JPS63114035A - ビ−ムの心合せ方法 - Google Patents

ビ−ムの心合せ方法

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JPS63114035A
JPS63114035A JP62211489A JP21148987A JPS63114035A JP S63114035 A JPS63114035 A JP S63114035A JP 62211489 A JP62211489 A JP 62211489A JP 21148987 A JP21148987 A JP 21148987A JP S63114035 A JPS63114035 A JP S63114035A
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JP
Japan
Prior art keywords
objective lens
lens
deflection
adjustment
transmission electron
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62211489A
Other languages
English (en)
Inventor
ヨハン・グスタフ・バッカー
カレル・ディデリック・ファン・デル・マスト
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
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Filing date
Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Publication of JPS63114035A publication Critical patent/JPS63114035A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/147Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/261Details
    • H01J37/265Controlling the tube; circuit arrangements adapted to a particular application not otherwise provided, e.g. bright-field-dark-field illumination

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、粒子源、レンズシスム、ビーム傾斜装置、対
物レンズおよび中央制御装置を有する荷電粒子ビーム装
置内の荷電粒子のビームの心合せ方法に関するものであ
る。
このような方法は「ウルトラマイクロコピイ(ultr
amicrocopy) J第3号、1978年、第4
9〜60頁のエフ・ゼムリン(F、 Zemlin)外
の論文より知られている(以下ゼムリン論文という)。
このゼムリン論文には、例えばカーボン箔のデフラクト
グラム(diffractogram)のタブo −(
tableau)が種々の方位の下で固定傾斜角を取る
ようにしたビーム心合せ方法が記載されている。一連の
デフラクトグラムの同様に等しい傾斜角度と評価を有す
る:方位角的に直径上に位置する2つのビーム走路によ
り、ビームに対する心合せ基準が取出される。このよう
な一連のデフラクトグラムの利用特に評価は比較的時間
がかかり、その結果この方法は既に一般的な用途には適
しない。より重大な欠点は:この方法を行った後でもビ
ームが実際に正確に心合せされているという保証が得ら
れないということである。それどころか、高い分解能力
調節に対しては、心合せの許容以上の偏差が生じる可能
性がある、これは、例えばディスプレースクリーン上の
一部で、最適な心合せに対する規準が、方向誤差が関係
のレンズの球面収差により相殺されることによっても満
たされることがあるということに基因する。この方法は
、その時間がかかるという性質のために、動的ビーム心
合せの用途にも余り適しない。
本発明の目的は、あらゆる環境において十分に正確な心
合せをきたすより一般に役立つビーム補正方法を得るこ
とにある。この目的を達成するために本発明は次の特徴
を有する、すなわち、傾斜装置の2つの調節に対するイ
メージの偏位をその中間に対称的に位置する第3の傾斜
装置調節に対して決定し、次いで前記のイメージの偏位
を中心のコンポジション露出(composition
 exposure)ビームの再調節によって互いに等
しくする。
本発明の方法によれば、イメージの偏位だけを比較すれ
ばよいので、この場合ビームの補正は比較的僅かな時間
しか必要とせず、また、この比較は中心位置に対して行
われるので、偏位の相互等化による心合せを行うことが
でき、このため全部の関係のビーム走路に対して最適の
心合せが保証づ− される。焦点合せにより、イメージは、測定に好ましい
動作距離が得られる迄互いに向けて動かされることがで
きる。
この方法は互いに交差する2つの方向で行うのが好まし
い。イメージの偏位は任意の所望のビーム傾斜周波数で
行うことができるので、この周波数は、偏位が簡単に検
出できるように選択することができる。この方法は、目
によって行ってもよいし或いはまたその目的に適した方
法によって自動的に行ってもよい。
ビーム偏位の自動的な測定に対しては、単一の検出器、
検出器線形アレーか線形位置感応検出器、互に交差して
