JPS63112583A - 7−置換二環系ピラゾリジノン類 - Google Patents

7−置換二環系ピラゾリジノン類

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JPS63112583A
JPS63112583A JP61258084A JP25808486A JPS63112583A JP S63112583 A JPS63112583 A JP S63112583A JP 61258084 A JP61258084 A JP 61258084A JP 25808486 A JP25808486 A JP 25808486A JP S63112583 A JPS63112583 A JP S63112583A
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phenyl
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JP61258084A
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English (en)
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ルイス・ニコラウス・ユングハイム
サンドラ・ケイ・シグムンド
リチャード・エルマー・ホルムズ
チャールズ・ジャクソン・バーネット
ロバート・ジョン・ターナンスキー
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Eli Lilly and Co
Original Assignee
Eli Lilly and Co
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Publication date
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    • C07D409/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D409/06Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
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    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04Antibacterial agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
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    • C07D231/06Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
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    • C07D487/00Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
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    • C07D487/04Ortho-condensed systems
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    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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    • C07F9/547Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、抗菌活性を有する新規二環式ピラゾリジノン
類、その製造、その抗菌剤としての使用、およびこの新
規最終生成物の製造に有用な中間体に関する。
発明の目的および構成 本発明は、式: で示される化合物を包含するものである。
式(1)で示される化合物の環系は、l、5−ジアザビ
シクロC3,3,0,)オクタ−2−エン環であり、後
述においては、しばしば“不飽和二環式ピラゾリジノン
”またはさらに簡単に“二環式ピラゾリジノン”と称す
る。この環系の数の付し方を式(1)に示す。
上記式中、環系の4位とR3およびR4、ならびに7位
と窒素原子を結ぶ波線は、4位および7位の立体配置が
独立してRまたはS立体配置になりうろことを示してい
る。さらに、この式は、ラセミ体を含む、多数のエナン
チオマーおよびジアステレオマー混合物である本発明化
合物をも表す。
上記式(1)中、R3は式ニ ーGOOR,。
(式中、R14は水素、有機あるいは無機カチオン、カ
ルボキシ保護基、または非毒性かつ代謝的に不安定なエ
ステルを形成する基である) で示される基であり、R1は、式: %式% (式中、R9はC,−C,アルキルである)で示される
基であり、R3およびR4は水素でありR5およびRI
lは共に水素であるか、または一方が水素で、他方が式
: (式中、R74は2−保護または非保護アミノチアゾー
ル−4−イル、R26は飽和または不飽和01〜C6ア
ルキルを意味する。) で示されろ基である。
式(1)で示される保護アミノ、保護ヒドロキシおよび
/または保護カルボキシ化合物は、このような基が保護
されていない式(I)の化合物への中間体である。この
未保護形の式(r)の化合物は有用な抗菌性を仔する。
本発明の抗菌性化合物は、ヒトおよび動物に対して病原
性である細菌の増殖抑制に使用することができる。
その態様の1つにおいて、本発明は、式(I)の化合物
の治療有効量を感染宿主に投与することからなる、ダラ
ム陽性またはダラム陰性細菌感染の治療方法を提供する
ものである。
本発明のさらに別の態様は、■またはそれ以上の薬学的
に許容しうる担体と共に、活性成分として式(I)の化
合物を含有する、医薬製剤を包含するものである。
上記式(r)中、“C2〜C6アルキル”なる語句は、
メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブ
チル、S−ブチル、t−ブチル、アミル、t−アミル、
ヘキシル等の基を表す。好ましい“C0〜C1lアルキ
ル”基はメチルである。
“01〜C8置換アルキル”なる語句は、■または2個
のハロゲン、ヒドロキン、保護ヒドロキン、アミノ、保
護アミノ% Cl4C7アシロキシ、ニトロ、カルボキ
シ、保護カルボキシ、カルバモイル、カルバモイルオキ
シ、シアノ、メチルスルホニルアミノまたはC,−C,
アルコキシ基で置換された上記01〜C6アルキル基を
表す。この置換アルキル基は、同一または異なる置換基
で、−度または二度置換されていてもよい。
上記置換アルキル基の例には、シアノメチル、ニトロメ
チル、ヒドロキシメチル、トリチル才キジメチル、プロ
ピオニルオキシメチル、アミツメデル、カルボキシメチ
ル、アリルオキシカルボニルメチル、アリルオキシカル
ボニルアミノメチル、カルバモイルオキシメチル、メト
キシメチル、エトキシメチル、t−ブトキシメチル、ア
セトキシメチル、クロロメチル、ブロモメチル、ヨード
メチル、6−ヒドロキシヘキシル、2,4−ジクロロ(
n−ブヂル)、2−アミノ(i−プロピル)、2−カル
バモイルオキシエチル等が含まれる。この“01〜C6
置換アルキル”基の例中の好ましい基には、置換メチル
基、すなわち、“CI−Ca置換アルキル”基と同一の
置換基で置換されたメチル基が含まれる。この置換メチ
ル基の例には、ヒドロキシメチル、保護ヒドロキシメチ
ル(たとえばテトラヒドロビラニルオキシメチル)、ア
セトキシメチル、カルバモイルオキシメチル、クロロメ
チル、ブロモメチルおよびヨートメデル等の基が含まれ
る。
“置換フェニル”なる語句は、ハロゲン、ヒドロキシ、
保護ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、C1〜C6アルキル
%CI〜C4アルコキシ、カルボキシ、保護カルボキシ
、カルボキシメチル、保護カルボキシメチル、ヒドロキ
シメチル、保護ヒドロキシメチル、アミノメチル、保護
アミノメチル、トリフルオロメチルまたはN−(メチル
スルボニルアミノ)からなる群から選択される、1個ま
たは2個の基で置換されたフェニル基を表す。
“置換フェニル“なる語句の例には、4−クロロフェニ
ル、2.6−シクロロフエニ/Ll、2.5−ジクロロ
フェニル、3.4−ジクロロフェニル、3−クロロフェ
ニル、3−7”ロモフェニル、4.−ブロモフェニル、
3.4−ジブロモフェニル、3−クロロ−4−フルオロ
フェニル、2−フルオロフェニル等のモノまたはジ(ハ
ロゲン化)フェニル基、4−ヒドロキシフェニル、3−
ヒドロキンフェニル、2.4−ジヒドロキシフェニル、
およびその保護ヒドロキシ誘導体等のモノまたはジ(ヒ
ドロキシ)フェニル基、3−または4−ニトロフェニル
等のニトロフェニル基、4−シアノフェニル等のシアノ
フェニル基、4−メチルフェニル、2゜4−ジメチルフ
ェニル、2−メチルフェニル、4−(i−プロピル)フ
ェニル、4−エチルフェニル、3−(n−プロピル)フ
ェニル等のモノまたはジ(低級アルキル)フェニル基、
2.6−シメトキシフエニル、4−メトキシフェニル、
3−エトキシフェニル、4−(i−プロポキシ)フェニ
ル、4−(1−ブトキシ)フェニル、3−エトキシ−4
〜メトキシフエニル等のモノまたはジ(アルコキシ)フ
ェニル基、3−または4−トリフルオロメチルフェニル
、4−カルボキシフェニル、2.4−ジ(保護カルボキ
シ)フェニル等のモノまたはジカルボキシフェニルまた
は(保護カルボキシ)フェニルL3−(保護ヒドロキシ
メチル)フェニル、3.4−ノ(ヒドロキシメチル)フ
ェニル等のモノまたはジ(ヒドロキシメチル)フェニル
または(保護ヒドロキシメチル)フェニル、2−(アミ
ノメチル)フェニル、2.4− (保護アミノメチル)
フェニル等のモノまたはジ(アミノメチル)フェニルま
たは(保護アミノメチル)フェニル、または3−(N−
(メチルスルボニルアミノ)〕フェニル等のモノまたは
ジ〔N−(メチルスルホニルアミノ)〕フフェルが含ま
れる。また、“置換フェニル”なる語句は、異なる置換
基を存するジ置換フェニル基、たとえば3−メチル−4
−ヒドロキシフェニル、3−クロロ−4−ヒドロキシフ
ェニル、2−メトキシ−4−ブロモフェニル、4−エチ
