JPS63130546A - ２−メチル−レゾルシノ−ルの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】

本発明は、４．６−ジ−ターシャリブチル−２−メチル
レゾルシノールを脱ブチル反応させることにより２−メ
チルレゾルシノールを製造する方法に関するものである
。 ２−メチルレゾルシノールは、顔料、染料、毛髪染剤、
合成樹脂、医薬等の中間体として有用なものである。

【従来の技術及び問題点】

４．６−ジ−ターシャリブチル−２−メチルレゾルシノ
ールの脱ブチル化反応により、２−メチルレゾルシノー
ルを製造する方法は、よく知られており、一般に、その
時に使用される触媒として、硫酸、アルミニウムフェル
レート、アルミニラムクレゾレート等のほか珪藻土、白
土、シリカアルミナ、強酸性イオン交換樹脂等が公知で
ある。 しかし、これらの触媒はたとえば硫酸の場合、脱ブチル
化反応を起こすと共に、自身が反応してスルホン酸類が
副生じ、収率の低下をまねくだけでなく、得られた２−
メチルレゾルシノールを蒸留により取り出す前には、中
和処理が必要であるが、この時に発生する無機塩は蒸留
操作を円滑に進める上で、しばしば障害となっている。 又、スルホン酸類と生成したインブチレンが反応した物
質は、蒸留操作時悪影響を及ぼすので、中和処理時に無
害化させねばならないが、そのために高温過酷な処理を
必要とする。 本発明者らは、上記実情に鑑み、鋭意研究を重ねた結果
、触媒としてヘテロポリ酸を使用することにより、高収
率でかつ工業的に有利に目的物が得られる事を見出し、
本発明を完成するに至った。

