JPS63125355A - 厚膜サ−マルヘツド - Google Patents
厚膜サ−マルヘツドInfo
- Publication number
- JPS63125355A JPS63125355A JP26971686A JP26971686A JPS63125355A JP S63125355 A JPS63125355 A JP S63125355A JP 26971686 A JP26971686 A JP 26971686A JP 26971686 A JP26971686 A JP 26971686A JP S63125355 A JPS63125355 A JP S63125355A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- smooth
- electrodes
- heat accumulation
- thermal head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000009499 grossing Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000005338 heat storage Methods 0.000 claims description 20
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 18
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 claims description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 18
- 238000000059 patterning Methods 0.000 abstract description 8
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 4
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 abstract description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 abstract 6
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/315—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
- B41J2/32—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
- B41J2/335—Structure of thermal heads
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は感熱記録方式のファクシミリ装置やブリンク等
の記録部に用いられる厚膜サーマルヘッドに関する。
の記録部に用いられる厚膜サーマルヘッドに関する。
「従来の技術」
熱転写記録方式や感熱発色方式で画情報の記録を行う記
録装置では、記録ヘッドとしてサーマルヘッドを用いる
ことが多い。
録装置では、記録ヘッドとしてサーマルヘッドを用いる
ことが多い。
第2図は従来用いられてきた厚・膜サーマルヘッドの構
造を表わしたものである。厚膜サーマルヘッドは放熱用
のセラミック基板1の上にガラス蓄熱層2を印刷、焼成
し、更にその上に2種類の電極3.4を印刷、焼成した
後、フォトリソエツチングによりバターニングしている
。電極3.4の上には、紙面に垂直方向に延びる1本の
発熱抵抗体5が形成されており、その上には耐摩耗層6
が覆っている。発熱抵抗体5と耐摩耗層6は、共に印刷
、焼成されたものである。
造を表わしたものである。厚膜サーマルヘッドは放熱用
のセラミック基板1の上にガラス蓄熱層2を印刷、焼成
し、更にその上に2種類の電極3.4を印刷、焼成した
後、フォトリソエツチングによりバターニングしている
。電極3.4の上には、紙面に垂直方向に延びる1本の
発熱抵抗体5が形成されており、その上には耐摩耗層6
が覆っている。発熱抵抗体5と耐摩耗層6は、共に印刷
、焼成されたものである。
第3図は2種類の電極3.4と発熱抵抗体5の接続関係
を原理的に表わしたものである。1本の発熱抵抗体5に
は所定の間隔で2種類の電極3.4が交互に複数配置さ
れている。このうち一方の電極3.3、・・・・・・は
共通電極と呼ばれており、これらは図示しない電源ライ
ンに共通接続されている。他方の電極4.4、・・・・
・・は個別電極と呼ばれており、これらが画情報に応じ
て接地されたり大地と絶縁されることによって発熱抵抗
体5の所望の部位のみが通電され発熱することになる。
を原理的に表わしたものである。1本の発熱抵抗体5に
は所定の間隔で2種類の電極3.4が交互に複数配置さ
れている。このうち一方の電極3.3、・・・・・・は
共通電極と呼ばれており、これらは図示しない電源ライ
ンに共通接続されている。他方の電極4.4、・・・・
・・は個別電極と呼ばれており、これらが画情報に応じ