ル−2−ヒドロキシフェニル、3−ヒドロキシ−4−ニ
トロフェニル、2−ヒドロキシ−4−クロロフェニル等
をも表わす。好ましい置換フェニル基には、2−および
3−トリフルオロメチルフェニル、4−ヒドロキシフェ
ニル、2−アミノメチルフェニルおよび3−(N−(メ
チルスルホニルアミノ)〕フェニル基が含まれる。
“ハロ“および“ハロゲン”なる語句は、フルオロ、ク
ロロ、ブロモまたはヨード基を表わす。
“トリハロメチル”なる語句は、トリフルオロメチル、
トリクロロメチル、トリブロモメチルまたはトリヨート
メデルを表わす。
“07〜C12アリールアルキル”なる語句は、フェニ
ル環でいずれかの位置を置換した01〜c6アルキル基
を表わす。このような基の例には、フェニルメチル(ベ
ンジル)、2−フェニルエチル、3−フェニル−(n−
プロピル)、4−フェニルヘキシル、3−フェニル−(
n−アミル)、3−フェニル−(S−ブチル)等が含ま
れる。好ましい基はベンジル基である。
“07〜CI2置換アリールアルキル”なる語句は、ハ
ロゲン、ヒドロキシ、保護ヒドロキシ、アミノ、保護ア
ミノ、C3〜C7アシロキシ、ニトロ、カルボキン、保
護カルボキシ、カルバモイル、カルバモイルオキシ、シ
アノ、N−(メチルスルホニルアミノ)またはC8〜C
,アルコキシから選択される1または2個の基で01〜
C,アルキルの部分が置換されたC9〜C1,置換アリ
ールアルキル基を表し、そして/または、フェニル基は
、ハロゲン、ヒドロキシ、保護ヒドロキシ、ニトロ、0
1〜C6アルキル、01〜C4アルコキシ、カルボキシ
、保護カルボキシ、カルボキンメチル、保護カルボキン
メチル、ヒドロキシメチル、保護ヒドロキシメチル、ア
ミノメチル、保護アミノメチル、またはN−(メチルス
ルボニルアミノ)堰から選ばれる1個または2個の基で
置換されてもよい。
前記と同槌、C6〜C8アルキル部分あるいはフェニル
部分のいずれか、または両方がジ置換されている時には
、置換基は同一または異なっていてもよい。
“C7〜Cat置換アリールアルキル”の例には、2−
フェニル−1−クロロエチル、2−(4−メトキシフェ
ニル)エチル、2.6−シヒドロキシー4−フェニル(
n−ヘキシル)、5−シアノ−3−メトキシ−2−フェ
ニル(n−ペンチル)、3−(2,6−シメチルフエニ
ル)n−プロピル、4−クロロ−3−アミノベンジル、
6−(4−メトキシフェニル)−3−カルボキシ(n−
ヘキシル)、5−(4−アミツメデルフェニル)−3−
(アミツメデルXn−ペンデル)等の基が含まれろ。
″有機または無機カチオン”なる語句は、カルボン酸塩
のカルボン酸アニオンの対イオンを表わす。この対イオ
ンは、リヂウム、ナトリウム、カリウム、バリウムおよ
びカルシウム等のアルカリおよびアルカリ土類金属カチ
オン、アンモニウムカチオン、ならびにジベンノルアン
モニウム、ベンジルアンモニウム、2−ヒドロキシエチ
ルアンモニウム、ビス(2−ヒドロキシエチル)アンモ
ニウム、フェニルエチルベンジルアンモニウム、ジベン
ジルエチレンジアンモニウム等の有機カチオンから選ば
れる。上記の語句に含まれろ他のカチオンには、ブロカ
イン、キニンおよびN−メチルグルコースアミンのプロ
トン化物、ならびにグリシン、オルニチン、ヒスチジン
、フェニルグリシン、リジンおよびアルギン等の塩基性
アミノ酸のプロトン化物が含まれる。さらに、この語句
は、カルボン酸およびアミノ基によって形成される本化
合物の双性イオンの形をら称ずろ物である。
“薬学的に許容しうる塩”なる語句は、カルボン酸アニ
オンとで形成するこのような塩類、および前記の有機お
よび無機カチオンとで形成される塩類を包含する。さら
にこの語句は、塩基性λ号(アミノ基等)と有機または
無機酸との通常の酸−塩基反応によって形成する塩類を
ち包含する。このような酸には、塩酸、硫酸、リン酸、
酢酸、コハク酸、クエン酸、乳酸、マレイン酸、フマル
酸、パルミチン酸、コール酸、パモイック酸、粘液酸、
D−グルタミン酸、d−ショウノウ酸、グルタル酸、フ
タール酸、酒石酸、ラウリン酸、ステアリン酸、サリチ
ル酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ソルビ
ン酸、ピクリン酸、安息香酸およびケイ皮酸等が含まれ
る。
式(1)の化合物は溶媒和物および水和物としても存在
することができる。従って、これらの化合物は、たとえ
ば水和水、または母液溶媒分子の1つ、多数あるいは分
数側と共に結晶化することらできる。このような化合物
の溶媒和物および水和物は本発明の範囲内に含まれる。
本明細書中で使用する“カルボキシ保護基”なる語句は
、化合物の他の官能基上で反応を行っている間、カルボ
ン酸基を保護し、防御するために通常用いられる、カル
ボン酸基のエステル誘導体の1つを指す。このようなカ
ルボン酸保護基の例は、4−ニトロベンジル、4−メト
キンベンジル、3.4−ジメトキシベンジル、2.4−
ジメトキシベンジル、2,4.6−トリメトキシベンジ
ル、2.4.6−トリメチルベンノル、ペンタメチルベ
ンジル、3.4−メチレンジオキシベンジル、ベンズヒ
ドリル、4.4’  −ジメトキシベンズヒドリル、2
.2’ 、4.4’−テトラメトキシベンズヒドリル、
t−ブチル、t−アミル、トリチル、4−メトキシトリ
チル、4.4′−ジメトキシトリチル、4.4’ 、4
″−トリメトキシトリチル、2−フェニルプロパー2−
イル、トリメチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、
フェナシル、2,2.2−トリクロロエチル、β−(ト
リメチルシリル)エチル、β−(ジ(n−ブチル)メチ
ルシリル)エチル、p−トルエンスルホニルエチル、4
−ニトロペンジルスルホニルエチル、アリル、シンナミ
ル、l−(トリメチルシリルメチル)プロパーl−エン
−3−イル等が含まれる。
二環式ピラゾリジノン分子の他の位置でその後に行う反
応の条件に対してそのカルボン酸誘導体が安定であり、
かつ分子の残りの部分を破壊することなく適当な時期に
除去することができるものである限り、使用されるカル
ボキシ保護基の種類は限定されない。カルボキシを保護
した二環式ピラゾリジノン分子を、強力な求核塩基に、
またはラニーニッケル等の高活性金属触媒を使用する還
元条件にさらさないことが特に重要である。このような
過酷な除去条件は、後記のアミノ保護基およびヒドロキ
シ保護基を除去する時にも避けるべきである。好ましい
カルボン酸保護基はアリル基である。セファロスポリン
、ペニシリンおよびベブヂドの分野で使用される類似の
カルボキシ保護基も、二環式ピラゾリジノンのカルボキ
シ基を保護するために使用することができる。これらの
基のさらに多くの例は、“有機化学における保護基(プ
ロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・ケミ
ストリー)”〔ハスラム(E、 Haslam )、マ
クオミー編(J 、 G、 W、 Mcomie、Ed
、 )、プレナム・プレス(P lenum Pres
s )、ニューヨーク(1973)、第5章〕および“
有機合成における保護基(プロテクティブ・グループス
・イン・オーガニック・シンセシス)” 〔クリーン(
T、W。
G reene )、ジョン・ウィリー・アンド・サン
ズ(John Wiley and 5ons )、ニ
ューヨーク(1981)、第5章〕に記載されている。
関連語句には“保護カルボキシ”があり、これは、上記
カルボキシ保護基の1つで置換されたカルボキシ基を指
す。
本明細書中で使用する“アミノ保護基”なる語句は、化
合物の他の官能基において反応を行っている間、アミノ
の官能性を保護し、防御するために通常用いられる、ア
ミノ基の置換基を指す。このようなアミノ保護基の例に
は、ホルミル基、トリデル基、フタールイミド基、トリ
クロロアセチル基、クロロアセチル、ブロモアセチルお
よびヨードアセチル基、ベンジルオキシカルボニル、4
−フェニルベンジルオキシカルボニル、2−メチルベン
ノルオキシカルボニル、4−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル、4−フルオロベンジルオキンカルボニル、4
−クロロベンジルオキシカルボニル、3−クロロベンジ
ルオキシカルボニル、2−クロロベンジルオキシカルボ
ニル、2.4−ジクロロペンジルオキンカルボニル、4
−ブロモベンジルオキシカルボニル、3−ブロモベンジ
ルオキシカルボニル、・1−ニトロベンジルオキシカル
ボニル、4−シアノベンノルオキシカルボニル、2−(
4−キンリル)i−プロポキンカルボニル、1、I−ノ
フェニルエターl−イルオキシカルボニル、1.1−ジ
フェニルプロパー1−イルオキシカルボニル、2−フェ
ニルプロパー2−イルオキシカルボニル、2−(p−t
−ルイル)プロパー2−イルオキシカルボニル、シクロ
ペンタニルオキシカルボニル、I−メチルンクロペンタ
ニルオキン力ルポニル、ンクロへキサニルオキシカルボ
ニル、l−メチルシリルへキサニルオキシカルボニル、
2−メチレンクロへキサニルオキシカルボニル、2−(
4−トルイルスルボニル)エトキンカルボニル、2−(
メチルスルボニル)エトキンカルボニル、2−(トリフ
ェニルホスフィノ)エトキシカルボニル、9−フルオレ
ニルメトキンカルボニル(“FMOC“)、2−(トリ
メチルシリル)エトキノカルボニル、アリルオキソカル
ボニル、1−(トリメチルシリルメチル)プロパー1−
エニルオキシカルボニル、5−ペンズイソキサリルメト
キシ力ルボニル、4−アセトキシベンジルオキシカルボ
ニル、2,2.2−トリクロロエトキシカルボニル、2
−エチニル−2−プロポキシカルボニル、シクロプロピ
ルメトキシカルボニル、4−(デシルオキシ)ベンジル
オキシカルボニル、イソボルニルオキシカルボニル、l
−ピペリジルオキシカルボニル等のウレタン型の保護基
、ベンゾイルメチルスルホニル基、2−にトロ)フェニ
ルスルフェニル基、ジフェニルホスフィンオキシト基、
およびこれに類似するアミノ保護基が含まれる。誘導体
化したアミノ基が、二環式ピラゾリジノン分子の他の位
置でのその後の反応の条件に対して安定であり、かつ分
子の残りの部分を破壊することなく、適当な時期に除去
しうるちのである限り、使用されろアミノ保護基の種類
は限定されない。好ましいアミノ保護基はアリルオキシ
ドカルボニル、t−ブトキシカルボニルおよびトリチル
基である。
セファロスポリン、ペニシリンおよびペプチドの分野で
使用されろ類似のアミノ保護基も、上記の語句に含まれ
る。上記語句に関する括のさらに多くの例を、バートン
(J 、 W、 Barton 、“有機化学における