【問題点を解決するための手段】

本発明の目的は、本発明に従って、４．６−ジ−ターシ
ャリブチル−２−メチルレゾルシノールをヘテロポリ酸
の存在下、脱ブチル化反応させることにより達成される
。 以下、本発明の詳細な説明する。 〈触媒〉 本発明は、触媒としてヘテロポリ酸を用いることを必須
の要件とするものである。本発明にいうヘテロポリ酸と
は、無機酸と結合してできるポリ酸のうち、２種以上の
金属によって生成される酸をいい、一般的には１種の金
属（またはへテロ原子）を中心として、それに酸素等を
介して他の金Ｒ（ポリ原子）が配位して形成されたもの
の総称である。ここで、ペテロ原子としては、ホウ素、
アルミニウム、ケイ素、リン、チタン、ゲルマニウム、
ヒ素、ジルコニウム、スズ、チルルナトラ例示すること
ができる。また、ポリ原子としてはモリブデン、タング
ステン、バナジウム又はニオブ等を例示することができ
る。 具体的には、モリブドリン酸、モリブドケイ酸、モリブ
ドヒ酸、モリブドテルル酸、モリブドアルミン酸、タン
グストケイ酸、タングストリン酸、タングストホウ酸、
タングストチタン酸、タングストスズ酸等であり、これ
らのなかでもそりブトリン酸、モリブドケイ酸、タング
ストリン酸、タングストケイ酸等が好ましく用いられる
。なお、これらのヘテロポリ酸は、通常水和物の形で用
いられる。 触媒の使用量は、４．６−ジターシャルー２−メチルレ
ゾルシノールに対して０．０１〜１０重量％、好ましく
は０．１〜５重量％である。 〈反応条件〉 本発明における反応温度は、１４（１〜３００℃、好ま
しくは１６０〜２５０℃である。 反応温度は使用する触媒量と組合せて工業的に有利な反
応時間となる様に決めることができる。 反応時間は通常０．５〜１０時間で充分である。 本発明の脱ブチル反応は、無溶媒でも可能であるが、溶
媒存在下でも可能である。使用される溶媒は、反応系で
レゾルシノール、触媒及び生成物に対して化学的に不活
性でなければならない。この様な性質を有する適当な溶
媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベ
ンゼン等の芳香族化合物が挙げられる。 これらの中で、ニトロベンゼンが特に好ましい溶媒とし
て使用される。 溶媒の使用量は、４，６−ジ−ターシャリブチル−２−
メチルフェノールに対して０．２〜１０重量倍、好まし
くは０．５〜１．０重量倍が適量である。 本発明の反応様式は、常圧、加圧もしくは減圧の回分式
または連続式いずれでも可能であることは言うまでもな
い。本発明の反応は、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不
活性気体の雰囲気下においても実施できる。 く反応後の処理〉 反応後の処理は、析出する触媒を分離することにより、
再使用可能である。 分離する手段としては、濾過あるいは遠心分離あるいは
デカンタ−など通常の分離手段で充分に目的を達するこ
とができる。 あるいは水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムなどのアル
カリで中和することにより触媒を無害化できる。これに
よって硫酸触媒使用時の様な、スルホン酸類の副生がな
いため、中和処理も高温にする必要がなく、緩和な条件
で充分である。 あるいは更に、水洗、分液によっても系内に存在するヘ
テロポリ酸を除くこともできる。 触媒除去あるいは無害化後の反応物は、溶媒留去後通常
の蒸留操作を実施することにより、高収率、高純度の２
−メチルレゾルシノールを得ることができる。 【発明の効果］ 本発明方法で用いるヘテロポリ酸によって副反応が極め
て少なく、また反応終了後、析出するヘテロポリ酸を系
内から取り出すことによって、反応に再使用することも
でき、ヘテロポリ酸のコストを低くすることができる。 又、触媒として硫酸を使用した時の様なスルホン化物等
の不純物がなく、極めて高い収支で反応を実施すること
ができる。 〈実施例〉 以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本
発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限定され
るものではない。 尚、実施例中、部及び％はそれぞれ重量部及び重量％を
意味する。 実施例　１ ４．６−ジ−ターシャリブチル−２−メチルレゾルシノ
ール５０部（純度９８％）とタングストケイ酸０．１部
をフラスコに入れ、窒素雰囲気下２００℃まで昇温した
。同温度にて１．５時間保温した。留出するインブチレ
ンガスは深冷・トラップに導いて回収した。 反応混合物２７．５部が得られた。 ガスクロマトグラフィーにより組成分析したところ、２
−メチルレゾルシノール含ｆｆ１８８．９％であった。 これは４．６−ジ−クーシャリブチル−２−メチルレゾ
ルシノールに対して９５％の収率であった。 実施例　２ ４、６−　’；−ターシャリブチルー２−メチルレゾル
ンノール１００ＩＪＩＳ　（純度９８％）とニトロベン
ゼン８０部をフラスコに仕込み、タングストリン酸０．
１部を加えて、２１０℃まで昇温した。同温度にて２時
間保温した。１００　℃まで冷却後、ソーダ灰にて中和
し、濾過後、濾液をロータリーエバポレーターで処理し
て５３．１部の固形物を得た。この固形物をガスクロマ
トグラフィーにより分析したところ、２−メチルレゾル
シノール含ｊ１９３．５％であった。これは４．６−ジ
−ターシャリブチル−２−メチルレゾルシノールに対し
て９６．５％の収率であった。 比較例 実施例１でタングストケイ酸０．１部の代わりに９８％
硫酸０，８部を使用し、以下同様の条件で反応実施した
。 反応混合物の重量は３０．２部であり、ガスクロマトグ
ラフィー分析による組成は２−メチルレゾルシノール含
量６８．２％であった。これは４，６−ジ−ターシャリ
ブチル−２−メチルレゾルシノールに対して８０％の収
率である。 その他の成分として原料が２０．２％、中間生成物が５
．４％、不明６．２％であった。 以　　上

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）４，６−ジ−ターシャリブチル−２−レゾルシノ
   ールをヘテロポリ酸の存在下、脱ブチル化反応させるこ
   とを特徴とする２−メチル−レゾルシノールの製造法。
2. （２）ヘテロポリ酸の使用量が、４，６−ジ−ターシャ
   リブチル−２−レゾルシノールに対して０．０１〜１０
   重量％である特許請求の範囲第１項に記載の方法。
3. （３）反応温度が、１４０℃〜３００℃である特許請求
   の範囲第１項又は第２項に記載の方法。