエタノール及び水混合物中で結晶化させ、
６，７−ジヒドロキシ−３−（４−カルボキシメチルフ
ェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを融点２
７８〜２８０°で得る。

ｂ）例８と同様であるが、２．４．５−トリヒドロキシ
フェニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに、２．
４．５−）ジヒドロキシフェニル−４′−シアノメチル
ベンジルケトンを用いる。６゜７−ジヒドロキシ−３−
（４−シアノメチルフェニル）　−４Ｈ−１−ベンゾピ
ラン−４−オンヲ融点２５８〜２６０°で得る。

Ｃ）例１と同様であるが、４−メチルフェニルアセトニ
トリルの代りに、４−シアノメチルフェニル了セトニト
リルを用いる。２．４．５−）ジヒドロキシフェニル−
４′−シアノメチルベンジルケトンを融点１９５〜１９
６°で得る。

例６０ 例３９と同様であるが、６．７−ジヒドロキシ−３−　
（３−メチルフェニル）−４）（−１−ベンゾピラン−
４−オンの代りに、６．７−ジヒドロキシ−３−（４−
フェニルスルホニルアミノフェニル）−４Ｈ−１−ベン
ゾピラン−４−オン（１，２ｇ）を用いる。得られたオ
イルを結晶化させ、３．４−ジヒドロ−６，７−ジヒド
ロキシ−３−（４−フェニルスルホニルアミノフェニル
）−２Ｈ−１−ベンゾピランを融点１５２〜１５４°で
得る。

出発物質を次のように調製する： ａ）６．７−ジヒドロキシ−３−（４−アミノフェニル
）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン〔例５１ａ参照
）　（５３８■）を、ジメチルホルムアミド及び水１５
　：　８５の混合物（５ｍｊ）に溶解し、溶液を塩化ベ
ンゼンスルホニイレ（２１０■）の存在下９０゜に加熱
する。１５分後、ｐ）ｌは３に落ち、これを２５％水酸
化ナトリウム溶液を添加して９に調節する。塩化ベンゼ
ンスルホニル（更に１４３■）及び２５％の水酸化ナト
リウム溶液（使用合計量：１＠ｌ）を、ｐＨが更に変化
しない程度まで何等かの方法で添加する０次いで塩酸を
添加し、ｐＨを３に低下させ、溶液を沈殿が生じるまで
冷却する。沈殿物を濾過し、水で洗浄し、乾燥し６．７
−ジヒドロキシ−３−（４−フェニルスルホニルアミノ
フェニル）−４）（−１−ベンゾピラン−４−オンを融
点２８５〜２８６°で得る。

例６１ 例４０と同様に、６．７−ジヒドロキシ−３−（４−フ
ルオロフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン
の代りに、６．７−ジヒドロキシ−３−（３−エトキシ
カルボニルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オン（１，２ｇ）を用いる。濾液を蒸発後、残留物を結
晶化させ、３゜４−ジヒドロ−６，７−ジヒドロキシ−
３−（３−エトキシカルボニルフェニル）−２Ｈ−１−
ベンゾピランを融点１３１〜１３３°で得る。

出発物質を次のように調製する： （ａ）例８と同様であるが、２．４．５−）ジヒドロキ
シフェニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに、２
，４．５−）ジヒドロキシフェニル−３′−エトキシカ
ルボニルベンジルケトンを用いる。カラムクロストグラ
フィー（シリカゲル／トルエン：メタノール１００：５
）により精製後、６゜７−ジヒドロキシ−３−（３−エ
トキシカルボニルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン
−４−オンを融点２１７〜２１８°で得る。

（ｂ）例１と同様であるが、４−メチルフェニルアセト
ニトリルの代りに、３−エトキシカルボニルフェニルア
セトニトリルを用いる。カラムクロマトグラフィー（シ
リカゲル／塩化メチレン：メタノール２０：１）により
精製し更にメタノール及び水混合物から結晶後、２，４
．５−）ジヒドロキシフェニル−３′−エトキシカルボ
ニルベンジルケトンを融点１７７〜１７８°で得る。