保護基”、前記、第2章)、およびグリーン(T、 W
、 Greene S’有機合成における保護基”、前
記、第7章〕が記載している。関連の“保護アミン”な
る語句は、上記のアミノ保護基で置換されたアミノ基を
指す。
“非毒性かつ代謝的に不安定なエステルを形成する基”
なる語句は、血中濃度を増加さけ、対応する非エステル
形化合物の有効性を長くする、生物学的に活性なエステ
ルを形成する基を指す。このようなエステル括には、メ
トキンメチル、エトキンメチル、i−プロポキシメチル
等の低級アルコキシメチル基、メトキシエチル、エトキ
シエチル、プロポキンエチル、i−プロポキンエチル等
のα−(C+〜C4)アルコキシエチル基、5−メチル
−2−オキソ−!、3−ジオキソレンー4−イルメヂル
、5−フェニル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−
4−イルメチル等の2−オキソ−1,3−ジオキソレン
−4−イルメチル基、メチルチオメチル、エチルチオメ
チル、i−プロピルチオメチル等のC2〜C3アルキル
チオメチル基、ピバロイルオキシメチル、α−アセトキ
シメチル等のアノロキシメチル基、エトキシカルボニル
−1−メチル基、α−アセトキンエチル等のα−アシロ
キシ−α−置換メチル基、3−フタリジルまたは5.6
−シメチルフタリジル基、l−(エトキシカルボニルオ
キシ)エラー1−イル基等の1−(C,〜C4アルキル
オキシカルボニルオキシ)エタン−1−イル基、および
I−(メチルアミノカルボニルオキシ)エタン−1−イ
ル基等の1−(C1〜C4アルキルアミノカルボ′ニル
オキシ)エタン−1−イル基が含まれろ。
置換基“CI” C4アルキルヂオ”なる語句は、メチ
ルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、i−プロピル
チオ、n−ブチルチオおよびt−ブチルチオ等のスルフ
ィド基を指す。置換基“01〜C,アルキルスルホキシ
ド”なる語句は、メチルスルホキシド、エチルスルホキ
シド、n−プロピルスルホキシド、i−プロピルスルホ
キシド、n−ブチルスルホキシドおよびS−ブチルスル
ホキシド等のスルホキシド基を表わす。
“01〜C4アルキルスルボニル”なる語句は、メチル
スルホニル、エチルスルホニル、n−プロピルスルホニ
ル、i−プロピルスルホニル、n−ブチルスルホニルお
よびt−ブチルスルホニル等の基を包含する。
R5またはR6のいずれか一方が式 で示されるアシル基である場合、好ましいアシル基の例
は以下のものである。
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(Z)
−メトキノイミノアセチル、 2−(2−アミノデアゾール−4−イル)−2−(Z)
−エトキシイミノアセデル、 2−(2−アミノチアゾルー4−イル)−2−(Z)−
プロポキシイミノアセチル、 2−(2−(、アリルオキシカルボニルアミノ)チアゾ
ール−4−イル)−2−(Z)−メトキシイミノアセデ
ル、 2−(2−Q−ブトキシカルボニルアミノ)チアゾール
−4−イル)−2−(Z)−メトキシイミノアセチル、 2−(2−アミノデアゾール−4−イル)−2−(Z)
−メトキシイミノアセチル塩酸塩などである。
式:   5OtR7で示される基の内、好ましい基は
メチルスルホニルである。
前述の式I中、R,が式ニ ーcooR,。
で示されるカルボキシル基の例としては式中のRl、が
以下に示すものが挙げられる: 水素(カルボン酸)、
有機または無機カヂオン(例:アンモニウム・カルボキ
シレート、プロカイン・カルボキシレート、フェニルエ
チルベンジルアンモニウム・カルボキシレート、フェニ
ルグリンン・カルボキシレート、リジン・カルボキシレ
ート、リチウム・カルボキシレート、カリウム・カルボ
キシレート、ナトリウム・カルボキシレートなど)、カ
ルボキシル保護法(例;メチル・カルボキシレート、ア
リル・カルボキンレート、4−メトキシベンジル・カル
ボキンレート、ジー(4−メトキン)ベンズヒドリル・
カルボキシレート、ベンズヒドリル・カルボキシレート
、2,2.2−トリクロロエチル・カルボキンレート、
トリメチルシリル・カルボキシレート、(【−ブチル)
ジメチルンリル・カルボキシレート、β−(トリメチル
シリル)エチル・カルボキンレート、トリデル・カルボ
キシレート、4.4’、4”−トリメトキシトリデル・
カルボキシレート、4−トルエンスルホニルエチル・カ
ルボキシレートなど)、無毒性の代謝されやすいエステ
ル形成塙(例:メトキンメチル・カルボキンレート、5
−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イ
ルメチル・カルボキシレート、エチルチオメチル・カル
ボキンレート、ピバロイルオキシメチル・カルボキシレ
ート、3−フタリジル・カルボキシレート、■−(エト
キンカルボニルオキソ)エチル・カルボキシレート、l
−(メチルアミノカルボ゛ニルオキシ)エチル・カルボ
キシレートなど)。
カルボキシル’J :  c o o RI 4の例の
内で好ましい塙は、1114が水素、アリル、t−ブチ
ル、4−ニトロベンジル、またはナトリウムの場合であ
る。
式Iで示されろ化合物の中で、好ましい化合物群を、本
明細書中では「核」化合物と呼称し、それはIN5とR
6が a)各々か水素であるか、 b)−緒になってフタルイミド基を形成するか、c)R
5とR8の内のどちらか一個が水素、もう−個かアミノ
保護1み、 である化合物またはその医薬」二許容されうる塩である
好ましい核化合物群は、R3とR4が水素である化合物
群であり、本明細書中、それを「4.4−非置換核」化
合物と呼称する。
好ましい4.4−非置換核化合物群は、R4がカルボキ
シ、ナトリウム、カリウム、p−ニトロベンジル、【−
ブチルまたはアリル・カルボキンレートであり、R2が
メチルスルホニルであり、R5とR6か水素、またはこ
れらのトリフルオロアセテートあるいは塩酸塩であるか
、または、R5またはRIlのどちらか一個が水素、も
う−個がトリメチルノリル、t−ブトキンカルボニル、
またはアリルオキシカルボニルである化合物群である。
式Iで示される化合物中で、また別の好ましい化合物群
は、R5またはrz8のどちらか一個か水素で、もう−
個が式ニーCOR1eで示される基である化合物群であ
る。
このような化合物は「7−アシルアミノ」化合物と呼ば
れる。7−アシルアミノ化合物中の、1つの好ましい化
合物群は、オキソイミノ アシルアミノ化合物であり、
R18が式二 で示される基である化合物群である。
オキシイミノ7−アシルアミノ化合物の好ましい化合物
群は、R3およびR4が水素である4、4−非置換オキ
シイミノ7−アシルアミノ化合物群である。
4.4−非置換オキンイミノ7−アシルアミノ化合物の
具体的な基には、その化合物中、R2,が2−アミノチ
アゾール−4−イルまたは2−(保護されたアミノ)チ
アゾール−4−イルであり、R2oが、水素、メチル、
エチル、プロピル、2−カルボキシイソプロピル、2−
(保護されたカルボキシ)イソプロピル、カルボキシメ
チル、(保護されたカルボキシ)メチル、シクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、ベンジル、2,5
−ジクロロベンジル、フェニル、4−フルオロフェニル
、4−クロロフェニル、3−()リフルオロメチル)フ
ェニル、3−(エトキシカルボニル)フェニル、2−メ
チルフェニル、4−メチルフェニル、3.4−ジクロロ
フェニル、2.4−ジクロロフェニルである化合物また
はその医薬上許容される塩。
本発明における好ましい化合物群は、R8かカルボキシ
ル、ナトリウム、カリウム、t−ブチル、p−ニトロベ
ンジル、またはアリル・カルボキシレートであり、Rp
がメチルスルホニルであり、1’Lt4が2−アミノチ
アゾール−4−イル、2−(保護されたアミノ)−デア
ゾール−4−イルであり、R26かメチルである化合物
かまたは、その医薬上許容されうる塩でありそれらを以
下の表1に示す。
表  1 1  AOC=アリルオキシカルボニル2  t−l3
0C=t−ブトギシ力ルボニル中でも、式Iで定義され
る化合物群の内、好ましい群の化合物は、?−(S)−
配Fj、即ち、式:で示される化合物群である。
7−(S)2環式ピラゾリジノン化合物の好ましい群は
、7−(S)環式化合物群であり、1)R5とRIIか
水素であるか;または2)R5とR8のいずれかが水素
であり、他方がアミノ保護基であるか:または得られる
化合物群の薬学的に許容し得る塩である。
式■で示される化合物および必要な出発物質の合成法を
以下に説明する。
式Iで示される2環式ピラゾリジノン類は、4つの異な
る方法で製造することができろ。これらの内2方法は、
1.3−二極性環付加反応である。
第1の方法では、置換アセヂレン部分を1,3−二極性
物質(“イリド”)と反応さU゛で、2.3−不飽和2
環式ピラゾリジノン環系を製造する。第2の方法は、(
8@工チレン部分とイリドを反応させて、2,3−飽和
ピラゾリジノン環系を製造する反応を含む。次いで、こ
の2,3−飽和系を非求核性塩基と反応さけて、2.3
−不飽和系を製造する。
第1のタイプの環付加反応(i、 e、 、イリドと置
換アセチレンの反応)を、以下の反応式lに示す。
上の反応式1では、簡潔にするために、反応によって起
こり得る2、3−レジオアイソマー生成物の一方のみを
式1で示す。反応式1で表わされる反応によって、対応
する2、3−レジオアイソマーおよびレジオアイソマー
の混合物をも生成する。
上の反応式においてR1、R2、R3およびR4は、前
記式Iと同Q義であり、R6とR6の他方はアミノ保護
基であり、R5とR6のいずれかはアミノ保護基であり
、R6とR8の他方は水素である。反応を行う場合、R
1、rlt、RffまたはR2で表わされる酸性の基を
保護基で保護するのが好ましい。この様な酸性基の例は
、カルボン酸基およびヒドロキシイミノ基である。カル
ボン酸基を全て保護するのがとりわけ好ましい。
反応は、非プロトン性溶媒中で行わなければならない。
このような溶媒の例は、塩素化炭化水素、芳香族炭化水
素およびアルキルあるいは芳香族のシアン化物溶媒であ
る。この反応に好ましい溶媒は、ジクロロメタン、アセ
トニトリルおよび1゜2−ノクロロエタンである。
反応温度は重要ではない。略室温〜略還流温度の溶媒温
度で反応を行うのが好ましい。R3とR4が水素である
場合、より好ましい温度は溶媒の略還流温度である。R
3とR4が他の組み合わけである場合は全て、より好ま
しい温度は略室温である。
反応には通常、約1〜約168時間の時間がかかる。至