配向された2つの線形検出器アレーか線形位置感応検出
器、或いはまたテレビジョン回路を有する走査検出シス
テムか例えば電荷結合素子(CCD)検出器の自己走査
マトリックスの何れかを用いることができる。
この方法によりコンポジションに対する最適の露出角が
調節されると、レンズの付勢の変化によりイメージがス
クリーンの中心の回りに回転する−〇− ようにレンズの光軸が次のレンズシステムとディスプレ
ースクリーンに対して心合せされるのが望ましい。
動的な心合せは、関係のレンズ例えば対物レンズの付勢
の異なる値において、関係のビーム補正を決め、例えば
走査透過顕微鏡(STEM)モードで働く電子顕微鏡に
対しては前記のビーム補正を装置のビーム偏向システム
にくえわまた透過電子顕微鏡(TEM)モードで働く電
子顕微鏡に対しては前記のビーム補正を画像偏向装置に
加えることによって実現される。この自動補正の調節も
自動的に行うことができる。
以下本発明を添付の図面を参照して実施例で更に詳しく
説明する。図面は電子顕微鏡の形の本発明方法実施装置
を示したものである。図の電子顕微鏡は、アノード2を
有する電子発生源1、ビーム傾斜装置または揺動体(w
obbler)  3と絞り4、この場合には第1集束
レンズ5、第2集束レンズ6および集束絞り7を有する
集束システム、この場合には補助レンズ19が内蔵され
た第1対物レンズ極8および第2対物レンズ極9を有す
る対物レンズ、ビーム走査システム10、対物レンズス
ペース11、回折絞り13を有する回折レンズ12、中
間レンズ14、第1投写レンズ15および第2投写レン
ズ16を有する投写システム、カメラ17、観察用スク
リーン18より成る。これ等すべての構成要素は、電源
用の給電線21と観察用窓22とを有するハウジング2
0に納められている。このハウジングには、アイピース
23、真空ポンプ24および例えばプレートカメラまた
はその他の検出装置用のスペース25がある。
中央制御装置26は、少なくともビーム傾斜装置、対物
レンズ付勢装置27、カメラ17およびモニター28と
接続される。本発明によれば、装置の付勢後、ビーム傾
斜装置の3つの調節に対する3つのビームディスプレー
がスクリーンまたはカメラに投写される。手動操作の場
合には、これ等は例えば直接にスクリーン上またはカメ
ラよりモニター28上で調べることができる。イメージ
は、少なくとも数Hzのビーム傾斜装置調節周波数によ
り同時に観察することができ、ビームの露出方向を再調
節することにより、中心イメージに対して対称的に配向
され、次いで対物レンズ焦点合せによって互の方向に動
かされることができる。この処理は同じ様にして自動的
に行うことができ、この場合には、検出装置が、スクリ
ーン上またはカメラのイメージの位置に関係した信号が
常に得られるように構成される。この検出装置より、中
心ビーム位置に対する差信号を取出し、この信号を露出
ビームの方向の再調節によって再び互に等しくすること
かできる。中心イメージに対する2つの偏位されたイメ
ージの距離は、対物レンズの付勢によって、測定および
比較に最も適した値に夫々調節することができる。自動
測定に対しては、結果として相互のビーム偏位を直接に
得ることのできる検出器の線形アレーまたは線形位置感
応検出器で操作するのが有利であろう。前記の信号の決
定は、線形検出器の2つの直交アレーまたは検出素子の
マトリックスによって更に精密にすることができる。ビ
ーム偏位は、中心の傾斜装置調節である基準調節に対し
て測定されるので、装置の関係部分を通じてのビーム変
化は、例えば関係のレンズ、この場合には対物レンズ、
の球面収差によって生じることのある可及的に低い画像
欠陥に対して最大限に利用される。
イメージ形成に最も関係あるレンズでは、レンズ付勢の
変化が、十分に正確なビーム調節に対して許容できない
ビーム偏位をきたすことがあるので、本発明ではそのた
めに動的な補正も設けられる。この補正も自動的に行う
ことができる。付勢に比例する信号が、対物レンズの付
勢装置27から中央制御装置に送られる。この付勢にお
いてビーム偏位が決定されて補正され、これに必要なビ
ーム偏向装置の付勢は対物レンズ電流と関係する。
以上説明したビーム心合せはこのような装置のすべての
粒子レンズに適用することができるが、特に例えば電子
顕微鏡の対物レンズは前記の補正の対象として好適であ
る。イメージまたはスポットを強く決定するのはまさに
このタイプの装置の対物レンズであり、更にこのレンズ
に対ずろイ4勢−10= は極めて変化する。このことは、荷電粒子で働く電子ビ
ームまたはイオンビーム書込装置または検査装置の対物
レンズ(ターミナルレンズとも呼ばれる)に同じ様に当
嵌まる。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の方法を使用する電子顕微鏡の模型的断面図
である。 1・・・電子発生源    2・・・アノード3・・・
ビーム傾斜装置  4・・・絞り訃・・第1集束レンズ
  6・・・第2集束レンズ7・・・集束絞り    
 訃・・第1対物レンズ極9・・・第2対物レンズ極 
10・・・ビーム走査システム11・・・対物レンズス
ペース 12・・・回折レンズ    13・・・回折絞り14
・・パ中間レンズ    15・・・第1投写レンズ1
6・・・第2投写レンズ  17・・・カメラ18・・
・観察用スクリーン 20・・・ハウジング22・・・
観察用窓     23・・・アイピース24・・・真
空ホン7’     25・・・スペース26・・・中
央制御装置 27・・・対物レンズ付勢装置 28・・・モニター 特許出願人  エヌ・ベー・フィリップス・フルーイラ
ンペンファブリケン

