JPH0245734A - 自動組織解析処理装置 - Google Patents

自動組織解析処理装置

Info

Publication number
JPH0245734A
JPH0245734A JP63196287A JP19628788A JPH0245734A JP H0245734 A JPH0245734 A JP H0245734A JP 63196287 A JP63196287 A JP 63196287A JP 19628788 A JP19628788 A JP 19628788A JP H0245734 A JPH0245734 A JP H0245734A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
image
tissue
stage
microscope
images
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63196287A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobuhiko Nishimura
宣彦 西村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP63196287A priority Critical patent/JPH0245734A/ja
Priority to US07/376,664 priority patent/US5038035A/en
Priority to EP19890112714 priority patent/EP0353504A3/en
Priority to KR1019890011160A priority patent/KR910006221B1/ko
Publication of JPH0245734A publication Critical patent/JPH0245734A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00—Microscopes
    • G02B21/0004—Microscopes specially adapted for specific applications
    • G02B21/002—Scanning microscopes
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
    • G01N15/10—Investigating individual particles
    • G01N15/14—Optical investigation techniques, e.g. flow cytometry
    • G01N15/1429—Signal processing
    • G01N15/1433—Signal processing using image recognition
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G01N2021/8887—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges based on image processing techniques
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/10—Scanning
    • G01N2201/103—Scanning by mechanical motion of stage