適反応時間は、クロマトグラフィー法(薄層クロマトグ
ラフィー、高性能液体クロマトグラフィーまたはカラム
クロマトグラフィー)あるいは分光学的方法(赤外分光
検査法、核磁気共鳴分析、および質料分析等)、または
2つの方法の組み合わせ等の常法で反応の進行をモニタ
ーすることによって求めることができる。
反応のための通常の化学量は、l:I比のイリドとアセ
チレン試薬である。もちろん、いずれの試薬の過剰量も
さしつかえない。アセチレン試薬が過剰に存在すること
が好ましく、とりわけ、アセチレンが2・lの過剰量で
存在するのが好ましい。
また、いずれの試薬の添加の順序も重要ではない。
反応式1における環付加の部分特異性(regiosp
ecHicity)は、予測することができない。イリ
ドとアセチレンの立体化学的および電子的特性、および
種々の反応条件は、反応の部分特異性においてはっきり
認められる動向をもたらさなかった。
通常、反応によって、2.3−レジオアイソマー生成物
の広範な混合物が生成する。
反応式1で示される反応の立体特異性は、イリド出発物
質の04における立体化学によって決められる。従って
、4−(S)イリドは、7−(S)環付加物(式I)を
生成する。
2環式ピラゾリジノン化合物への第2の合成方法は、2
段階の順序を含んでいろ。第1段階で、1.3−二極性
物質(イリド)を2−(アルキルまたはアリルスルホニ
ル)−1−(置換または非置換)カルボキシエチレン部
分と反応させる。第2段階で、非求核性塩基を使用して
2.3−ジヒドロ(“パ  飽和系”)2環式ピラゾリ
ジノン環系から(アルキルまたはアリル)スルフィン酸
の元素を脱離させ、対応する2、3−不飽和系を製造す
る。従って、式: 〔式中、QlまたはQ、は式ニーso、yで示されろ基
であり、他方は水素である〕 で示される化合物を非求核性塩基て処理して、式(1)
の化合物を製造オろことができろ。例えば、第2の環付
加反応は、以下の反応式2で表わすことができる。
反応式2 〔式中、R′はR3またはR1であり、生成物のレジオ
ケミストリーによって決まる〕 工程 2 図式2において、R2およびR8は図式lと同意義であ
る。R1およびR4は、R3またはR4の内、いずれか
一方が水素で無ければならないことを除き、図式lの場
合と同意義である。R1およびR7は、図式1の場合と
同意義である。可変性Wは、式: で式される基である。上記の部分的な式において、可変
性YはC,−06アルキル、CI−Ce置換アルキル、
フェニル、置換フェニル、07〜C11アリールアルキ
ルまたはC9〜ctzl換アリールアルキルを表わす。
上記の図式2の反応を行うには、R,、R,、R3、R
,またはYの酸性基に保護基を導くことが好ましい。
図式2工程Iに示した環付加反応のレジオ(regio
)特異性に基づき、主な生成物は3−(アルキル−また
はアリルスルホニル)レジオ異性体である。(環付加に
関する選択的な例として、(E)−ビニルスルホン親二
極性基は、3−(スルホニル)付加物の収率を高める)
。従って、第2の環付加反応における方法は、二環性の
ピラゾリジノン環の3位にあるエチレンのスルホニル−
置換炭素に置換結合を配するという点で有用である。
図式2の環付加反応(第1工程)は、中性(好ましくは
極性の)溶媒中で行われる。その様な溶媒の例として、
塩素化された炭化水素、芳香性炭化水素、並びにアルキ
ルシアノまたは芳香族シアノ化合物の溶媒を挙げること
ができる。上記の環付加反応にとって好ましい溶媒は、
1.2−ジクロロエタンである。
環付加の温度は臨界的ではない。略室温から溶媒の還流
温度程度の温度が好ましい。溶媒の還流温度程度の温度
がより好適である。
通常、環付加反応は約1〜約168時間を要する。反応
の至適時間は、反応経過を、クロマトグラフ的手段(薄
層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー、
あるいはカラムクロマトグラフィー)、分光学的手段(
赤外線スペクトル法、核磁気共鳴スペクトル法およびマ
ススペクトル法)、またはこれら2手段の組合わせ等の
常法によって監視することにより、決定することができ
る。
上記の式2における環付加は通常、化学量論的に、イリ
ド:エチレン反応剤の比をl:l として行う。勿論、
いずれか一方の反応剤が過剰に存在しても良い。反応剤
を加える順序は重要でない。
飽和系のC7およびC3の、反応における立体特異性は
予知し得ない。通常、反応によってこれらの位置での立
体異性体の混合物が生成する。付加物の07位における
環付加の立体特異性は、イリドの04位における立体化
学に基づいて決定される。従って、1l−(S)−イリ
ドを出発物質とする場合、環付加物は7−(S)立体化
学を有することになる。
脱離反応(上記の図式2において「工程2」と表示した
場合)にとって好ましい溶媒は、ジクロロメタンである
。この脱離反応は、約−78°Cから略室温程度で行わ
れる。非−求核性塩Jλ、例えば、1.8−ジアザビシ
クロrs、4.o3ウンデカン−7−エン(rD[3U
j)、1.5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノナン−
5−エン(rDI3NJ)、トリエチルアミン、まfこ
はN−メチルポルホリン等を、(アルキルまたはアリー
ル)スルフィン酸要素の脱離に用いる。「飽和系」との
関係において、過剰量の非−求核性塩基の使用も普通に
行なわれている。
図式2における飽和環状付加物または不飽和系(式I)
のC−7位をラセミ化しないので、N−メチルモルホリ
ンが好ましい塩基である。
図式2に示した反応および2.3−ジヒドロ二環ピラゾ
リジノン化合物は、L、N、ジャソノ1イム(J un
heim)およびS、に、シグムンド(S、K。
S igmund)の米国特許出願No、728,73
2(1985年4月30日出願)の一部継続出願に対応
する同日出願の特許願(2)にり、N、 ジャンノーイ
ム(L、 N、  Junheim)、S、に、シグム
ンド(S。
K、  Sigmund) 、C,J、バーネット(C
,J。
B arnett)、およびR,E、ホルムス(R,E
、Holmes)により記載されている。
7−置換二環系ピラゾリジノン類の第3の合成経路は、
ホスホラン反応剤による、l、2−(二置換)ジアゾリ
ジノンの閉環反応を中心としている。第3番目の合成方
法を以下の図式3に図示化して示す。
図式3 上記の図式中、RpはC3〜C6アルキルまたはフェニ
ルを表わす。可変のR7は式Iの場合と同様である。上
記の図式中、可変のR14はカルボキン−保護基または
、非毒性の代謝に不安定なエステルを形成する基である
。上記の図式中、R3、R4、R6およびR8は前記に
同じである。
上記の反応図式中の二環ピラゾリジノン生成物(式1)
の07位の立体特異性は、ジアゾリジノン出発物質の0
4立体化学によって決定される。従って、4−(S)−
ジアゾリジノン化合物7−(S)−二環ピラゾリジノン
(式I)が生成される。反応剤を加える順序は重要では
ない。
上記の図式3における反応の第1工程(反応l)は、ビ
ニルホスホネ−1・反応剤によるジアゾロジノン環の1
位窒素のアルキル化である。アルキル化における2反応
剤の比率は、量子論的に1=1(モル比)であるが、ど
ちらかの反応剤を過剰に用いても良い。アルキル化の溶
媒は、メタノール、エタノールまたはイソプロパツール
等のアルコール性溶媒である。メタノールが好ましい溶
媒であアルキル化反応は通常、約0°C〜約室温で行わ
れる。反応は非常に迅速に進み、わずか1時間程度であ
るが、時には、反応完了まで48時間を要することらあ
る。
次いで、アルキル化反応(反応I)で得たビニルホスホ
ネート付加物を、ジ(イソプロピル)エチルアミノで脱
プロトン化した後、オキザル酸エステルの酸クロライド
を用い、2位の窒素位でアシル化する。このアシル化反
応により、対応する1゜2−二置換ジアゾリジノンが得
られる。アシル化反応において、アミン塩基約1モル当
里と1モル当量またはそれ以下の量のオキザレート反応
剤とを、当量の付加反応剤と混合する。これら3反応剤
の混合順序は任息である。通常、付加物とオキザレート
反応剤とを混合した後、アミン塩基を加える。
ビニルホスポネ−1・付加物のアシル化は、塩素化され
た炭化水素またはエーテル溶媒のいずれを用いても行う
ことができる。好ましい溶媒は塩化メチレンである。
アシル化反応は、しばしばわずか1時間で完了する。し
かしながら、反応を完了するためには、適当な温度下で
約12時間撹拌する必要があるかもしれない。
3反応剤の混合時におけるアンル化混合物の温度は、約
−78℃〜約−50℃に維持しなければならない。反応
混合物をこの温度において約1時間撹拌した後、撹拌下
、室温にまで上昇させることが多い。
次に、反応2で得られた1、2−二置換ジアゾリジノン
を閉環させ、反応3に示されている如く、二環ピラゾリ
ジノン中間体Iを得る。
この閉環反応においては、当量のジアゾリジノン反応剤
に対し、等モルまたはそれ以上の量の水素化ナトリウム
塩基を用いる。閉環反応には、エーテル類、とりわけテ
トラヒドロフランが好ましい溶媒である。反応剤を混合
し、通常、o′cにおいて約15分〜約1時間撹拌する
。反応混合物を室温で24時間撹拌する。
上記の図式3における反応式の好ましい手1順は、ビニ
ルホスボネート付加物をアシル化した後、生成物1.2
−二置換ジアゾリジノンを単離せずに、該生成物を閉環
させることである。この好適な合併反応においては、ビ
ニルホスホネート付加物とアシル化剤とを、任意の順番
で、また、既述のアシル化反応の化学量論に従って混合
する。この合併反応に用いる溶媒はアシル化単独の場合
と同様であり、塩化メチレンが好ましい溶媒であること
も同様である。この合併反応においては、アシル化とそ
の後の閉環の両反応が有効に進行するために、ジ(イソ
プロピル)エチルアミン塩基が、当量の付加出発物質と
、より当量関係にあることが必要とされる(少なくと6
2:少なくともl)。この合併反応混合物を、約θ℃〜
約室温で約15分〜約I8時間撹拌する。
図式3における反応1.2および3の進行を、クロマト
グラフ的常法(薄層クロマトグラフィーまたは分析規模
での高速液体クロマトグラフィー)または分光学的手法
(赤外線スペクトル法または核磁気共鳴スペクトル法)
により監視することができる。反応の進行度を監視する
ために、分光学的手法とクロマトグラフ的手法とを組合
わせても良い。採用した監視手段により、実質上、反応
完了したことが示されたら、上記の反応混合物から生成
物を常法通り、単離する。
式lの化合物を合成するための第4番目の方法はカーベ