例６２ 例３９と同様であるが、６，７−ジヒドロキシ−３−（
３−メチルフェニル）−４Ｈ−１−一’：ンゾビランー
４−オンの代りに、６．７−ジヒドロキシ−３−（４−
アセチルアミノフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−
４−オン（１，２ｇ）を用いる。得られたオイルを結晶
化させ、３．４−ジヒドロ−６，７−ジヒドロキシ−３
−（４−アセチルアミノフェニル）−２８−１−ベンゾ
ピランを融点２０１〜２０３°　（純度８８％）で得る
。

出発物質を次のように精製する： ａ）　　７−アセチルオキシ−６−ヒドロキシ−３−（
４−アセチルアミノフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラ
ン−４−オン〔例６５ａ参照〕（２０■）を、ＩＮ塩酸
及びエタノール１：１混合物（１０ｍｌ）に溶解し、室
温で１２時間攪拌する０次いで溶液をジクロロメタンで
抽出し、ジクロロメタン層を水で洗浄し次いで真空下で
蒸発乾固し６．７−ジヒドロキシ−３−（４−アセチル
アミノフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン
を融点３１０゜超（分解）で得る。

例６３ 例３９と同様であるが、６．７−ジヒドロキシ−３−　
（３−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オンの代りに、６．７−ジヒドロキシ−３−（３−メ
チルスルホニルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−
４−オンを用いる。３゜４−ジヒドロ−６，７−ジヒド
ロキシ−３−（３−メチルスルホニルフェニル）−２Ｈ
−１−ベンゾピランを得る。

出発物質を次のように調製する： ａ）例８と同様であるが、２，４．５−トリヒドロキシ
フェニル−４′−メチルベンジルケトンの代すニ、２　
、４　、５−トリヒドロキシフェニル−３′−メチルス
ルホニルベンジルケトンを用いる。

６．７−ジヒドロキシ−３−（３−メチルスルホニルフ
ェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。

ｂ）　例と同様であるが、４−メチルフェニルアセトニ
トリルの代りに、３−メチルスルホニルフェニルアセト
ニトリルを用いる。２，４．５−トリヒドロキシフェニ
ル−３−′−メチルスルホニルベンジルケトンを得る。

例６４ 例３９と同様であるが、６．７−ジヒドロキシ−３−　
（３−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オンの代りに、６．７−ジヒドロキシ−３−（３−第
三ブチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オ
ンを用いる。３．４−ジヒドロ−６，７−ジヒドロキシ
−３−（３−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾ
ピランを得る。

出発物質を次のように調製する： ａ）例８と同様であるが、２，４．５−）リヒドロキジ
フェニルー４′−メチルベンジルケトンの代りに、２，
４．５−トリヒドロキシフェニル−３′−第三ブチルベ
ンジルケトンを用いる。６゜７−ジヒドロキシ−３−（
３−第三メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−
４−オンヲ得る。

ｂ）例１と同様であるが、４−メチルフェニルアセトニ
トリルの代りに、３−第三ブチルフェニルアセトニトリ
ルを用いる。２，４．５−トリヒドロキシフェニル−３
′−第三ブチルベンジルケトンを得る。

例６５ 例３９と同様であるが、６，７−ジヒドロキシ−３−（
３−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オンの代りに、７−アセチルオキシ−６−ヒドロキシ−
３−（４−アセチルアミノフェニル）　−４Ｈ−１−ベ
ンゾピラン−４−オン（２０■）を用いる。得られたオ
イルを結晶化させ、３．４−ジヒドロ−６，７−ジヒド
ロキシ−３−（４−アセチルアミノフェニル）−２Ｈ−
１−ペンゾピランを融点２０１〜２０３°　（純度８８
％）で得る。

出発物質を次のように調製する： ａ）６．７−ジヒドロキシ−３−（４−アミノフェニル
）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン〔例５１ａ参照
）　（２６９■）をエタノール（３ｍＺ）に溶解する。