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Image Analysis (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、機械部品等の品質管理、材質調査に用いられ
る組織検査装置に関する。
〔従来の技術〕
従来の光学顕微鋳、電子顕微鏡等の組織解析装置は、調
査領域の任意の倍率の一視野の組織を観察、記憶するも
のであった。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし上述した組織観察装置では観察できる視野数が一
視野であることから、広く領域の観察を行なうためには
、低倍の組織観察を行ない更に各部の高倍の組織の観察
を行なう場合には、低倍の組織観察により調査対象位置
を視野中心まで移動させ１倍率を順次上げて観察する必
要があった。
また更に、調査対象試料において調査したい個所が多数
ある場合には、個々の位置を探し出し１枚づつ写真撮影
する必要がある上に１個々の調査位置の相対位置の情報
を得るためには、試料台に付属したゴニオメータのＸ軸
及びＹ軸目盛を読み取った後、方眼紙等に記入する必要
があった。
また、調査したデータの保管においても、撮影した写真
又はフィルムを保管する必要があり。
保管に多くのスペースを必要とする上に、再度データが
必要な際には保管したデータの中から探し出す必要があ
るなどの不具合点があった。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、材料の表面組織を観察する組織観察機構と、
上記組織観察機構に対設される試料ステージと、上記組
織観察機構の像を取り込んで画像を処理する画像処理装
置と、上記取り込んだ画像を記憶する記憶装置と、上記
記憶画像の任意な画像を拡大・縮小又は上記記憶画像の
うち複数個の画像を合成して出力する出力装置と、から
成ることを特徴とする自動組織解析処理装置であって、
上述する従来のものの問題点を解消する目的で発明され
たものである。
さらに、詳述すれば、従来の光学顕微鏡等の組織解析装
置の試料ステージにこれを駆動させるためのモータと、
その駆動を制御し広領域を細分化した小領域を上記光学
顕微鏡等の視野上に正確に位置させるだめのコンピュー
タと、自動焦点調整機構と１画像を取り込み及び画像記
憶再生機構を組み合わせて試料面上の広い領域を多数の
小領域に区分し各上記小領域の顕微鏡組織を自動的に連
続して画像として画像処理装置によってデジタル化して
記憶する光ディスク等のデジタル信号記憶装置と、上記
記憶した全上記小領域の光学顕微鏡等の組織のうちの任
意の上記小領域の組織を組み合わせて出力することによ
って任意の位置及び倍率の光学顕微鏡等の組織を出力表
示する出力装置と、から構成されているものである。
〔作　用〕
本発明である材料の組織を観察する自動組織解析装置に
おいて、上記材料表面の広範囲な観察領域を任意の等形
状の小領域に区分するとともに、各々の上記小領域に符
号付けを行ない。
任意の上記小領域の組織を自動焦点調整機能を有する光
学顕微鏡又は電子顕微鏡によって観察するとともに、観
察像を画像処理装置によってデジタル記号化して光ディ
スク等のデジタル信号記憶装置に上記小領域の符号とと
もに記憶するとともに、コンピュータ制御の駆動装置に
よって次の上記小領域に観察位置を移動させ、上述の操
作により画像及びその位置を示す上記符号を記憶する操
作を全上記小領域にわたって繰り返し、観察領域全体の
上記小領域の組織を記憶装置に記憶させる工程と、記憶
された上記観察領域中の小領域の組織の全部又は任意の
一部をデイスプレィ装置上に連続して表示する工程を具
備する事によって、上記観察領域の全体像又はその一部
の詳細像を任意に自動的に観察する。
〔実施例〕
本発明の実施例を第１図乃至第５図を参照して説明する
。
第１図は０本発明の一実施例における自動組織解析装置
の構成図を示すものである。第１図において、１は光学
顕微鏡で、同顕微鏡１には、自動焦点調整機構２及び位
置決め精度±１μｍのギヤやモータ３を有するＸＹ制御
試料ステージ４とか取り付けられている。また、顕微鏡
１にはステージ４の位置を制御し、ＸＹ力方向任意の時
間間隔でステージ４を任意の移動量だけ移動させるとと
もに移動量から逆算したステージ４の相対位置の情報を
記憶装置５に記憶させるコンピュータ６と、光学顕微鏡
組織を取り込むためのテレビカメラ７と、が連結されて
いる。
更に、テレビカメラ７には画像をデジタル化し、記憶さ
せた画像を拡大、縮小及び／又は合成するための画像処
理装置８が連結され、同画像処理装置８には処理した画
像を出力するデイスプレィ９及びプリンタ１０が連結さ
れている。
第１図に図示する装置を用いて、機械部品とし【長時間
使用された材料の組織解析を行った。
まず、観察領域の面積は第２図に図示するようにｌＱ　
ｒａｎ　Ｘ　１０１ｍの正方形領域とし、これを０．２
　ａＸ　０．２　ｔｍの小領域１１に区分した。次に各