ン(carbene)挿入環の閉環を中心としており、
以下の図式4によって示される。
図式4 上記の反応式・i中、R1は前記と同じである。
R1いR6およびR6は、前記の反応式3に対する物と
同じである。R1)は、好ましい基であるエチルを含む
01〜C6アルキルまたはフェニルである。
反応式4の最初の反応は、R3置換基を有するアセチル
フラグメントによる、ジアゾリジノンの1−窒素のアル
キル化である。このアルキル化の第1の工程は、水素化
ナトリウム、t−ブトキシドカリウム等から選択される
塩基による、ジアゾリジノンの脱プロトン化である。ジ
アゾリジノンと塩基はI;I モル比で混合するのが好
ましいカイ、ジアゾリジノン過剰でもよい。
この脱プロトン化工程、ならびに次に行なうアルキル化
工程は、ジメチルポルムアミド、ヘキサメチルホスポル
アミド、ジメチルスルホキシドまたはジメチルアセトア
ミド等の極性かつ非プロトン性溶媒中で行なう。ジメチ
ルポルムアミドが好ましい溶媒である。水素化ナトリウ
ムが塩基であるときには、反応物を1〜約1.5時間撹
拌しく分解させる)、次いでアルキル化試薬を加える。
他の塩基て行うときには塩基を加えた後、数分以内にア
ルキル化試薬を加えるのが好ましい。この脱プロトン化
反応混合物を、0℃〜約室温で撹拌するが、好ましい温
度は0℃である。
この脱プロトン化ジアゾリジノンとブロモアセチルアル
キル化試薬を約1=1 モル比で混合するが、どちらか
の試薬が過剰であってもよい。このアルキル化工程の溶
媒は脱プロトン化工程のものと同じであり、ここでもジ
メチルポルムアミドが好ましい溶媒である。このアルキ
ル化は通常約3〜約24時間後に完結し、約6〜約48
で撹拌する。
反応4で得られた!−アルキル化ジアゾリジノンをアシ
ル化して、1.2−ジ置換ジアゾリジノンを得る。この
アシル化反応を前記反応中の反応5で示している。反応
5の最初の工程は脱プロトン化反応であり。2番目の工
程は得られたアニオンのアシル化である。この脱プロト
ン化工程は、1−アルキル化ジアゾリジノン反応物質の
等モル看存在するジ(イソプロピル)エチルアミンで行
なうのが好ましいが、どちらかの反応物質が過剰に存在
していてもよい。この脱プロトン化反応物質をいずれか
の塩素化炭化水素溶媒中で混合するが、塩化メチレンが
好ましい。この混合物を、約0°C〜約25℃で撹拌す
るが、約り℃〜約lO℃の範囲か好ましい。
塩基を加えた後、数分以内にオキサレートエステル酸り
ロリドアシル化試薬をこの混合物に加える(このときも
通常等モルm)。若干過剰のオキサレート反応物質を使
用してもよい。通常このオキサレートの反応物質を約2
0分か:)て滴下する。
このアシル化工程の溶媒は、脱プロトン化工程の溶媒と
同じである。このアシル化工程の温度は脱プロトン化工
程のそれと同じであり、約lO°Cが好ましい。このア
シル化反応は、約6〜約48時間後に完結するが、通常
の時間は約24時間である。
反応式4の最後の反応(反応6)において、1゜2−ジ
置換ジアゾリジノンを式Iの二環式ピラゾリジノンに環
化する。5〜lOモル当量過剰のホスファイト試薬を、
クロロホルム、l、2−ジクロロエチレンまたは芳香族
炭化水素のいずれかの溶媒中で、ジアゾリジノン反応物
質と混合する。
クロロホルムか好ましい溶媒である。この環化反応混合
物を、約12〜約72時間、約50〜約120℃の範囲
に加熱する。通常の反応時間は24時間である。
反応式4の反応4.5および6の進行を、通常のクロマ
トグラフィー法(薄層クロマトグラフィーまたは分析ス
ケールの高圧液体クロマトグラフィー等)、またはスペ
クトル法(赤外線スペクトルまたは核磁気共鳴スペクト
ル)によってモニターする。スペクトル法およびクロマ
トグラフィー法を組み合わせて、反応の進行をモニター
してもよい。このモニター法により、反応の実質的完結
が示されたなら、上記反応の生成物を常法により単離す
る。
反応式4の一連の反応中の、二環式ピラゾリジノン生成
物(式I)の07位の立体化学は、ジアゾリジノン出発
物質の04位の立体化学によって決まる。従って、4−
(S)ジアゾリジノンは7−(S)二環式ピラゾリジノ
ン生成物を生じる。
上記の反応式1,2.3、および4における反応で製造
される2、3−不飽和化合物は、式Iの7−(保護アミ
ノ)化合物である。すなわち、R5またはR6のいずれ
か一方がアミノ保護基であるときに、他方は水素である
。この7−保護アミノ化合物のアミノ保護基を、前記の
アシル基で置換して、これを式Iの抗菌性最終生成物に
変換する。
7−(保護アミノ)二環式ピラゾリジノン化合物(“7
−保護アミノ核”)のアシル化の最初の工程は、アミノ
保護基の除去である。これらの基を除去するための条件
は、セファロスポリンおよびペニシリンの分野ではよく
知られている。たとえば、ト・リメチルノリル保護基は
簡単な加水分解で除去され、t−ブトキンカルボニル基
は、酸性加水分解(トリフルオロ酢酸による)またはア
シドリシス(氷酢酸中の塩酸)のいずれかによって除去
され、そして、アリルオキシカルボニル基はパラジウム
錯体として除去される。
酸に不安定なアミノ保護基の除去は、通常7−アミノ核
を塩として生じる。この核の塩を、アシル化の而に常法
によって中和する。たとえば、t−ブトキシカルボニル
基をトリフルオロ酢酸で除去すると、得られた7−アミ
ノ核のトリフルオロ酢酸塩が生じる。この塩をテトラヒ
ドロフランに溶解し、ビス(トリメチルシリル)トリフ
ルオロアセトアミドを加えて対応する(中和した)7−
アミノ化合物を得る。この中和化合物を、単離した後に
アシル化、またはそのままの状態でアシル化することが
できる。
中和した7−アミツニ環式ピラゾリジノンをアシル側鎖
でアシル化する方法は、6−アミノペニシラン酸、7−
アミツデスアセトキシセフアロスボラン酸および7−ア
ミツセフ70スボラン酸のアシル化法と同様である。方
法の1つは、酸スカベンジヤーの存在下で、単に7−ア
ミノ核を酸クロライドまたは酸ブロマイドと混合するも
のである。この酸クロライドまたは酸ブロマイドをその
場で生成させてもよい。別の方法は、7−アミノ  :
核を、側鎖の遊離カルボン酸形(またはその酸の塩)お
よび縮合剤と混合するものである。適当な縮合剤には、
N、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド、N、N’
−ジエチルカルボジイミド、N、N’−ノー(n−プロ
ピル)カルボジイミド、N。
N′−ジー(i−プロピル)カルボジイミド、N。
N′−ノアリルカルボノイミド、N、N’ −ビス−(
p−ジメチルアミノフェニル)カルボジイミド、N−エ
ヂルーN’−(4″−エチルモルホリニル)カルボッイ
ミド等のN、N’−ジ置換カルボジイミド類が含まれる
。他の適当なカルボジイミド類を、ンーハン[S he
ehan、米国特許No、2,938.892]および
ホフマン等[Hof’Tmann et al、、米国
特許No、3,065.224  コが開示している。
N 、 N ’ −力ルボニルジイミダゾールおよびN
 、 N ’−ヂオニルノイミダゾール等のアゾリド類
を、縮合剤として用いてもよい。
オキン塩化リン、アルコキンアセチレンおにび2−ハロ
ゲノピリジニウム塩(2−クロロビリジ:ニウムメチル
アイオダイド、2−フルオロピリジニウムメチルアイオ
ダイド等)等の脱水剤を用いて、遊離酸またはその酸の
塩を7−アミノ核と結合させてらよい。
別のアシル化法は、始めに、アシル側鎖の遊離カルボン
酸形(またはその対応する塩)を活性エステル誘導体(
これを用いて次に核をアシル化する)に変換することを
必要とするものである。この活性エステル誘導体は、p
−ニトロフェノール、2゜4−ジニトロフェノール、ト
リクロロフェノール、ペンタクロロフェノール、2−ク
ロロ−l! 、 6−ジメトキシトリアセン、N−クロ
ロスクシンイミド、N−クロロマレイン酸イミド、N−
クロロフタルイミド、1−ヒドロキシ−I H−ベンゾ
トリアゾールまたは!−ヒドロキンー6−クロロー1t
r−ベンゾトリアゾール等の基で、遊離酸形をエステル
化して得られる。この活性エステル誘導体は、メトキン
カルボニル、 エトキンヵネポニル、i−ブトキシカル
ボニル、トリクロロメチルカルボニルおよびi−ブタ−
2−イルカルボニル等の基と、アシル側鎖のカルボン酸
とで形成される。
混合酸無水物であってもよい。この混合酸無水物は、ア
シル側鎖のカルボン酸のアシル化によって製造される。
従って、一般的に言えばこのアシル化は、式:%式% る。)の酸の活性形と、式: R4 で示される核を反応さけ、次いで所望により、分子中の
アミノ、ヒドロキシまたはカルボキシ保護基を除去する
ことを包含するものである。
適当なアシル基でアシル化した二環式ピラゾリノノン類
の抗菌活性は、分子上の残存アミノ、ヒドロキシおよび
/またはカルボキシ保護基のすべてを除去して、さらに
高められる。前記のように、このような除去法は、セフ
ァロスポリン、ペニシリンおよびペプチドの分野ではよ
く知られている。
カルボキシ基が脱保護化されたときには、非毒性かつ代
謝的に不安定なエステルを形成する基(“経口用エステ
ル”基)が、R1の所望のカルボキン基土に置換されて
もよい。この経口用エステル誘導体を製造する方法は、
セファロスポリンおよびペニシリンの分野ではよく知ら
れている。
反応式1,2.3および4中の反応のための出発物質で
ある。ピラゾリジニウムイリドの04−ラセミ性混合物
は、以下の反応式5に示す方法によって製造される。
x式二 〇 上記の反応式は、4−(t−ブトキシカルボニルアミノ
)イリド出発物質の製造を表す。別のアミノ保護基を有
するイリド出発物質は、保護セリン誘導体上に別の保護
基を有する出発物質から得られる。
上記反応式中の反応7で示される、イリド出発物質の製
造における最初の工程は、保護セリン誘導体のヒドロキ
シ基のトシル化である。このトシル化を、触媒量の4−
ジメヂルアミノピリジンおよび1当量以上のピリジンの
存在下、塩化メチレン中、p−1−ルエンスルホニルク
ロライドで行なう。この反応混合物を室温で一晩攪拌す
る。
得られたトシル化セリンを環化してジアゾリジノンを得
る。反応8で示されるこの環化を、窒素雰囲気下、塩化
メチレン中の97%ヒドラジン溶液にトシル化セリンを
加えることによって行なう。
次いで、この混合物を室温で5時間攪拌する。
ピラゾリジニウムイリド出発物質の04−ラセミ性混合
物の製造におけろ最後の反応は、ケトンまたはアルデヒ
ドとジアゾリジノンを縮合することからなる。有用な別
法として、ケトンのケタールを、酸の存在下でジアゾリ
ジノンと縮合させてもよい。たとえば、ジアゾリジノン