無水酢酸（４−）を添加し次いで溶液を７０℃に２．５
時間加熱し次いで室温で一夜放置する。得られた沈殿物
を濾過し、水で洗浄し次いで乾燥し７−アセチルオキシ
−６−ヒドロキシ−３−（４−アセチルアミノフェニル
）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを融点２６５〜
２６６°で得る。

例６６ 例３９と同様であるが、６．７−ジヒドロキシ−３−（
３−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オンの代りに、７，８−ジヒドロキシ−３−（４−アセ
チルアミノフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オンを用いる。３゜４−ジヒドロ−７，８−ジヒドロキ
シ−３−（４−アセチルアミノフェニル）−２Ｈ−１−
ベンゾピランを得る。

出発物質を次のように調製する： ａ）例８と同様であるが、２．４．５−）ジヒドロキン
フェニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに、２．
３．４−１−ジヒドロキシフェニル−４′−アセチルア
ミノベンジルケトンを用いる。

７．８−ジヒドロキシ−３−（４−アセチルアミノフェ
ニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。

ｂ）例１と同様であるが、１．２．４−）リヒドロキシ
ベンゼンの代りにピロガロール、並びに４−メチルフェ
ニルアセトニトリルの代りに４−アセチルアミノフヱニ
ルアセトニトリルを用いる。

２．３．４１リヒドロキシフェニル−４′−アセチルア
ミノベンジルケトンを得る。

例６７ 例３９と同様であるが、６，７−ジヒドロキシ−３−（
３−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オンの代りに、７，８−ジヒドロキシ−３−（４−カル
バモイルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オ
ンを用いる。３，４−ジヒドロ−７，８−ジヒドロキシ
−３−（４−カルバモイルフェニル）−２Ｈ−１−ベン
ゾピランを得る。

出発物質を次のように調製する： ａ）例８と同様であるが、２，４．５−）ジヒドロキシ
フェニル−４′−メチルベンジルケトンの代すに、２，
３．４−トリヒドロキシフェニル−４′−力ルバモイル
ベンジルヶトンを用いる。７゜８−ジヒドロキシ−３−
（４−カルバモイルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラ
ン−４−オンを得る。

ｂ）例１と同様であるが、１．２．４−）リヒドロキシ
ベンゼンの代りにピロガロール、並びに４−メチルフェ
ニルアセトニトリルの代りに４−カルバモイルフェニル
アセトニトリルを用いる。２゜３．４−トリヒドロキシ
フェニル−４′−カルバモイルベンジルケトンを得る。

例６８ 例３９と同様であるが、６．７−ジヒトロキシー３−（
３−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−
オンの代りに、７．８−ジヒドロキシ−３−（３−ｎ−
プロピルスルホニルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラ
ン−４゛−オンを用いる。３．４−ジヒドロ−７，８−
ジヒドロキシ−３（３−ｎ−プロピルスルホニルフェニ
ル）−２Ｈ−１−ベンゾピランを得る。

出発物質を次のように調製する： ａ）例８と同様であるが、２，４．５−トリヒドロキシ
フェニル−４′−メチルベンジルケトンの代りＧ）、２
，３．４−トリヒドロキシフェニル−３／　　ｎ−プロ
ピルスルホニルベンジルケトンを用いる。７．８−ジヒ
ドロキシ−３（３−ｎ−プロピルスルホニルフェニル）
−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。

ｂ）例１と同様であるが、１，２．４−トリヒトミキシ
ベンゼンの代りにピロガロール、並びに４＝メチルフエ
ニルアセトニトリルの代りに３−ｎ−プロピルスルホニ
ルフェニルアセトニトリルを用いる。２．３．４−）リ
ヒドロキシフェニル−３１、−プロピルスルホニルヘン
シルケトンを得る。

例６９ 例３９と同様であるが、６．７−ジヒドロキシ−３−　
（３−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾビラン−４
−オンの代りに、７．８−ジメトキシ−３−（３−カル
ボキシフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン
を用いる。３．４−ジヒドロ−７，８−ジメトキシ−３
−（３−カルボキシフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピラ
ンを得る。