て接地されたり大地と絶縁されることによって発熱抵抗
体5の所望の部位のみが通電され発熱することになる。
従って、第2図に示した厚膜サーマルヘッドの耐摩耗層
6に記録用紙や熱転写記録媒体を接触させると、発熱抵
抗体5から発せられる熱エネルギによって感熱記録が行
われることになる。
6に記録用紙や熱転写記録媒体を接触させると、発熱抵
抗体5から発せられる熱エネルギによって感熱記録が行
われることになる。
「発明が解決しようとする問題点」
さて、厚膜サーマルヘッドにおける電極のパターニング
は最小幅が例えば20μmと非常に高精度なものが要求
される。しかし、従来の厚膜サーマルヘッドではガラス
蓄熱層2の表面に数十μmの径の凹凸が存在し、これが
パターニングの精度に悪影響を与えていた。すなわち、
凹凸部分にちょうど電極のパターンが存在すると、検査
工程で製品が不合格とされる場合があり、歩留りが悪い
という問題があった。
は最小幅が例えば20μmと非常に高精度なものが要求
される。しかし、従来の厚膜サーマルヘッドではガラス
蓄熱層2の表面に数十μmの径の凹凸が存在し、これが
パターニングの精度に悪影響を与えていた。すなわち、
凹凸部分にちょうど電極のパターンが存在すると、検査
工程で製品が不合格とされる場合があり、歩留りが悪い
という問題があった。
そこで本発明の目的は、ガラス蓄熱層の表面状態に係わ
らず電極のパターニングを良好に行うことのできる厚膜
サーマルヘッドを提供することにある。
らず電極のパターニングを良好に行うことのできる厚膜
サーマルヘッドを提供することにある。
「問題点を解決するための手段」
本発明では、放熱基板と、この上に形成された蓄熱層と
を有する厚膜サーマルヘッドにおいて、蓄熱層の上にこ
の表面を平滑化するための平滑層を配置し、この平滑層
を介して複数の電極を形成するようにする。そしてこれ
ら電極への電圧の印加制御によって抵抗体の通電個所を
制御する。
を有する厚膜サーマルヘッドにおいて、蓄熱層の上にこ
の表面を平滑化するための平滑層を配置し、この平滑層
を介して複数の電極を形成するようにする。そしてこれ
ら電極への電圧の印加制御によって抵抗体の通電個所を
制御する。
本発明における平滑層は(i)耐熱性、(ii )上下
両層との間での良好な密着性を有し、しかもその上に電
極を配置する必要性から(iii )絶縁性を有する固
体であることが必要である。このような特性をもったも
のとしては、例えば二酸化珪素の薄膜を挙げることがで
きる。
両層との間での良好な密着性を有し、しかもその上に電
極を配置する必要性から(iii )絶縁性を有する固
体であることが必要である。このような特性をもったも
のとしては、例えば二酸化珪素の薄膜を挙げることがで
きる。
本発明によれば、蓄熱層の上にこの表面を平滑化するた
めの平滑層を設けたので、電極を良好な状態で形成する
ことが可能となる。
めの平滑層を設けたので、電極を良好な状態で形成する
ことが可能となる。
「実施例」
以下実施例につき本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明の一実施例における厚膜サーマルヘッド
の断面を表わしたものである。
の断面を表わしたものである。
さて、本実施例の厚膜サーマルヘッドは、セラミック基
板1上にガラス蓄熱層2を形成する点では従来の厚膜サ
ーマルヘッドと同一である。従って、ガラス蓄熱層2上
にはその表面に数十μmの径の凹凸が存在することにな
る。
板1上にガラス蓄熱層2を形成する点では従来の厚膜サ
ーマルヘッドと同一である。従って、ガラス蓄熱層2上
にはその表面に数十μmの径の凹凸が存在することにな
る。
ガラス蓄熱層2が形成されたら、本実施例ではこの上に
平滑層11を形成する。すなわち、日産化学工業株式会
社の製造する二酸化珪素(SiC2)系コート剤(商品
名NTL)をディップ法でガラス蓄熱層2上に塗布した
後、これを焼成して平滑層11とする。この平滑層11
は厚さ数μm程度の膜厚であれば十分凹凸部分を平滑化
することができる。
平滑層11を形成する。すなわち、日産化学工業株式会
社の製造する二酸化珪素(SiC2)系コート剤(商品
名NTL)をディップ法でガラス蓄熱層2上に塗布した
後、これを焼成して平滑層11とする。この平滑層11
は厚さ数μm程度の膜厚であれば十分凹凸部分を平滑化
することができる。
平滑層11の上には、電極3および4を印刷、焼成し、
この後フォトリソエツチングによりパターニングする。
この後フォトリソエツチングによりパターニングする。
この上に、発熱抵抗体5と耐摩耗層6を、共に印刷、焼
成する。平滑層11によってガラス蓄熱層2の表面は十
分平滑化されているので、電極3.4のパターニングは
十分高精度に行うことができる。従って、厚膜サーマル
ヘッドの検査工程で電極3.4の切断等を原因とする不
合格がなくなり、歩留りが良くなる。
成する。平滑層11によってガラス蓄熱層2の表面は十
分平滑化されているので、電極3.4のパターニングは
十分高精度に行うことができる。従って、厚膜サーマル
ヘッドの検査工程で電極3.4の切断等を原因とする不
合格がなくなり、歩留りが良くなる。
以上説明した実施例では二酸化珪素系コート剤を平滑層