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、粒子径、レンズシステム、ビーム傾斜装置、対物レ
    ンズおよび中央制御装置を有する荷電粒子ビーム装置内
    の荷電粒子のビームの心合せ方法において、傾斜装置の
    2つの調節に対するイメージの偏位をその中間に対称的
    に位置する第3の傾斜装置調節に対して決定し、次いで
    前記のイメージの偏位を中心のコンポジション露出ビー
    ムの再調節によって互いに等しくすることを特徴とする
    ビーム心合せ方法。 2、装置の光軸をZ軸として用い、X方向の傾斜装置の
    調節およびY方向の調節の両方に対し、イメージ偏位を
    、両方向に対して同じである中心露出ビーム装置調節に
    対して決定する特許請求の範囲第1項記載の方法。 3、略々1Hzと50Hz間の傾斜装置調節周波数を用
    いる特許請求の範囲第1項または第2項記載の方法。 4、イメージ偏位測定に唯1つの検出器を用いる特許請
    求の範囲第1項乃至第3項の何れか1項記載の方法。 5、位置感応線形検出アレーを用いる特許請求の範囲第
    1項乃至第3項の何れか1項記載の方法。 6、検出システムと中央制御装置との間にテレビジョン
    回路を有する走査検出システムを用いる特許請求の範囲
    第1項乃至第3項の何れか1項記載の方法。 7、自己走査電荷結合素子を用いる特許請求の範囲第1
    項乃至第3項の何れか1項記載の方法。 8、対物レンズの付勢を制御することによりビーム偏位
    を最適検出に適合させる特許請求の範囲第1項乃至第7
    項の何れか1項記載の方法。 9、荷電粒子のビームを用いる装置の走査透過電子顕微
    鏡モード調節において、対物レンズ付勢に応じたビーム
    偏向信号をビーム偏向装置に加える特許請求の範囲第1
    項乃至第8項の何れか1項記載の方法。 10、荷電粒子を用いる装置の透過電子顕微鏡モード調
    節において、対物レンズ付勢に応じたビーム偏向信号を
    ビーム偏向装置に加える特許請求の範囲第1項乃至第8
    項の何れか1項記載の方法。 11、透過電子顕微鏡モードと走査透過電子顕微鏡モー
    ド間の切換のために対物レンズに切換可能な補助レンズ
    を設け、この目的のために切換信号で制御される中央制
    御装置がこの目的に適したビーム偏向装置にビーム偏向
    信号を加える特許請求の範囲第9項または第10項記載
    の方法。
JP62211489A 1986-08-27 1987-08-27 ビ−ムの心合せ方法 Pending JPS63114035A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8602175A NL8602175A (nl) 1986-08-27 1986-08-27 Werkwijze voor bundelcentrering.
NL8602175 1986-08-27

Publications (1)

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JPS63114035A true JPS63114035A (ja) 1988-05-18

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ID=19848461

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JP62211489A Pending JPS63114035A (ja) 1986-08-27 1987-08-27 ビ−ムの心合せ方法

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US (1) US4820921A (ja)
EP (1) EP0257679B1 (ja)
JP (1) JPS63114035A (ja)
KR (1) KR880003389A (ja)
DE (1) DE3785706T2 (ja)
NL (1) NL8602175A (ja)

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EP0257679B1 (en) 1993-05-05
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NL8602175A (nl) 1988-03-16
EP0257679A1 (en) 1988-03-02
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