JPH0480048A - サーマルヘッドの製造方法 - Google Patents

サーマルヘッドの製造方法

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JPH0480048A
JPH0480048A JP2194492A JP19449290A JPH0480048A JP H0480048 A JPH0480048 A JP H0480048A JP 2194492 A JP2194492 A JP 2194492A JP 19449290 A JP19449290 A JP 19449290A JP H0480048 A JPH0480048 A JP H0480048A
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heating resistor
resistor
trimming
pulse
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JP2194492A
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Kazuhiro Hayashi
和廣 林
Shimizu Sagawa
佐川 清水
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Fujifilm Business Innovation Corp
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Fuji Xerox Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 、八 発明の目的 I) 産業上の利用分野 本発明は、ワードプロセッサ、パソコン等の出力装置と
f−でのサーマルプリンタやファクシミリ等に使用され
るサーマルへノドの製造方法に関する。
ハ 従来の技術 従来、前記サーマルヘッドは 印刷時の騒音が小さく、
また、現像 定着工程が不要なため取り汲いが容易であ
る等力利点を有しており、広く使用されている。
二のようなサーマルヘッドは、絶縁基板上に列設された
複数の個別電極とこれらの先端部に対応して配!された
共通電極との間にそれらを接続する発熱抵抗体が形成さ
れている。そして、前記サーマルへ・ノドは、選択され
た個別電極および共通電極間に電力を供給して、その部
分の発熱抵抗体を発熱させ、熱記録(印字)を行うよう
に構成されている。
前記絶縁基板上に発熱抵抗体を形成する方法と−では、
スクリーン印刷等の厚膜技術ご用いる方法と、スバ!タ
リング等の厚膜技術を用いる方法とが知られている。
前記薄膜技術は均一な発熱抵抗体を形成することができ
るので・、薄膜技術で発熱抵抗体を形成した場合には、
発熱抵抗体の抵抗値を一定にするためのトリミング工程
を省略する二とが可能である。
しかしながら、薄膜技術は生産性が低いという間琵点が
ある。
前記厚膜技術は薄膜技術に比べて製造設備が安価で生産
性も高いが、−船釣にド・lト密度が高くて均一な発熱
抵抗体を形成することが困難である。
サーマルヘソド力絶縁基板表面に形成された各発熱抵抗
体(すなわち、各印字ド/トに対応する発熱抵抗体)の
抵抗値が均一でないと、発熱した際の発熱抵抗体の温度
に差が生じる。そうすると、熱転写紙等に印字を行った
際、印字した「字」または′−図4等に濃度ムラが発生
する。
従来、厚膜技術で製作したサーマルヘッドにおいては、
前記4度ムラの発生を防止するために前記各ト・トに対
置する発jk抵抗体の抵抗値を均一にするトリミング工
程うことが多い これは、発熱抵抗体に抵抗破壊を生じ
ない範囲で所定の強度の電界を印加すると、その電界強
實に応じて発熱抵抗体の抵抗値が;+f’J−するとい