出発物質を次のように調製する： ａ）例４９ａと同様であるが、７．８−ジヒドロキシ−
３−（４−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン
−４−オンの代りに、７，８−ジヒドロキシ−３−（３
−力ルポキシフェニル）　−４Ｈ−１−ベンゾピラン−
４−オンＣ例３７　ａ　参照）　ヲ用いる。７．８−ジ
メトキシ−３−（３−カルボキシフェニル）−４Ｈ−１
−ベンゾピラン−４−オンを得る。

例７０ 例３９と同様であるが、６．７−ジヒドロキシ−３−　
（３−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オンの代りに、７，８−ジメトキシ−３−（４−カル
ボキシメトキシフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−
４−オンを用いる。３゜４−ジヒドロ−７，８−ジメト
キシ−３−（４−カルボキシメトキシフェニル）−２Ｈ
−１−ベンゾピランを得る。

出発物質を次のように調製する： ａ）水素化ナトリウムを、窒素雰囲気下Ｏ℃で乾燥ジメ
チルホルムアミドに溶解する。乾燥ジメチルホルムアミ
ドに溶解した、７．８−ジメトキシ−３−（４−ヒドロ
キシフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン（
Ｊ、　ｒｎｓｔ、ｃｈｅｍ、　（Ｃａｌｃｕｔｔａ）４
３．２３４（１９７１）参照〕をゆっ（り添加し、次い
でクロロ酢酸溶液を添加する。溶液を７０°で５時間加
熱し、減圧下で最初の量の約１／３まで蒸発させる。冷
却後、水を添加し沈殿物を精製せしめ、これを濾過し次
いでエタノールから結晶化し、７゜８−ジメトキシ−３
−（４−カルボキシメトキシフェニル）−４Ｈ〜１−ベ
ンゾピラン−４−オンを得る。

例７１ 例３９と同様であるが、６．７−ジヒドロキシ−３−　
（３−メチルフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オンの代りに、７．８−メチレンジオキシ〜３−（４
−カルボキシフェニル）−４Ｈ−１−ベンゾピラン−４
−オンを用いる。３゜４−ジヒドロ−７，８−メチレン
ジオキシ−３−（４−カルボキシフェニル）−２８−１
−ベンゾピランを得る。

出発物質を次のように調製する二 ａ）例８と同様であるが、２，４．５−トリヒドロキシ
フェニル−４′−メチルベンジルケトンの代りに、２−
ヒドロキシ−３，４−メチレンジオキシフェニル−４′
−カルボキシベンジルケトンを用いる。７．８−メチレ
ンジオキシ−３−（４−カルボキシフェニル”）−４Ｈ
−１−ベンゾビラノー４−オンを得る。