小領域１１に左上端の小領域１１から順次■、■、■、
・・・の符号を右下端の小領域１１まで付け、これをコ
ンピュータ６に記憶させた。次に光学顕微鏡１により左
上端の観察位置を決定し、符号■の小領域１１の３００
倍の光学顕微鏡組織をテレビカッラフによって画像処理
装置８に送信し、デジタル化して光ディスクに小領域１
１の符号■とともに記憶させる。この工程が終了すると
コンピュータ６により、第２図中のＸ方向に試料を０２
咽だけコンピュータ制御の試料ステージ４によって移動
させ、第２図中の符号■の小領域１１を光学顕微鏡１の
観察位置に位置させ、上述した方法により光デイスク内
に小領域１１の組織をその符号■とともに記憶させる。
以上の操作を５０回繰り返してＸ軸方向に１０＋ｒ！Ｒ
の組織を記憶させると、コンピュータ６により試料をＹ
方向に０．２ｍｍ　Ｘ　方向に−９，８順コンピユータ
制御の試料ステージ４で移動させ、光学顕微鏡１の観察
位置を第２図中の符号０の小領域１１に位置させ、上述
した方法によってＸ軸方向に５０視野の領域の３００倍
の光学顕微鏡組織を観察させ光デイスク内に記憶させる
。以上の操作を繰り返すことによってＹ方向に９８聰だ
け試料を移動させＸ方向に５０視野の組織を光デイスク
内に記憶させて測定を終了する。
次に画像処理装置８に連結したデイスプレィ９を第２図
に示したのと同様のメツシュの（５０×５０）の領域に
区分し、光デイスク内に記憶された各符号の光学顕微鏡
組織をデイスプレィ９上の各区分上に出力させ、光デイ
スク中に記憶させた全光学顕微鏡像を合成して１枚の画
像とする。
第３図に上述した方法によって作成した画像をプリンタ
１０に出力させた画像の模式図を示すが、この部品に生
じたき裂状の欠陥１２の巨視的な分布状況を確認するこ
とが出来る。
次に、第３図中に示したき裂先端部分の領域１３の組織
のみを得るために、コンピュータ６により該当する領域
の符号を検知させ、該当する領域中の画像数（１０Ｘ　
１０　）個をデイスプレィ上の（１０ｘ　１０　）の正
方形領域に区分し、各区分に対応する画像を順次出力さ
せる。
第４図に得られた画像の模式図を示すが、第３図中の画
像では確認できなかったき裂１２先端に微小き裂Ｘ４が
多数存在することを確認できる。
更に、第４図中の微小き裂の先端部分の領域１５の組織
のみを調査するために、コンピュータ６により該当する
領域の符号を検知させ、該当する領域の画像１枚のみを
デイスプレィ９上に表示させる。
第５図に得られた画像の模式図を示すが、第３図及び第
４図に示した画像では確認できなかった微視き裂先端の
多数の微小な空洞１６が結晶粒界１７上に存在すること
を確認できる。
〔発明の効果〕
本発明装置によれば、従来観察者が顕微鏡組織を検鏡し
ながら撮影点を決定し多数の写真を撮影することによっ
て行なっていた材料の組織解析を画像の取り込みを自動
化することによって短時間でかつ容易に行なうことがで
きることから、材料の品質管理等で行なう材料の組織調
査を短時間でかつ容易に行なうことが出来る組織解析装
置を提供出来る。
また、本装置によれば、自動焦点調整機構を有すること
から、凹凸のある組織の観察を行うことが出来、また低
倍率の組織解析法では検知できない半導体用のシリコン
ウェハ、光ティスフ等の微小欠陥を広い領域中で検査す
るとともに、その位置を表示することが出来ることから
。
欠陥検出装置としても応用できる。
さらにまた、観察した画像は光デイスク内に保管するこ
とが出来ることから、データの効率的な保管と円滑な検
索が可能となり、組織データのデータベースとしても応
用できる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例としての自動組織解析装置の
構成図、第２図は本発明の一実施例の広領域の画像取り
込み方法を示す模式図、第３図乃至第５図は本発明の一
実施例によって得られたものの模式図で、第３図はき裂
の発生した鉄鋼材料の３００倍の組織像２５００枚を合
成して作成した１０　ｗｍ　Ｘ　１０　ｗｍ観察領域の
組織像。 第４図は第３図の組織像のうち３００倍の画像１０　Ｘ
　１０枚の画像を合成することによって作成した組織図
、第５図は第４図中の任意の１枚の３００倍の画像であ
る。 １・・・光学顕微鏡、２・・・自動焦点調整機構、３・
・・ギヤ及びモータ、４・・・試料ステージ、５・・・
記憶装置！１．６・・・コンピュータ、７・・・テレビ
カメラ。 ８・・・画像処理装置、９・・・デイスプレィ、１０・
・・′プリンタ、１】・・・観察対象領域を分割するこ
とによって得られた一画像取り込み領域、１２・・・き
裂、１３・・・結像する領域、１４・・・微小き裂、１
５・・・結像する領域、１６・・・微小空洞、１７・・
・結晶粒界。 １１竹ム兜１４す１てＡ薦ｐρ＼２石２第 図 手 続 補 正 書 （方式） ％式％ １　事件の表示 昭和６３年 特 許 願 第１９６２８７号 発明の名称 自動組織解析処理装置 ３　補正をする者 事件との関係　　特許出願人 補正命令の日付（発送口）