つ性質を利用している このような発熱抵抗体の抵抗値を均一化する従来の技術
として、たとえば、特開昭61−83053号公報に記
載されたものか知られている、二の公報に記載されたも
のは、先端部が対向配置された複数の個別電極および共
通tf!間をそれぞれ個別に接続する複数の各発熱抵抗
体に福が一定で電圧値の異なるトリミングペルス−また
は、幅および電圧値一定で数の異なるトリミングパルス
を印加するようにしている。
その公報の実施例に記載されたものは、絶縁基板上の各
ドツトに対応する発熱抵抗体の初期抵抗値R1コ測定し
 各発熱抵抗体の初期抵抗値Riが目標抵抗値ROより
も大きい場合には、発熱抵抗体に所定の電圧VOのトリ
ミングパルスを印加して発弧抵抗体の抵抗値を減少させ
る。この減少した抵抗値が、目標抵抗値R11よりもま
だ大きい堝きには、前記所定の電圧〜′0にΔ■だけプ
ラスした電圧■0+ΔVのトリミングパルスを印加して
発熱抵抗体の抵抗値をさらに減少させる。この、さらに
減少した抵抗値が目標抵抗値ROよつもまだ大きい場合
には、前記所定の電圧■0に2ΔVだけプラスした電圧
VO↓2ΔVのトリミングパルスご印加して発熱抵抗体
の抵抗値をさらに減少させる。このようにして発熱抵抗
体の抵抗値が目標抵抗値RO以下に収まるまで、ΔVづ
つプラスした電圧VO十nΔVのトリミングパルスを印
加するようにしている。
前述のように、厚膜技術を用いて形成した各発熱抵抗体
の抵抗値を均一化する技術が開発されている一方、他方
では厚膜技術を用いてより均一なしかもドツト密度の高
い発熱抵抗体を形成するための技術の開発がなされてい
る。
そして、絶縁基板表面に均一でドツト密度の高い発熱抵
抗体を、厚膜技術により形成するため従来MOD (M
etallo  Organic  Depositi
on)法(たとえば、特開平1−220402号公報参
照)が提案されている。この従来のMOD法においては
、スクリーン印刷法等の厚膜技術により、絶縁基板表面
に塗布した金属有機物抵抗体材料=fR成して前記発熱
抵抗体を形成している。ぞして、二のMOD法において
は、比較的低温度の500℃以上の焼成1度で発熱抵抗
体を形成きることか知られている。
3) 発明が解決しようとする課題 ところで、前記M OD法で発熱抵抗体を形成した場合
、第12図に示すように一金属有機物抵抗体材料の焼成
温度が800℃までは発熱抵抗体の抵抗値が変化するが
、焼成温度を800℃以上にしても発熱抵抗体の抵抗値
はほとんど変化しなくなる。そして、この800°C以
上で焼成して形成された発熱抵抗体は、第13図に示す
ようなパルスを印加した場合の5tep 5tres 
Te5t (S S T )のカーブが、第14図の実
線Aで示すようになる。
この第14図の実線Aから分かるように 焼成温度80
0℃以上で形成された発熱抵抗体は、03W(印字時に
おける常用印加電力)をall、−る;力のパルスご印
加しても抵抗値が変化せず 結局抵抗破壊を起こして抵
抗値が急激に増加するまて゛。
抵抗値はぼとんと゛変化しないことが分かる。すなわち
、MOD法により焼成温度800℃以上で形成された発
熱抵抗体はその抵抗値が安定していることが分かる。
したがって従来は、MOD法で発熱抵抗体を形成する場
合には、発熱抵抗体の抵抗値が安定する800℃以上の
焼5Ii、4度で焼成することが多かった。この場合、
MOD法で形成した前記各発熱抵抗体は抵抗値のトリミ
ングを行わなくてもその抵抗値のバラツキは讐通±3〜
5%程度と小さい。
そして、二の各抵抗値のバラツキをさらに小さく調整し
ようとして、トリミングパルスを印加しても、前記第1
4図実線Aで示すように抵抗値がほとんど変化しない。
したがって従来は、MOD法によって形成された発熱抵
抗体の抵抗値をパルストリミングによって調整すること
は行われていなか−Iな。