試薬をメタノール中でアセトンジメチルアセタールと混
合し、次いでこの溶液をd−10−ショウノウスルホン
酸で処理する。この混合物を、メタノール中でノアシリ
ジノン試薬および37%ホルムアルデヒド水溶液を混合
し、この混合物を室温で20分間攪拌することによって
製造する。
ピラゾリジニウムイリド出発物質の立体特異的な製造を
、以下の反応式6に示す。
反応式6 ↓1り水、酸イオン 上記の反応式は、キラル性4−(S)−(t−ブトキン
カルボニルアミノ)イリド化合物の製造を示す。4−(
R)立体配置を有するイリド化合物は、上記に示したL
−異性体のかわりに保護D−セリンアノルヒドラジドを
出発物質とすることによって製造する。t−ブトキシカ
ルボニル以外のアミ    □ノ保護基を有する4−(
R)または4−(S)の両化合物は、t−ブトキシカル
ボニル以外のアミノ保護基で置換された、対応するセリ
ンのエナンチオマーから製造ずろ。
反応弐〇中の保護セリンアシルヒドラジド面部   1
体は、イセリンおよびシュピッツアー[B。
I 5elin and R,Schwyzer、ヘル
ベチカ・キミ力・アクタ(T+elv、 Chim、 
Acta)、土工、169頁(1961)]に類似の方
法で製造する。次いで   ンこの前駆体を、反応式中
の反応10のように、トリフルオロアセチル基でアシル
化ずろ。すなわち、  ゛ヒドラジド前駆体を、エタノ
ール中、過剰のエチルチオトリフルオロチオアセテート
(“ET−TF”    IA”)でアシル化する。こ
の反応混合物を室温で6   ^5時間攪拌する。
反応10で得られたN−(トリフルオロアセチル)アシ
ルヒドラジドを、上記の反応IIて示したように、トリ
フェニルホスフィン(“TPP”)およびジエチルアゾ
ジ力ルポキシレートじDEAD”)で環化する。
化学量論的には、反応11の環化は、N−(トリフロオ
ロアセヂル)アシルヒドラジド、ホスフィンおよびジェ
チルアゾジヵルボキンレート試薬の比が少なくとも約1
:I:1モル比である。この反応は、反応物質のいずれ
かが上記比の過剰モル存在していても進行する。
この環化を、最初に溶媒、N−(トリフロオロアセヂル
)アシルヒドラジドおよびホスフィンを昆合しく順序は
いずれでもよい)、2番目にアブジカルボキシレート試
薬を加えることによって開始Vる。
反応+1の温度は限定的なパラメーターではなハ。この
環化を、溶媒の凝固点近辺から還流温度1辺までの温度
で行なうことができる。好ましい温度は室温付近である
反応11の反応時間は、約5分から約24時間とするこ
とができる。この環化の進行を常法(たとえば薄層クロ
マトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等)によ
ってモニターすることができる。このモニター法が反応
の実質的完結を示したときに、反応操作を停止する。
この環化用の溶媒は、ベンゼン、トルエンまたはキシレ
ン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフランまたは1.4−ジオキサン等のエーテル類、
塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエ
タンまたはクロロベンゼン等の塩素化炭化水素類、ジメ
チルポルムアミドおよびジメチルアセトアミド等のアミ
ド類、ならびにヘキサメチルホスホルアミド等のその他
の溶媒類である。テトラヒドロフランが好ましい溶媒で
ある。本工程に使用する前に、溶媒を乾燥および脱酸素
化することが望ましいが必須ではない。
上記の反応式中の反応itはジエチルアゾジカルボキシ
レートを使用するものであるが、ジメチルおよびジ(i
−プロピル)アゾジカルボキシレート類似体もこの反応
に使用することができる。
反応11で得られるキラル性l−(トリフルオロアセデ
ル)ジアゾリジンを、水酸化ナトリウム希釈溶液で脱ア
シル化する。この脱アシル化は、反応式中の反応12で
示される。通常この脱アシル化は、キラル性1−(トリ
フルオロアセデル)ジアゾリジンを水に懸濁させ、水酸
化ナトリウムまたは水酸化カリウムの希釈水溶液を少な
くとも2当量加えることを必要とする。たとえば、2倍
過剰の1M水酸化ナトリウム溶液を使用することができ
る。この溶液の最初のp I−1は、約11〜約12で
あることが好ましい。得られたこの溶液を約10〜約2
5℃の温度で、約10分〜約3時間攪拌することができ
る。反応が実質的に完結したときに、IN塩酸等の希釈
酸を加えてこの反応溶液を中和する。
脱アシル化の最適反応時間は、通常のクロマトグラフィ
ー法(薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラ
フィーまたはカラムクロマトグラフィー)、またはスペ
クトル法(赤外スペクトル、核磁気共鳴スペクトルおよ
び質量スペクトル等)、または両方法の組み合わせによ
って、反応の進行をモニターして決めることができる。
好ましい反応時間は、約30分〜約1.5時間である。
キラル性ジアゾリジンをキラル性ピラゾリジニウムイリ
ドに変換する、反応式6の最後の反応は、反応式5中の
類似の反応(反応式9)について記載した条件を用いて
行なう。
反応式1.2.3および4中の、アセチレン、エチレン
、ビニルホスホネート、およびブロモアセデル出発物質
のそれぞれは、当分野で既知の方法で製造され、そして
/または市販品を利用できろ。
7−置換二環式ピラゾリジノン類の抗菌性の挽肌 式1で示される抗菌化合物は、ヒトおよび動物に対して
病原性である、ある種の微生物の増殖を抑制する。抗菌
活性は、通常のチューブ希釈法を使用してインビトロで
ホ11定することができる。このインビトロ試験は、一
般的に7−(S)異性体の方が、対応する7−(rt)
異性体または2つの異性体の混合物のいずれよりも抗菌
活性が高いことを示す。式lの抗菌化合物に感受性であ
る代表的な病原菌には、スタフィロコッカス・アウレウ
ス(Staphylococcus aureus)X
 1 、 l 、ストレプトコッカス・ブヨゲネス(S
 treptooccus pyogenes)C20
3、ストレプトコッカス・ブネウモニアエ(Strep
tooccus pneumoniac)Park、ホ
モフィルス・インフルエンザエ()Iemophilu
s 1nfuenZae) 76 (アンピシリン耐性
)、エシェリヒア・コリ(Escherichia c
oli)N l O、エシェリヒア・コリ(Esche
richia coli)E C14、エシェリヒア・
コリ(Escherichia coli)T EM(
b−ラクタマーゼ生産株)、クリブシエラ・プネウモニ
アエ(K Iebsiella pneumonias
) X 26 、クリブシエラ・ブネウモニアエ(Kl
ebsiella l)neumonias)KΔE(
β−ラクタマーゼ生産株)、クリブシエラ・ブネウモニ
アエ(K 1ebsiella pneumonias
)X 68、エンテロバクチル・アエロゲネス(E n
terobacter aerogenes)C32、
エンテロバクチル・アエロゲネス(Enterobac
ter aerogenes)E B 17、エンテロ
バクチル・クロアカニ(E nterobacter 
cloacae)EB5(β−ラクタマーゼ非生産株)
、サルモネラ・ティア イ(S almonella 
typhi)X 514、サルモネラ・ティフィ(S 
almonella typhi)B 35、セラッチ
7−フルセスセンス(S erratia marce
scens)X99、セラッチア・マルセスセンス(S
 erratia marcescens)S E 3
、(プロテウス・モルガニ(P roteus mor
gani i) P n f 5、プロテウス・インコ
ンスタンス(P roteus 1nconstans
)P n 33、プロテウス・レットゲリ(P rot
eus rettgeri) C22、シトロバクチル
・フレランブイ(C1trobacter freun
dii)CF 17等が含まれる。
本発明の抗菌化合物は、グラム陽性、グラム陰性および
抗菌性菌によって引き起こされる、温血動物の感染の治
療または予防に有用である。
この抗菌化合物は、経口的に、非経口的に(たとえば、
静脈内、筋肉内または皮下)、または局所用軟膏あるい
は溶液として、温血動物の細菌感染の治療において投与
することができる。
本発明の別の態様は、式Iの抗菌化合物の医薬組成物で
ある。特に、これらの゛医薬組成物は、グラム陽性およ
びグラム陰性細菌感染の制御に有用であり、適当なビヒ
クルおよび治療学的有効量の式1の抗菌化合物を含有す
るものである。
経口投与(たとえば錠剤およびカプセル)用の組成物に
ついては、“適当なビヒクル”なる語句は、シロップ、
アカシア、ゼラチン、ソルビトール、トラガカント、ポ
リビニルピロリジン(ポビドン)、メチルセルロース、
エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒド
ロキシブロピルメチルセルロース、サッカロースおよび
デンプン等の結合剤、コーン・スチーヂ、ゼラチン、ラ
クトース、サッカロース、微結晶セルロース、カオリン
、マンニトール、シカルシウムホスフェート、塩化ナト
リウムおよびアルギン酸等の充填剤および担体、クロス
カルメロースナトリウム、微結晶セルロース、コーン・
スターチ、デンプングリコール酸ナトリウム、アルギン
酸等の崩壊剤およびナトリウムラウリルスルフェート等
のミュータプル湿潤剤、ならびにステアリン酸マグネシ
ウムおよび他の金属ステアレート、ステアリン酸、シリ
コン流動体、タルク、ワックス状オイルおよびコロイド
状シリカ等の潤滑剤などの通常の賦形剤を色味する。ペ
パーミント、ウィンターグリーン・オイルまたはヂエリ
ー・フレバー等の香料も使用することができる。着色剤
を加えて、外見上のより美的な感覚を投与剤形に与える
か、または製造品の識別を容易にすることが望ましい。
当分野でよく知られた方法により、錠剤をコーティング
してもよい。
本発明の医薬組成物は、経口用液体調製物の剤形であっ
てらよく、この調製物は、(a)水性または71t+性
のuE液、溶液、乳局液あるいはシロップ、または(b
)使用前に水または他の適当なビヒクルで再調整する乾
燥粉体であってもよい。
このような経口用液体調製物に関して使用するとき、“
適当なビヒクル“なる語句は、懸濁剤(たとえば、ソル
ビトール、シロップ、メチルセルロース、グルコース/
シュゴーシロップ、ゼラチン、ヒドロキシエチルセルロ
ース、カルボキシメチルセルロース、ステアリン酸アル
ミニウムゲル)または水素化食用油(たとえばアーモン