として使用したが、前記したように(i)耐熱性、(i
i )上下両層との間での良好な密着性および(iii
)絶縁性を有する固体であれば、これ以外のものも使
用可能である。
として使用したが、前記したように(i)耐熱性、(i
i )上下両層との間での良好な密着性および(iii
)絶縁性を有する固体であれば、これ以外のものも使
用可能である。
「発明の効果」
以上説明したように本発明によればガラス蓄熱層と電極
の間に平滑層を配置した。従って、電極のパターニング
後の発熱抵抗体の印刷、焼成時にガラス蓄熱層のガラス
成分が発熱抵抗体に流入することがなくなる。従来では
、発熱抵抗体にガラス蓄熱層のガラス成分が混入するこ
とで抵抗体部分の強度が低下したり、抵抗値の温度依存
性が高くなるという問題があったが、本発明ではこのよ
うな不都合も解決することができ、発熱抵抗体部分の強
度を十分維持することが可能となり、また抵抗値を一定
に保つことが容易となる。
の間に平滑層を配置した。従って、電極のパターニング
後の発熱抵抗体の印刷、焼成時にガラス蓄熱層のガラス
成分が発熱抵抗体に流入することがなくなる。従来では
、発熱抵抗体にガラス蓄熱層のガラス成分が混入するこ
とで抵抗体部分の強度が低下したり、抵抗値の温度依存
性が高くなるという問題があったが、本発明ではこのよ
うな不都合も解決することができ、発熱抵抗体部分の強
度を十分維持することが可能となり、また抵抗値を一定
に保つことが容易となる。
第1図は本発明の一実施例における厚膜サーマルヘッド
の断面図、第2図は従来の厚膜サーマルヘッドの断面図
、第3図は厚膜サーマルヘッドの回路構成を示す回路図
である。 1・・・・・・セラミック基板、 2・・・・・・ガラス蓄熱層、 3.4・・・・・・電極、 5・・・・・・発熱抵抗体、 11・・・・・・平滑層。 出 願 人 富士ゼロックス株式会社 代 理 人
の断面図、第2図は従来の厚膜サーマルヘッドの断面図
、第3図は厚膜サーマルヘッドの回路構成を示す回路図
である。 1・・・・・・セラミック基板、 2・・・・・・ガラス蓄熱層、 3.4・・・・・・電極、 5・・・・・・発熱抵抗体、 11・・・・・・平滑層。 出 願 人 富士ゼロックス株式会社 代 理 人
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、放熱基板と、この上に形成された蓄熱層と、この蓄
熱層の上にこの蓄熱層表面を平滑化するための平滑層を
介して形成された複数の電極とを有し、これら電極に電
気的に接続された抵抗体の通電個所をこれらの電極への
電圧の印加制御によって行うようにしたことを特徴とす
る厚膜サーマルヘッド。 2、平滑層は二酸化珪素の薄膜であることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の厚膜サーマルヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26971686A JPS63125355A (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | 厚膜サ−マルヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26971686A JPS63125355A (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | 厚膜サ−マルヘツド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63125355A true JPS63125355A (ja) | 1988-05-28 |
Family
ID=17476171
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26971686A Pending JPS63125355A (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | 厚膜サ−マルヘツド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63125355A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0265086A (ja) * | 1988-08-30 | 1990-03-05 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 加熱体 |
-
1986
- 1986-11-14 JP JP26971686A patent/JPS63125355A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0265086A (ja) * | 1988-08-30 | 1990-03-05 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 加熱体 |
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