ところが 本発明前は次の8点(a)、 (b)に気が
付いた fa+  MOD法で形成した発熱抵抗体は 焼成1度
を低くした場合 実際の印字時の印加電力よりも大きな
電力のトリミングパルスの印加によりかなりの抵抗値変
化が生じる(たとえば、焼成温度が約600’C程度の
場合、第14図の破IIBで示すように最大35%の抵
抗値変化が生じる)(b)  実際の印字時の印加パル
スよりも大さな電力のトリミングパルスで抵抗値調整を
行った場合実際の印字時の比較的小さな電力の印加パル
スでは、前記調整された抵抗値に変化が生じない。
本発明は前述の事情に濫みてなされたものでMOD法に
よって形成された発熱抵抗体の抵抗値のバラツキを小さ
くすることを課M!:する。
B5発明の構成 1) 課題を解決するための手段 前記課題を解決するために、本発明のサーマルヘッドの
製造方法は、複数の個別電極と それらの個別を優先端
部に対応して配夏された共通電極と、金属有機−抵抗体
材料を焼成して形成されるとともに前記各個別isおよ
び共通電極閏を接続する発熱抵抗体とが絶縁基板表面に
形成されたサーマルヘッドの製造方法において。
前記金属有機物抵抗体材料を焼成して発熱抵抗体を形成
する際、前記焼成して形成された発熱抵抗体に抵抗値調
整用のトリミングパルスを印加した時に抵抗値が大きく
変化する焼成温度で焼成し、その後、前記各発熱抵抗体
にトリミングパルスを印加して各発熱抵抗体の抵抗値の
バラツキを小さくすることを特徴とする。
2)  作  用 前述の本発明のサーマルへyドの製造方法では、前記金
属有機物抵抗体材料を焼成して形成された発熱抵抗体は
、抵抗値調整用のトリミングパルスが印加された時に抵
抗値が大きく変化する焼成温度で焼成されている。した
がって、発熱抵抗体にトリミングパルスを印加すること
により、各発熱抵抗体の抵抗値を所望の大きさだけ変化
させて各発熱抵抗体の抵抗値のバラツキと小さくするこ
とができる7 3) 実施例 次に、図面により本発明の一実施例について説明する。
第1[2ffは本発明の厚膜型サーマルへ・ソドの製造
方法の一実施例で製造されたサーマルヘッドの全体説明
図、第2図はその要部の斜視図、第3図は第2図の矢視
■部分の拡大図、第4A図は同実施例の要部の平面図、
第4B図および第4c図は第4A図のrVB−rVBl
iおよびrVC−IVC線断面図であり、第5A〜第1
1図は同サーマルヘッドの製造方法の説明図である。
第1図に示すように、プラテンロールRの外周に沿って
搬送される感熱記録紙Pに熱記録(印字)を行うための
サーマルヘッドHは、支持板1を備えている。この支持
板1の表面には、第1図中、右側部分に絶縁基板2が接
着剤によって張付けられており、二の絶縁基板2は、ア
ルミナ製本体2aとその表面に形成された約6OLim
の厚さの77ダーグし−ズ層2bとがら構成されている
 エして 第3図に示すように前記絶縁基板2の表面に
は 複数の発熱抵抗体3が主走査方向Xに沿って島状に
設けられている。この発飢抵抗体3は、後述するように
、金!iE有機物抵抗本材料t600°Cで焼成して形
成されたものである。
また、前記?IA縁基板2表面上には、第3図に示すよ
うな帯状の共通電極本体部4aとこの共通電極本体部4
aから櫛歯状に副走査方向Yに突出する多数の共通電極
接続部4bとを有する共通電極4と、前記多数の共通電
極接続部4bに対向オる位1に所定の路肩を1いてR1
された多数の個別を瘉5とが形成されている。前記各共
通電極接続部4bおよび個別電極5は前記絶縁基板2表
面上に主走査方向Xに沿って配設された前記発熱抵抗体
3によって接続されている。また、前記個別電極5の基
端部(第1図中、左端部)は後述の駆動用ICと接続す
るためのバンド(すなわち、TC接続端子)5aとして
形成されている。そして、前記発熱抵抗体3、共通電極
4、および個別電極5等は耐r!J粍層b(第1.3.