ドオイル、分溜ココナツツオイル、油状エステル、プロ
ピレングリコールまたはエチルアルコール)等の通常の
添加物ならびにメチルあるいはプロピルp−ヒドロキシ
安息香酸またはソルビン酸等の防腐剤を意味する。
この医薬組成物は静脈内(IV)用であってもよい。
特に、水溶性の抗菌化合物を、通常使用されろ静脈内用
液体の1つに溶解し、注射投与することができる。■用
の組成物に関して使用ずろとき、“適当なビヒクル”な
る語句は、生理食塩水、リンガ−溶液または5%デキス
トロース溶液等の液体を意味する。抗菌化合物の適当な
塩の形(たとえば、塩酸塩またはナトリウム塩)の滅菌
製剤を、筋肉内用の調製物用に、゛適当なビヒクル”と
共に製剤化することができる。このような滅菌製剤の例
は、薬学的希釈剤(たとえば、注射用水、生理食塩水、
5%グルコース)に溶解するか、または水性ベースある
いは薬学的に許容しうる油性ベース(たとえば、オレイ
ン酸エチル等の長鎖脂肪酸のエステル)に@濁させた、
適当な塩の形である。
局所用組成物は、疎水性または親水性ベース等の“適当
なビヒクル”で製剤化することができる。
このようなベースには、軟膏、クリームまたはローショ
ンか含まれる。
抗菌化合物の獣医薬組成物は、家畜の飼料または飲料水
に混ぜて投与することができる。別法では、この化合物
を、長時間放出または直ちに放出するベース等の“適当
なビヒクル”とともに乳腺内調製物として製剤化するこ
とができる。
式Iで示される抗菌化合物は、滅菌バイアル、隔壁を持
ったボートを有する滅菌プラスチック袋または滅菌密封
アンプル中に、単位用m形で製剤化することもできる。
この抗菌化合物(または対応する薬学的に許容し得る塩
)は、乾燥粉末または結晶形態あるいは凍結乾燥物の形
態であってもよい。単位用量当たりの抗菌化合物の量は
、約250所〜約[09に渡っていてもよい。
式rで示される抗菌化合物の“治療上有効な爪”は、体
重1にg当たり、約2 、5 mg〜約50R9の化合
物量である。このような量は通常、成人1日当たり、合
計約19〜約12gとなる。
また本発明は、温血動物においてグラム−陽性菌および
ダラム陰性閑によって引き起こされる感染性の疾病を治
療またはコントロールするための方法を堤供するもので
ある。この方法とは、動物に該抗菌化合物の治療上有効
な量を投与することである。本方法における成人に対ず
ろ通常の1日当たり用量は、約0.59〜約129であ
る。
本方法を行なう場合、この抗生物質を、1日当たり用量
を1回で、または1日当たり用量を何回かに分けて投与
してもよい。治療養生法には、たとえば、数日または2
〜3週間に及ぶ期間の投与が必要なことがある。用量当
たり投与される仝または投与される合計量は、感染の性
質および重篤度、患者の年令および普段の健康状態、お
よび感染に係る患者および微生物あるいは微生物類両方
の式■の抗菌化合物に対する耐性のような因子によって
決まる。
以下の例は、本発明を更に詳しく説明するものである。
以下の製造例または実施例のいずれによっても本発明の
範囲を制限するものではない。
以下の製造例および実施例において、融点、核磁気共鳴
スペクトル、電子衝撃マススペクトル(eletron
 impact mass 5pectra)、ツイー
ルドブソープションマススペクトル(fild des
orptionmass 5pectra)、迅速原子
衝撃マススペクトル(fast atom bomba
rdment mass 5pectra)、赤外スペ
クトル、紫外スペクトル、元素分析、比施光度、高性能
液体クロマドグフィーおよび薄層クロマドグフィーとい
う用語を、それぞれm、p、、 n、m、r、。
m、s、、 r、d、n+、s、、 f、a、d、m、
s、、 i、r、、 u、v、、 anal。
、Q、r、、HPLCおよびTLCと略す。また、i。
r、スペクトルに挙げた吸収最大値は、関係ある最大値
のみであって、観察されろ最大値全てではない。
Tl−1,DMF、TFAおよびBSTFAという省略
形は、それぞれテトラヒドロフラン、ジメチルホルムア
ミド、トリフルオロアセテートお上びN、O−ビス(ト
リメデルシリル)トリフルオロアセトアミドである。
n、m、r、スペクトルにおいては、以下の省略形を使
用ずろ:各々“S”は−重線、“d”二重線、“dd”
は二重線が2つ、“L”は三重線、“q”は四重線、“
m”は多重線、“cjff+″は多重線が2つ、“br
、 s”、“br、d”および“br、t”はブロード
な一重線、二重線、三重線である。“J”はヘルツ単位
でのカップリング定数を表わす。“DMSO−d、〃は
、プロトンが全て重水素で置き換えられているジメチル
スルホキシドである。
尚、本明細書に於いて、化合物の店名を表す場合、例え
ば「プロパー2−イル」は「プロパン−2−イル」まf
こは「プロピル(2)」と同義であり、また例えば、「
ビニジン−2−イル」は「ピリジニル(2)」と同義で
ある。
実験の部 製造例 1 メチル 3−(p−)ルエンスルポネート
)−2−(S)−(L−ブトキシカルボニルアミノ)プ
ロピオネート メチル(3−ヒドロキシ)−2−(S)−(t−ブトキ
シカルボニルアミノ)プロピオネート(58g、196
ミリモル)、乾燥した塩化メチレン(150m□、p−
トルエンスルホニルクロライド(43,35g。
227.4ミリモル)、4−(ジメチルアミノ)ピリジ
ン(2,4g、19.6ミリモル)およびピリジン(3
0m(2,371ミリモル)を混合し室温において一晩
攪拌する。反応溶液を減圧上濃縮して淡黄色の浦を得た
。その油を一晩減圧下で保存し、次に形成した白色固体
を分離して、粗生成物を75.33g得た。その粗生成
物を石油エーテル(約200m12)でこねて(トリチ
ュレートし)、メチル 3−(p−トルエンスルホネー
ト)−2−(S)−(t−ブトキンカルボニルアミノ)
プロピオネートを製造した。
n、m、r: (CDC+3.90MHz): δ7.
72.7.31(2x  dd、4.アロマチック プ
ロトン)、5.26 (m、 l 、窒素のプロトン)
、4.48(m、!、、C−2プロトン)、4.32(
m、2. 0−3  プロトン)、3.68(s、3.
メチルエステルのメチルプロトン)、2.44(s、3
.トルエン部分のメチルプロトン)、1.40(s、9
.t−ブチル部分のプロトン); i、r、(CI−r
(1,): 3435,3019,1753.17 +
1.1502.1369.+351.1250,121
5、l I 90,1177cm−’; m、s、; 
 279,210.172,91.41: 元素分析値: (C+gnt*No7sとして)理論値
: C,51,19,H,6,71,N、3.73.S
 、8.54実測値: C,51,05,H,6,50
,N、3.63.S 、8.13製造例 2 4−(R
,5)−(t−ブトキシカルボニルアミノ)−3−オキ
ソ−1,2−ジアゾリジン 窒素雰囲気下、乾燥した塩化メチレン(50mσ)を水
浴中で冷却し、無水ヒドラジン(97%、110g、3
33ミリモル)を加えた。水浴槽を取りはずし、生成し
た溶液を室温に温まるまで攪拌した。
この時点で乾燥した塩化メチレン(50mQ)に溶解し
たメチル 3−(p−)ルエンスルホネート)−2−(
S)−(t−ブトキシカルボニルアミノ)プロピオネー
ト(20,0g、53.6ミリモル)の溶液を徐々に加
えた。反応溶液を窒素雰囲気上室温において5時間攪拌
した。次にこの溶液を減圧上濃縮し、得た濃縮物を飽和
重炭酸ナトリウム水溶液中に取った。生じた水溶液を塩
化メチレン(700mQ)を用いて、連続して14時間
抽出した。塩化メチレンを硫酸ナトリウム上で乾燥し、
濾過し、減圧上濃縮して、約5.15g、48%の4−
(R。
5)−(t−ブトキシカルボニルアミノ)−3−オキソ
−1,2−ジアゾリジンを製造した。n、m、r: (
CDCI+、90MHz): 67.04(m、1)、
5.12(m、り、4.28(m、1.C−4プロトン
)、3.94(m、I、C−5プロトン)、3.20(
m、l、C−5プロトン)、1.45(s、9.t−ブ
チル プロトン);i、r、(CHC+3):  34
30,3250,3019.2983,1702.l5
45.1503゜1370.1297,1241,12
15.1165cm−’; f、a、m、s、; M=
 −201;元素分析値: (Ca HIs N 30
 sとして)理論値: C,47,75,H,7,51
,N、20.88実測値: C,47,80,II、7
.56.N、20.61製造例 3 4−(R,5)−
(t−ブトキシカルボニルアミノ)−3−オキソ−1,
2−ジアゾリジンp−)ルエンスルホン酸塩 4−(R,5)−(t−ブトキシカルボニルアミノ)−
3−オキソ−1,2−ジアゾリジン(1,7g、8゜4
5ミリモル)を塩化メチレン(50mC)を用いスラリ
ーにした。p−、トルエンスルホン酸水和物(1,6g
、8.45 ミリモル)をスラリーに加えた。20分後
、生成した固体を集め、次に約48時量減圧下乾燥し、
4−(R,5)−(t−ブトキシカルボニルアミノ)−
3−オキソ−1,2−ジアゾリジンp−トルエンスルポ
ン塩(無色、2.95g)を製造した。n、m、r、(
90Ml−rz、DMSO−ds): δ7゜5(d、
2.J=8)、7.1(d、2.J=8)、4.32(
m、 I )、3.9(m、I)、3.4(m、I)、
2.3(s、3)、I 、4(s、9): i、r、(
KI3r):  l 742.1704.1537cm
″″1゜ 製造例 4 1−(p−トルエンスルホニル)−2−(
アリル カルボキシレート)−(E)−エチレン p−トルエンスルフィン酸ナトリウム水和物(2゜03
g、10.3ミリモル)を水(15mのに溶解した。
氷酢酸(0,57m(1,10ミリモル)および酢酸ナ
トリウム(0,82g、 I Oミリモル)をこの溶液
に加えたアリル 2,3−ジブロモプロピオネート(2
゜72g、10.0ミリモル)をジオキサン(+5靜)
に溶解した溶液をこの反応溶液に加えた。生成したエマ
ルジョンを室温において48時間攪拌した。
エマルジョンを塩化メチレンおよび、2相を形成させる
のに充分な水を用いて希釈した。有機層を分離し、飽和
重炭酸ナトリウム水溶液および食塩水を用いて、洗浄j
5、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、減圧下濃縮し
て2.53g、95%の無色の浦を製造した。その油を
一晩、減圧下で保存し、次に最少量のエタノールで溶解
し、濾過した。
その濾液を減圧濃縮して、I −(1−p−トルエンス
ルホニル)−2−(アリルカルボキシレート)−(E)
−エチレンを製造した。得た生成物は精製せずに使用し