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 材料の表面組織を観察する組織観察機構と、上記組織観
    察機構に対設される試料ステージと、上記組織観察機構
    の像を取り込んで画像を処理する画像処理装置と、上記
    取り込んだ画像を記憶する記憶装置と、上記記憶画像の
    任意な画像を拡大、縮小又は上記記憶画像のうち複数個
    の画像を合成して出力する出力装置と、から成ることを
    特徴とする自動組織解析処理装置。
JP63196287A 1988-08-05 1988-08-05 自動組織解析処理装置 Pending JPH0245734A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63196287A JPH0245734A (ja) 1988-08-05 1988-08-05 自動組織解析処理装置
US07/376,664 US5038035A (en) 1988-08-05 1989-07-06 Automatic structure analyzing/processing apparatus
EP19890112714 EP0353504A3 (en) 1988-08-05 1989-07-12 Automatic structure analyzing/processing apparatus
KR1019890011160A KR910006221B1 (ko) 1988-08-05 1989-08-04 자동조직해석처리장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63196287A JPH0245734A (ja) 1988-08-05 1988-08-05 自動組織解析処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0245734A true JPH0245734A (ja) 1990-02-15

Family

ID=16355292

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63196287A Pending JPH0245734A (ja) 1988-08-05 1988-08-05 自動組織解析処理装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5038035A (ja)
EP (1) EP0353504A3 (ja)
JP (1) JPH0245734A (ja)
KR (1) KR910006221B1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010100704A1 (ja) * 2009-03-04 2010-09-10 日本電気株式会社 画像診断支援装置、画像診断支援方法、及び記憶媒体
JP2011083032A (ja) * 1997-03-03 2011-04-21 Olympus America Inc データ構造を記憶したコンピュータ読み取り可能な記録媒体

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2925647B2 (ja) * 1990-04-16 1999-07-28 オリンパス光学工業株式会社 顕微鏡変倍装置
US5367401A (en) * 1990-11-23 1994-11-22 Perceptive Scientific Instruments, Inc. Microscope slide rotary stage
MX9200720A (es) * 1992-02-21 1993-09-01 Invest Y Centro Mejoras a microscopio metalografico util para la caracterizacion de dados de estirado de conductores.
CA2166464C (en) * 1993-07-09 2002-01-01 Louis A. Kamentsky Computerized microscope specimen encoder
US5587833A (en) * 1993-07-09 1996-12-24 Compucyte Corporation Computerized microscope specimen encoder
US5583464A (en) * 1994-05-13 1996-12-10 Thinking Machines Corporation Resistor circuit for integrated circuit chip using insulated field effect transistors
DE69530367T2 (de) * 1995-03-06 2004-02-19 Perkin-Elmer Ltd., Beaconsfield Kontrolle eines Mikroskopprobenträgers
CA2164369C (en) * 1995-12-04 2006-01-24 Roman Baldur Portable fired cartridge imaging apparatus
DE69630025T2 (de) * 1996-07-16 2004-04-01 Perkin-Elmer Ltd., Beaconsfield Kontrolle eines Infrarotmikroskops
EP1029348A1 (en) * 1997-09-30 2000-08-23 Siemens Aktiengesellschaft A system for identifying defective electronic devices
DE19812599C2 (de) * 1998-03-23 2000-06-15 Leica Microsystems Verfahren zur Video-Mikroskopie
EP1008956A1 (en) * 1998-12-08 2000-06-14 Synoptics Limited Automatic image montage system
JP2002148526A (ja) * 2000-11-06 2002-05-22 Nikon Corp 顕微鏡装置
EP1368782A4 (en) * 2001-01-16 2008-08-27 Applied Precision Llc COORDINATE CALIBRATION FOR SCAN SYSTEMS
JP2004343222A (ja) * 2003-05-13 2004-12-02 Olympus Corp 画像処理装置
CN100371762C (zh) * 2005-02-25 2008-02-27 宝钢集团上海梅山有限公司 一种数码金相显微图像放大倍率的标定方法
CN103163714A (zh) * 2011-12-09 2013-06-19 无锡华润上华科技有限公司 显微镜机台结构
EP3538941A4 (en) 2016-11-10 2020-06-17 The Trustees of Columbia University in the City of New York METHODS FOR FAST IMAGING OF HIGH RESOLUTION LARGE SAMPLES