4A、4B図19照)によって被覆されている。
前記支持板1の表面には、第1図中、左側部分にプリン
ト配線vi7が接着剤によって張付けられており 二の
プリント配線板7表面には外部接続用配線8が形成され
ている。この外部接続用配線8はその入力端@(第1図
中、左側)において前記プリント配線板7を貫通するコ
ネクタピン9を介して、駆動信号入力端子としてのソゲ
ソト10に接続されている3プリント配線板7の前記絶
縁基板2に近い部分には駆動用ICが配設されており 
この駆動用ICはボンディングワイヤ11および〕2に
よって前記個別電極5のパ/ド5aおよび外部接続用配
線8と接続されている。
前記ICおよびボンディングワイヤ11.12は 保護
樹脂13によって被覆されており、さらに、前記保護樹
脂13はアルミ製のカバー14によって保護されている
そして、前記サーマルヘッドHは、前記符号1〜14で
示された構成妾素および前記駆動用IC等から構成され
ている。そして、前記各発熱抵抗体3が前記耐摩耗層6
を介してローラプラテンR上の感熱記録紙Pに押付けら
れた状態で熱記録〈印字)が行われる。
次に前記サーマルヘッドの製造方法の実施例を説明する
(イ)抵抗体膜および発熱抵抗体形成用のレジストパタ
ーン形成工程(第5A、5B図参照)先ず、前記絶縁基
板2表面に、発熱抵抗体形成用の金属有機物材料(すな
わち、金属有機物抵抗体材料)をスクリーン印刷により
ベタ印刷する。
前記金属有機物抵抗体材料としては、たとえば。
エンゲルハード社のメタルレジネート(商品名)の下記
の番号の各溶液を混合したものを使用する。
A−1123(Ir有機物材料) #28−FC(Si有機物材料) #8365 (Bi有機物材料) すなわち、上記各溶液を焼成後の原子数比が、Ir:S
i:Bi=1+1:1となるような割合で混合し、さら
に、α〜タービイ・オール、ブチルカルピトールアセテ
ート等の溶剤分使用して粘度を5000−30000c
psにJliする。この混合物〈すなわち、金属有機物
抵抗体材料)を1゜O〜400メノンユのステンレスス
クリーンにより前記絶縁基板2表面上に印刷塗布する。
この金属有機物抵抗本材料か印刷塗布された絶縁基板2
を120℃で乾燥してから、赤外線ベルト焼成炉におい
て温度600°Cで10分間焼成して抵抗体膜3Lを形
成する。このようにして形成される抵抗体膜3Lは、た
とえば膜厚0.1〜05μmであり、シート抵抗は膜厚
02μmに換算して150Ω/口程度である。
次に、前記抵抗体111BL上にレジスト層R1を形成
してからその上に露光用のマスクM1を重ねて露光、現
像を行う、そうすると、第6A、6B図に示すような発
熱抵抗体形成用のレジストパターンRpが得られる。
(ロ)発熱抵抗体形成工程(第7A、7B図参照) 次に、エツチング液(フッ硝酸シを用いてエツチングを
行うと 絶縁基板2表面に多数の発熱抵抗体3が形成さ
れる、 (It) を優形成工程(第8A〜90図参照)次に2
前記発熱抵抗体3が形成された絶縁基板2表面にノリタ
ケ株式会社製のメタロオーガニック金ペーストD27を
ヘタ印刷して600℃で焼成し 金膜4Lを形成する。
次に、前記金膜4L上にレジスト層R2を形成してから
、マスクM2を重ね、露光、現像を行って1c僅形成用
のレジストパターン9得る8次に、エンチング液(ヨウ
素−ヨウ化カリウム溶液)を用いてエツチングを行い、
前記金膜4Lから第9A〜9C図に示す共通電極4およ
び個別電%5を形成する。
(ニ)耐摩耗層形成工程 次に、前述の発熱抵抗体3.共通電極4および個別電極
5が形成された絶縁基板2表面上に、耐摩耗層形成用の
金属有機物材料をスクリーン印刷によりベタ印刷する。
このスクリーン印刷された絶縁基板2f!:Q2燥させ
てから赤外線ベルト焼成炉において600℃で焼成して
耐摩耗層b(第13.4A、4B図等参照)を形成する
。二の耐摩耗層すは必要に応じて多層に形成し、厚さ3
μm程度になるようにする。
このようにして、前記第4A〜4C図に示したような、
金属有機物抵抗体材料から形成さnた発熱抵抗体3およ
び電極4.うが表面に形成された絶縁基[2が得られる
この絶縁基板2の発熱抵抗体3は、金属有機物抵抗体材
f1分600℃で焼成して形成されているので、第14