ｂ）例１と同様であるが、１，２．４−トリヒドロキシ
ベンゼンの代りに２−ヒドロキシ−３，４−メチレンジ
オキシベンゼン、並びに４−メチルフェニルアセトニト
リルの代りに４−カルボキシフェニルアセトニトリルを
用いる。２−ヒドロキシ−３，４−メチレンジオキシフ
ェニル−４′−カルボキシベンジルケトンを得る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、次式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、基ＯＲはヒドロキシ；未置換もしくはヒドロキ
   シ、低級アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ
   −低級アルキルアミノ、カルボキシもしくは低級アルコ
   キシカルボニルにより置換された低級アルコキシ；又は
   低級アルカノイルオキシを表わし；基Ｒ′およびＲ″の
   一方は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルカノイ
   ルオキシもしくは低級アルキルを表わし、それらの他方
   は水素であるか；又は基ＯＲおよびＲ′は共に一緒にな
   って二価のメチレンジオキシ基を形成し、この基は未置
   換もしくは低級アルキルおよび／又はフェニルによって
   置換されており、更にＲ″は水素であるか；又は基ＯＲ
   およびＲ″は二価のメチレンジオキシ基を形成し、この
   基は未置換もしくは低級アルキルおよび／又はフェニル
   により置換されており、更にＲ′は水素であり；更に環
   Ｂは未置換もしくは低級アルキル、フェニル−低級アル
   キル、ジフェニル−低級アルキル、フェニル、低級アル
   カノイルオキシ、ハロゲン、アミノ、低級アルキルアミ
   ノ、ジ−低級アルキルアミノ、フェニルアミノ、低級ア
   ルカノイルアミノ、ベンゾイルアミノ；低級アルキルス
   ルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ；低級アル
   カノイル、ベンゾイル、カルボキシ、低級アルコキシカ
   ルボニル、カルバモイル、Ｎ−低級アルキルカルバモイ
   ル、Ｎ，Ｎ−ジ低級アルキルカルバモイル、シアノ、ウ
   レイド、Ｎ−低級アルキルウレイド、低級アルキルスル
   ホニル；フェニルスルホニル；ヒドロキシ、低級アルコ
   キシ、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキル
   アミノ、ハロゲン、カルボキシもしくは低級アルコキシ
   カルボニルによって置換された低級アルキル；ヒドロキ
   シ、低級アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ
   −低級アルキルアミノ、ハロゲン、カルボキシもしくは
   低級アルコキシカルボニルによって置換された低級アル
   コキシ；Ｃ＿３〜Ｃ＿７アルコキシ；および／又は二価
   のメチレンジオキシによって置換されており；あるいは
   環Ｂはヒドロキシ、メトキシもしくはエトキシによって
   モノ置換されており、但し、もしも基ＯＲがヒドロキシ
   、メトキシもしくはエトキシを表わす場合は、Ｒ′はヒ
   ドロキシ、メトキシもしくはエトキシ以外であるか、あ
   るいは環Ｂはメトキシおよび低級アルコキシによってジ
   置換されており、但し、２′，４′−ジメトキシ置換の
   場合において、もしも基ＯＲがメトキシの場合、Ｒ′お
   よびＲ″はメトキシ以外であり；このようなものと ■■燒■■黷■Sてのフェニル基は、又は構成された基
   は未置換でもあるいは低級アルキル、低級アルコキシ、
   ハロゲン、ヒドロキシおよび／又はニトロにより置換で
   きる）で表わされる化合物又はその塩。 ２、前記式 I 中、基ＯＲはヒドロキシ、または低級ア
   ルカノイルオキシを表わし；基Ｒ′およびＲ″の一方は
   、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルカノイルオキ
   シもしくは低級アルキルを表わし、それらの他方は水素
   であるか；又は基ＯＲおよびＲ′は共に一緒になって二
   価のメチレンジオキシ基を形成し、この基は未置換もし
   くは低級アルキルおよび／又はフェニルによって置換さ
   れており、更にＲ″は水素であるか；又は基ＯＲおよび
   Ｒ″は二価のメチレンジオキシ基を形成し、この基は未
   置換もしくは低級アルキルおよび／又はフェニルにより
   置換されており、更にＲ′は水素であり；更に環Ｂは未
   置換もしくは低級アルキル、低級アルカノイルオキシ、
   ハロゲン、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アル