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58153144A (ja) * 1982-03-09 1983-09-12 Nippon Kokan Kk <Nkk> 反射率が異なる複数の組織を有する塊状物質における組織構成比率測定装置
JPS61226638A (ja) * 1985-03-30 1986-10-08 Shimadzu Corp 顕微鏡分光像形成装置
JPS62130305A (ja) * 1985-12-03 1987-06-12 Mitsutoyo Mfg Corp 画像処理式測定装置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5851664B2 (ja) * 1979-03-28 1983-11-17 株式会社日立製作所 試料像表示装置
US4366380A (en) * 1979-10-11 1982-12-28 George Mirkin Method and apparatus for structural analysis
US4612614A (en) * 1980-09-12 1986-09-16 International Remote Imaging Systems, Inc. Method of analyzing particles in a fluid sample
DE8105611U1 (de) * 1981-02-27 1981-11-19 Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim Auswertevorrichtung fuer elektronenoptische bilder
US4468560A (en) * 1982-02-11 1984-08-28 Hitachi, Ltd. Electron microscope equipped with measuring facility
GB2134744B (en) * 1983-01-15 1987-04-23 Cambridge Instr Ltd Movable energy probe microscope
US4680469A (en) * 1984-08-17 1987-07-14 Hitachi, Ltd. Focusing device for a television electron microscope
US4695725A (en) * 1984-12-10 1987-09-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of detecting a focus defect of an electron microscope image
US4672559A (en) * 1984-12-26 1987-06-09 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for operating a microscopical mapping system
NL8600685A (nl) * 1986-03-18 1987-10-16 Philips Nv Apparaat voor energie selectieve afbeelding.
US4788426A (en) * 1986-06-11 1988-11-29 Kuehnle Manfred R Interactive image recording method and means
NL8602175A (nl) * 1986-08-27 1988-03-16 Philips Nv Werkwijze voor bundelcentrering.
JP2702114B2 (ja) * 1986-10-03 1998-01-21 株式会社日立製作所 電子顕微鏡
US4872052A (en) * 1986-12-03 1989-10-03 View Engineering, Inc. Semiconductor device inspection system
JPH06105605B2 (ja) * 1987-09-11 1994-12-21 株式会社日立製作所 電子顕微鏡の像観察装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58153144A (ja) * 1982-03-09 1983-09-12 Nippon Kokan Kk <Nkk> 反射率が異なる複数の組織を有する塊状物質における組織構成比率測定装置
JPS61226638A (ja) * 1985-03-30 1986-10-08 Shimadzu Corp 顕微鏡分光像形成装置
JPS62130305A (ja) * 1985-12-03 1987-06-12 Mitsutoyo Mfg Corp 画像処理式測定装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011083032A (ja) * 1997-03-03 2011-04-21 Olympus America Inc データ構造を記憶したコンピュータ読み取り可能な記録媒体
WO2010100704A1 (ja) * 2009-03-04 2010-09-10 日本電気株式会社 画像診断支援装置、画像診断支援方法、及び記憶媒体
JP2010203949A (ja) * 2009-03-04 2010-09-16 Nec Corp 画像診断支援装置、画像診断支援方法、画像診断支援プログラム、及びその記憶媒体
US8787636B2 (en) 2009-03-04 2014-07-22 Nec Corporation Diagnostic imaging support in which image data of high magnification is generated to image data of low magnification for classification thereof

Also Published As

Publication number Publication date
EP0353504A3 (en) 1991-04-03
KR910006221B1 (ko) 1991-08-17
EP0353504A2 (en) 1990-02-07
US5038035A (en) 1991-08-06
KR900003621A (ko) 1990-03-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0245734A (ja) 自動組織解析処理装置
KR100969413B1 (ko) 압흔 경도 시험 시스템
US5539656A (en) Crack monitoring apparatus
JP2009104161A (ja) 仮想顕微鏡スライドを形成する方法及びその装置
US7248282B2 (en) Microscopy imaging system and method
JP5015381B2 (ja) 顕微鏡写真撮影装置
JP2009128368A (ja) 引っ掻き試験を分析する方法
JP4317743B2 (ja) 光学式圧子接触面のその場定量に基づく力学特性計測法及びその試験装置
JP2000180330A (ja) 硬度計
JP2002277412A (ja) 検査画面の表示方法及び基板検査システム
WO2017033591A1 (ja) 荷電粒子線装置および試料ステージのアライメント調整方法
JP2005266718A (ja) 顕微鏡画像撮影システム
JPH05333271A (ja) ３次元物体の認識方法および装置
JPH08210987A (ja) 欠陥検出用顕微鏡装置
JP2991483B2 (ja) 顕微鏡イメージマッピング装置及び方法
JP2000275594A (ja) 基板検査装置
JP2012003216A (ja) 顕微鏡像の撮影装置および方法
JPS63222206A (ja) 光フアイバの構造測定用画像処理装置
JP2939323B2 (ja) 非金属介在物検査方法並びに非金属介在物検査装置
JPH07280537A (ja) 撮像式検査方法および装置
JP3003795B2 (ja) 検鏡支援装置
US20070127842A1 (en) Sample picture data processing method and sample inspection system and method
JPH06250093A (ja) 試料検出装置
JP2811345B2 (ja) 非金属介在物の検査装置
JP2869579B2 (ja) 脱炭検査方法並びに脱炭検査装置