図の点線Bで示すように、印字時の常用印加電力である
0 3W(ワット)を越疋る抵抗値調整用トリミングパ
ルスを印加することにより、その抵抗値を最大3506
程度変化させることができる。
そこで、前記絶縁基板2表面に形成された各発熱抵抗体
3の抵抗値は第10図のブロック線図で示されるトリミ
ング装!によりトリミングされる。
第10図において、プローバ21は、前記個別電%5の
バリド5λに接触する探針2La、21a・を(llj
ている。そして、前記プローバ21にはマルチ7レクサ
リレー22が接続されており、これらのプローバ21お
よびマルチ7レクサリレー22はコンピュータ23によ
り制御されて、前記探針21&1個別を掻5を介して前
記Q熱抵抗体3.3.・・(第3図参照)中の1ビIト
を選択するように構成されている。
前記マルチプレクサリレー22は、前記コンピュータ2
3によって制御される切替スイッチ24を介してパルス
発生器25の出力端子、または抵抗測定器26の入力端
子に選択的に接続されるように構成されている。
次に、前述の第10図のブロック線図で示されるトリミ
ング装置の作用を第11図のフローチャートにより説明
する。
前記絶縁基板2表面に形成された前記複数の発熱抵抗体
3のトリミングを行う処理〈フロー)が開始されると、
ステップS1において前記プローバ21の探針21a、
21a、・・・を前記個別を衡55 ・のバlド5a、
5a、  に接触させ、探針21の数に応じた数(たと
えば128)の発熱抵抗体3力初期抵抗値R1と測定す
る。
次にステップS2において、n=1と置く。
次にステップS3において前記各発熱抵抗体33、 の
中からn=1に対応するビットくすなわち発熱抵抗体)
を選択する。
次にステップS4において抵抗値が目標値の所定範囲内
に在るかどうかを判断する。ノー(N )の場合はステ
ップS5に移る。
ステップS5において発熱抵抗体3に印加するトリミン
グパルスの電圧値と計算する。この電圧値の計算方法と
しては、たとえば、前記特開昭61−83053号公報
に記載された方法を採用する。
次にステップS6において発熱抵抗体3にトリミングパ
ルスを印加する。
次にステップS7において前記発熱抵抗体3の抵抗値を
測定してから前記ステップS4に戻る。
ステップ$4においてイエスの場合はステップS8に移
る。
ステ・リプS8においてn==n本1と1く。
次にステップS9において1=noかどつかを判断する
。ただしnoは前記個別電極5に接触する前記プローブ
21の探針213.の数に1をプラスした数であり、た
とえば探針21&の数が128であるならばno=12
9である。このステ・lプS9においてノーの場合は前
記ステ・lプS3に戻り。
イエスの場合には全ての探針(たとえば128本の探針
)21&に接続された発熱抵抗体3.3・・のトリミン
グが終了したものとして、次のステップS10に移る。
ステップS10において、前記絶縁基板2表面の発熱抵
抗体3.3.・・の全ビットのトリミングが終了したか
どうか判断する。このステップSlOにおいてノーの場
合には前記ステップSlに戻り、まだトリミングの終了
していない発熱抵抗体33、・・・に接続された個別電
極5,5.・・のパ・lド5&に前記プローバ21の探
針21&を接触させてその各発熱抵抗体3,3.・・・
の初期抵抗値R1を測定する。こカステリプSIOにお
いてイエスの場合には前記絶縁基板2i11!面の発熱
抵抗体3のトリミングのフローを終了する、 このトリミングにより、前記金属有機物抵抗体材料から
形成された各発熱抵抗体3のバラツキのあった初期抵抗
値Riを所定の目標範囲内に収める二とかて゛きる。
以上、本発明によるサーマルへ・lドの実施例を詳述し
たが、本発明は、詳述の実施例に限定されるものではな
く、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内
で1種々の設計変更を行うことが可能である。
たとえば、発熱抵抗体をトリミング装置ニールすること
も可能である。また 絶縁基板表面に電極を形成してか
ら発熱抵抗体を形成することも可能であり、その場合は
電極の焼成温度を600℃よりも高く(すなわち1発熱