   キルアミノ、フェニルアミノ、低級アルカノイルアミノ
   、ベンゾイルアミノ；低級アルキルスルホニルアミノ、
   フェニルスルホニルアミノ；低級アルカノイル、ベンゾ
   イル、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバ
   モイル、Ｎ−低級アルキルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ低
   級アルキルカルバモイル、シアノ、低級アルキルスルホ
   ニル；フェニルスルホニル；ハロゲン、カルボキシもし
   くは低級アルコキシカルボニルによって置換された低級
   アルキル；カルボキシもしくは低級アルコキシカルボニ
   ルによって置換された低級アルコキシ；又は二価のメチ
   レンジオキシによって置換されており；あるいは環Ｂは
   ヒドロキシ、メトキシもしくはエトキシによってモノ置
   換されており、但し、もしも基ＯＲがヒドロキシ、メト
   キシもしくはエトキシを表わす場合は、Ｒ′はヒドロキ
   シ、メトキシもしくはエトキシ以外であるか、あるいは
   環Ｂはメトキシによってジ置換されており、但し、２′
   ，４′−ジメトキシ置換の場合において、もしも基ＯＲ
   がメトキシの場合、Ｒ′およびＲ″はメトキシ以外であ
   り；但し、もしもＲ′がヒドロキシであり、基ＯＲがヒ
   ドロキシ又はメトキシを表わす場合、環Ｂは置換されて
   いることを条件とする、特許請求の範囲第１項記載の化
   合物又はその医薬として許容し得る塩。 ３、前記式 I 中、基ＯＲはヒドロキシ、または低級ア
   ルカノイルオキシにより置換された低級アルコキシを表
   わし；基Ｒ′およびＲ″の一方は、ヒドロキシ、低級ア
   ルコキシ、低級アルカノイルオキシもしくは低級アルキ
   ルを表わし、それらの他方は水素であるか；又は基ＯＲ
   およびＲ′は共に一緒になって二価のメチレンジオキシ
   基を形成し、この基は未置換もしくは低級アルキルおよ
   び／又はフェニルによって置換されており、更にＲ″は
   水素であるか；又は基ＯＲおよびＲ″は二価のメチレン
   ジオキシ基を形成し、この基は未置換もしくはフェニル
   により置換されており、更にＲ′は水素であり；更に環
   Ｂは未置換もしくは低級アルキル、フェニル−低級アル
   キル、ジフェニル−低級アルキル、低級アルカノイルオ
   キシ、ハロゲン、アミノ、低級アルカノイルアミノ、フ
   ェニルスルホニルアミノ；カルボキシ、低級アルコキシ
   カルボニル、カルバモイル、低級アルキルスルホニル；
   フェニルスルホニル；ハロゲン、カルボキシによって置
   換された低級アルキル；カルボキシもしくは低級アルコ
   キシカルボニルによって置換された低級アルコキシ；又
   は二価のメチレンジオキシによって置換されており；あ
   るいは環Ｂはヒドロキシ又はメトキシによってモノ置換
   されており、但し、もしも基ＯＲがヒドロキシ、メトキ
   シもしくはエトキシを表わす場合は、Ｒ′はヒドロキシ
   、メトキシもしくはエトキシ以外であるか、あるいは環
   Ｂはメトキシによってジ置換されており、但し、２′，
   ４′−ジメトキシ置換の場合において、もしも基ＯＲが
   メトキシの場合、Ｒ′およびＲ″はメトキシ以外であり
   ；但し、もしもＲ′ヒドロキシであり、基ＯＲがヒドロ
   キシ又はメトキシを表わす場合、環Ｂは置換されている
   ことを条件とする、特許請求の範囲第１項記載の化合物
   又はその医薬として許容し得る塩。 ４、前記式 I 中、基ＯＲはヒドロキシ；低級アルコキ
   シ、または低級アルカノイルオキシにより置換された低
   級アルコキシを表わし；基Ｒ′およびＲ″の一方は、ヒ
   ドロキシ、低級アルコキシ、低級アルカノイルオキシも
   しくは低級アルキルを表わし、それらの他方は水素であ
   るか；又は基ＯＲおよびＲ′は共に一緒になって二価の
   メチレンジオキシ基を形成し、この基は未置換もしくは
   フェニルによって置換されており、更にＲ″は水素であ
   るか；又は基ＯＲおよびＲ″は二価のメチレンジオキシ
   基を形成し、この基は未置換もしくはフェニルにより置
   換されており、更にＲ′は水素であり；更に環Ｂは未置
   換もしくは低級アルキル、低級アルカノイルオキシ、ハ
   ロゲン、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキ
   ルアミノ、又は、カルボキシもしくは低級アルコキシカ
   ルボニルによって置換された低級アルコキシであるか；
   又は環Ｂは３，４−ジメトキシ置換されており；但し、
   もしもＲ′がヒドロキシであり、基ＯＲがヒドロキシ又
   はメトキシを表わす場合、環Ｂは、置換されていなけれ