抵抗体形成時の焼成温度よりも高く)設定することが可
能である。さらに、発熱抵抗体は、実施例で示した以外
の成分の金属有機物抵抗体材料を焼成して形成すること
が可能であり、またその際の焼成4度は焼成して形成さ
れた発熱抵抗体がトリミングパルスにより実用的な程度
の抵抗値変化を生ずるような温度であれば種々の値を選
択することが可能である。さらにまた、トリミングパル
スのパルス幅は適当な値を採用することが可能である。
C発明の効果 前述の本発明のサーマルヘッドの製造方法は。
前記金属有機物抵抗体材料を焼成して形成された発熱抵
抗体が、抵抗値調整用のトリミングパルスを印加された
時に抵抗値が大きく変化する焼成温度で焼成されている
ので1発熱抵抗体にトリミングパルスを印加することに
より、発熱抵抗体の抵抗値を比較的大きく変化させるこ
とができる。したがって、金属有機物抵抗体材料から形
成された発熱抵抗体の抵抗値のバラツキを小さくするこ
とができる。したがって、各発熱抵抗体の発熱量を均一
にすることができるので、均一な濃度の印字を行えるサ
ーマルへ・ソドを得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明によるサーマルヘッドの製造方法の一実
施例で製造されたサーマルヘッドの全体説明図、第2I
2Iはその要部の斜?!図、第3121は第2図の矢視
■部片の拡大図、第4A図は第3図のrVA矢視図、第
4B図は第4A図のIVB−IVB線断面図、第5A図
〜第9C図は同サーマルヘッドの絶縁基板表面に発熱抵
抗体および電極を形成する方法の説明図、第10図は同
サーマルヘッドの製造に使用するトリミング装!の説明
図、第11図は前記第10図のトリミング装置の作用を
説明するためのフローチャート、第12〜14図は金属
有機物抵抗体材料から形成される発熱抵抗体の特性を説
明するための図、である。 2 絶縁基板、3・・発熱抵抗体 4・共通電極、5・
・個別電極、 特許出願人   富士ゼロックス株式会社代理人 弁理
士   1) 中   隆  秀外2名 第3図 第2図 第10図 第1 1図 業fに1 lF21 1Isec 第1 2図 第13図 10IIsec

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  複数の個別電極(5)と、それらの個別電極先端部に
    対応して配置された共通電極(4)と、金属有機物抵抗
    体材料を焼成して形成されるとともに前記各個別電極(
    5)および共通電極(4)間を接続する発熱抵抗体(3
    )とが絶縁基板(2)表面に形成されたサーマルヘッド
    の製造方法において、 前記金属有機物抵抗体材料を焼成して発熱抵抗体(3)
    を形成する際、前記焼成して形成された発熱抵抗体(3
    )に抵抗値調整用のトリミングパルスを印加した時に抵
    抗値が大きく変化する焼成温度で焼成し、その後、前記
    各発熱抵抗体(3)にトリミングパルスを印加して各発
    熱抵抗体(3)の抵抗値のバラツキを小さくすることを
    特徴とするサーマルヘッドの製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6509630B1 (en) 1999-03-11 2003-01-21 Seiko Epson Corporation Flexible interconnecting substrate, film, carrier, tape-shaped semiconductor device, semiconductor device and method of manufacturing the same, circuit board, and electronic equipment
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JP2008004855A (ja) * 2006-06-26 2008-01-10 Nitto Denko Corp Tab用テープキャリア

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