   ばならない、特許請求の範囲第１項記載の化合物又はそ
   の医薬として許容され得る塩。 ５、３，４−ジヒドロ−６，７−ジヒドロキシ−３−（
   ３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピラ
   ンである、特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ６、３，４−ジヒドロ−７，８−ジヒドロキシ−３−（
   ３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピラ
   ンである、特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ７、３，４−ジヒドロ−６，７−ジヒドロキシ−３−（
   ４−メチルジフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピランであ
   る、特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ８、３，４−ジヒドロ−６，７−ジフェニル−メチレン
   ジオキシ−３−（４−メトキシフェニル）−２Ｈ−１−
   ベンゾピランである、特許請求の範囲第１項記載の化合
   物。 ９、３，４−ジヒドロ−６，７−ジアセトキシ−３−（
   ４−メトキシフェニル）−２Ｈ−１−ベンゾピランであ
   る、特許請求の範囲第１項記載の化合物。 １０、特許請求の範囲第１〜第９項の何れかに記載の式
   １の化合物又はその医薬として許容され得る塩と１種以
   上の製薬的に許容し得る担体とを含んで成る医薬組成物
   。 １１、動物又は人体の予防的および／又は治療的処置に
   対するために使用される特許請求の範囲第１〜第９項の
   いずれかに記載の化合物。 １２、心臓疾患の治療において使用するための特許請求
   の範囲第１項記載の化合物又はその医薬として許容され
   得る塩。 １３、特許請求の範囲第１項〜第９項のいずれかに記載
   の化合物又はその塩の製造方法であって、ａ）次式II： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、基ＣＸ＿１Ｘ＿２はカルボニル基を表わし、点
   線は結合又は無結合を表わすか、又はＣＸ＿１Ｘ＿２は
   ヒドロキシメチレン基および点線は無結合を表わし、更
   にＯＲ、Ｒ′、Ｒ″および環Ｂは式 I で定義された意
   味と同じであるか又は基ＯＲ、Ｒ′、Ｒ″に変換できる
   基を表わし、および／又は環Ｂ式 I で定義された意味
   と同じである） で表わされる化合物を、所望により基ＯＲ、Ｒ′、Ｒ″
   および／又は環Ｂ内で生じる同時還元を伴いながら還元
   するか、又は ｂ）次式III： ▲数式、化学式、表等があります▼（III）、 （式中、ＯＲ、Ｒ′、Ｒ″および環Ｂは式 I で定義さ
   れた意味と同じであるか又は基ＯＲ、Ｒ′、Ｒ″に変換
   できる基を表わし、および／又は環Ｂ式 I で定義され
   た意味と同じである） で表わされる化合物を、所望により基ＯＲ、Ｒ′、Ｒ″
   および／又は環Ｂ内で生じる同時還元を伴いながら還元
   するか、又は ｃ）次式IV： ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）、 （式中、ＯＲ、Ｒ′、Ｒ″および環Ｂは式 I で定義さ
   れた意味と同じであるか又は基ＯＲ、Ｒ′、Ｒ″に変換
   できる基を表わし、および／又は環Ｂ式 I で定義され
   た意味と同じであり、Ｘ＾■はアニオンである） で表わされる化合物を、所望により基ＯＲ、Ｒ′、Ｒ″
   および／又は環Ｂ内で生じる同時還元を伴いながら還元
   するか、又は ｄ）次式Ｖ： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）、 （式中、基ＮＲ＿１Ｒ＿２は第三アミノ基を表わし、更
   にＯＲ、Ｒ′、Ｒ″および環Ｂは式 I で定義された意
   味と同じであるか又は基ＯＲ、Ｒ′、Ｒ″に変換できる
   基を表わし、および／又は環Ｂ式 I で定義された意味
   と同じである） で表わされる化合物を、所望により基ＯＲ、Ｒ′、Ｒ″
   および／又は環Ｂ内で生じる同時還元を伴いながら還元
   するし、および／又は所望により、得られた式 I の化
   合物を他の式 I の化合物に変換しおよび／又は得られ
   た塩を遊離化合物又は他の塩に変換しおよび／又は塩形
   成能を有する式 I の生成遊離化合物を塩に変換し、お
   よび／又は立体異性体、又は光学異性体、例えばジアス
   チレオマー異性体混合物を、個々の立体異性体、光学異
   性体又は対重体混合物のそれぞれに分離し、および／又
   は対掌体、混合物、例えばラセミ体を個々の光学異性体
   に分割する、前記方法。