た。n、m、r: (90MIIz、CDC1,); 
δ7.76(d、2.J=9  アロマティック プロ
トン)、7.34(d、2.J=9  アロマティック
 プロトン)、7.32(d、I、J=16  オレフ
ィン性プロトン)、6.78(d、 1 、J = 1
6  オレフィン性プロトン)、6.12−5.68(
m、I、アリルプロトン)、5.42−5.17(m、
2.アリル プロトン)、4.66(d、2.J=6 
 アリル プロトン)、2.43(s、3.メチル プ
ロトン)製造例 5 (メチルチオXp−)ルエンスル
ホニル)メタン ジメチルスルホキシド(9,25g、 I I 8ミリ
モル)と無水酢酸(15,6g、 I 53ミリモル)
とを80℃で24時間加熱した。この溶液を室温にまで
冷却し、次に氷酢酸(90mρ)、酢酸ナトリウム(9
,7g、118ミリモル)およびI)−トルエンスルフ
ィン酸ナトリウム(31,6g、 I 78ミリモル、
減圧下P t O5を用い、50℃において一晩乾燥し
た。
この混合物を100°Cで24時間加熱した。塩水(1
50m12)を加え反応溶液を塩化メチレン(5x。
100mg)で抽出した。得た有機抽出物を合わせて塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、減
圧下濃縮して粘着性の固体を得た。その固体を95%エ
タノール(3B)から再結晶し、8.68gの白色結晶
として(メチルチオ)(p−トルエンスルホニル)メタ
ン(m、p、81−83℃)を得た。
製造例 6 t−ブチル 3−(R,S)−3−(メチ
ルチオ)−3−(p−トルエンスルホニル)プロピオネ
ート (メチルチオXp−)ルエンスルポニル)メタン(3,
72g、17.2ミリモル)をT I−1F (70m
c)に溶解し、その溶液を一78℃まで冷却した。ヘキ
サンに溶かしたn−ブチルリチウム(11,5m(2,
17,2ミリモル)を加え、その溶液を一786Cにお
いて30分間攪拌した。−78℃において攪拌中のt−
ブチル2−ブロモアセテート(5,5mり、3゜44ミ
リモル)のT [l F (30m□溶液中に該反応溶
液をカニユーレを経て移した。生成した溶液を室温にな
るまで放置し、ジエチルエーテルで希釈し、INの塩酸
および塩水を用いて洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥
し、濾過し、減圧下濃縮して油を得た。得た浦をトルエ
ンで希釈し、減圧下Pt縮した。生じl二濃縮物を少量
のエーテルを含むヘキサンから最結晶し、し−ブチル3
−(R,5)−3−(メチルチオ)−3−(p−トルエ
ンスルホニル)プロピオネート(白色粉末、3.33g
 )を製造した。n、m、r: (90Ml4z、CD
Cl+): δ7.8(d。
2、J=8)、7.32(d、2.J=8)、4 、1
8 (dd。
1、J=4.11)、3.12(dd、1.J=4.1
6)、2.46(dd、 l 、J = 11 、 I
 6)、2.48(s、3)、2.26(s、3)、1
 、44 (s、 9 ); i、r、(CHC13)
:  1728c+n−’; m、s、:M/” =3
30;元素分析値二(C+511ztO−9tとして)
理論値: C,54,52,I(,6,71,S、19
.41実測値: C,54,78,H,6,8g、S、
19.68製造例 7 (−ブチル 3−(R,5)−
3−クロロ−3−メチルチオ−3−(p−トルエンスル
ホニル)プロピオネート L−ブチル 3−(R,5)−(3−メチルチオ)−3
−(p−トルエンスルホニル)プロピオネート(4゜3
6g、13.12ミリモル)、塩化スルフリル(1゜1
m12,13.5ミリモル)および四塩化炭素(50m
e)を混合し、室温において16時間攪拌した。この反
応混合物を塩化メチレンで希釈し、次に飽和重炭酸ナト
リウム水溶液および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム
上で乾燥し、濾過し真空上濃縮して、t−ブチル 3−
(R,5)−3−クロロ−3−メチルチオ−3−(p−
トルエンスルホニル)プロピオネート(黄色部、4.1
6g)を製造した。
n0m、r、(90MIIZ、CDCl5): δ7.
8(m、2)、7.3(m、2)、3.14(s、3)
、2.5(ABq、2゜J=17)、2.5(s、3)
、1.48(s、9)。
製造例 8 t−ブチル 3−メチルチオ−3−(p−
トルエンスルホニル)−アクリレートt−ブチル 3−
(R,5)−3−クロロ−3−メチルチオ−3−(p−
トルエンスルホニル)プロピオネート(370xy、 
1ミリモル)を塩化メチレン(5mσ)に溶解し、その
溶液を一78℃にまで冷却した。1.8−ジアザビシク
ロ[s、4.o]ウンデカン−7−エン(0,15m1
2.1ミリモル)を加え、その溶液を一78℃において
、15分間攪拌した。
溶液を室温にまで温め、次にジエチルエーテルで希釈し
、INの塩酸と飽和塩化ナトリウム水溶液とを用いて洗
浄し、硫酸マグネシウム塩上で乾燥し、減圧上濃縮して
黄色の油(330mg)を得た。
得た油をシリカゲル予備スケールのT L Cプレート
上で、溶出液(4:l ヘキサン:酢酸エチル)を用い
てクロマトグラフィーを行い、t−ブチル3−メヂルヂ
オ−3−(p−トルエンスルホニルアクリレート(黄色
浦、230g、70%)を製造した。n、m、r: (
CDCI+、90MI−Iz): δ7.8(d。
2、J=8)、7.3(d、2.J=8)、7.18(
s、I)、2.47(s、3)、2.40(s、3)、
1.50(s、9);i、r、(C)ICI+):  
I 716. I I 48cm−’+ m、s。
M”=328゜ 元素分析値: (C,5)12゜04S、として)理論
値: C,54,85,H,6,14実測値: C,5
4,70,H,6,30製造例 9 4−(R,5)−
(t−ブトキシカルボニルアミノ)−3−オキソ−1−
(ジメチルメチレン)−1,2−ピラゾリジニウム イ
リド4−(R,5)−(t−ブトキシカルボニルアミノ
)−3−才キソー1.2−ジアゾリジン(2,01g。
10ミリモル)をメタノール(20m&)に溶解した。
この溶液にアセトン ツメデル アセクール(lOミリ
モル)およびd−1’0−Lようのうスルホン酸(約5
1)を加えた。この混合物を1.5時間還流し、次に減
圧上濃縮した。生じた濃縮物をジクロロメタン/イソプ
ロピルエーテルから再結晶して、4−(R,5)−(t
−ブトキシカルボニルアミノ)−3−オキソ−1−(ジ
エチルメチレン)−1,2−ピラゾリジニウム イリド
 (2,01g )を製造した。n、m、r、(270
MIIz、DMS O−do):δ7.2(d、l、J
=6)、4.54(t、l、J=10)、4.28(m
、I)、3.85(m、I)、2.25(s。
3)、2.18(s、3)、I 、4 (s、9); 
i、r、(KBr): 3232.1692.1671
.1608cm−’;m、s、:  M” −241゜ 製造例 10 4−(R,5)−(t−ブトキシカルボ
ニルアミノ)−3−オキソ−1−(メチレン)−1,2
−ピラゾリジニウム イリド 4−(R,5)−(L−ブトキシカルボニルアミノ)−
3−オキソ−1,2−ジアゾリジン(4,02g。
20ミリモル)を乾燥したメタノール(50m&)中に
溶解した。37%ポルムアルデヒド水(1,62g、2
0ミリモル)を加え、これらの混合物を室温において2
0分間攪拌し、次に40℃において減圧下でメタノール
と共に共沸蒸留を数回行なった。
生じた残留物を減圧下40℃において、−晩乾燥し、4
−(n、5)−(t−ブトキシカルボニルアミノ)−3
−オキソ−1−(メチレン)−1,2−ピラゾリジニウ
ム イリドを製造した。n、m、r、(90MIIz、
CI)CIJ:δG、1−5.3(m、I)、4.9−
4.2(m、3)、4.0−3.6(m、1)、3.5
−3゜1 (m、 I )、I 、4 (s、 9)+
 i、r、(Kr3r):  3379 。
2980.2930.+705.1524.1519゜
1504.1455,1393,1368,1297゜
1252.116(3cm−’;f、d、m、s、:M
”=213゜製造例11  n−プロピル2−ブロモア
セテート 窒素雰囲気下で、n−プロパツール(30yo2.0゜
4モル)をジエチルエーテル(2oom□に溶解した。
溶液を0℃に冷却し、次いでピリジン(15゜82g、
+6.2m□を溶液に加えた。臭化ブロモアセチル(1
7,4m(2,0,2モル)を素早く滴下した。得られ
た濃厚な白色懸濁液を撹拌し、2.5時間かけて室温に
戻した。濾過して懸濁液の固形成分を除去し、ジエチル
エーテルで洗浄した。濾液を減圧下に蒸発さ仕て油状物
を得た。油状物を減圧蒸留し、56℃で沸騰したフラク
ションを集めて、n−プロピル2−ブロモアセテート2
8.79.79%収率を得た: n、m、r、(90M
r(z、 CDCI23) :60.95(t、J=7
.2.3)、1.51−1.91(m、2); 3.7
9(s、2)、4.08(t、J=7.2.2)。
製造例12  n−プロピル2−(ジメチルホスホナト
)アセテート n−プロピル−2−ブロモアセテート(27,159,
0,15モル)をトルエン(25IlIQ)に溶解し、
トリメチルホスファイト(17,7m12.18.69
)を加えた。得られた溶液を5時間加熱連流し、減圧下
で蒸発乾固して、n−プロピル2−(ジメチルホスホナ
ト)アセテート32gを得た:n1品、r、(300M
Hz、   CDCC3):   δ 0.9 7(L
、J=7.5゜3)、1.63−1.75(m、2)、
2.99(d、J−2+、2)、3.83(d、J=1
2.6)、4゜22(t、J=7.5.2)、 i、r
、(CHC12*)+ 3007゜2856、+732
.1275.1+17.1060 、 1040cM−
’: f、d、m、s、(m/e): =M+1”、=
211゜ 製造例13  n−プロピル2−(ジメチルホスホナト
)プロパー2−エノエート(またはプロペノエート(2
)) パラポルムアルデヒド(69,0,2モル)とピロリジ
ン(1,67x&、0.02モル)をメタノール(15
on(1)に懸澗した。@両液を加熱還流して固形物を
全て溶解し、次いで、溶液を0℃に冷却した。
n−プロピル2−(ジメチルホスホナト)アセテート(
32y、0.15モル)を加え、得られた溶液を 〔窒
素雰囲気下で7時間15分加熱還流した後、室温で一夜
撹拌した。トルエンを加え、反応混合物を減圧蒸留した
。131℃−133℃で沸騰したフラクションを集めて
、n−プロピル2−(ジメチルホスホナト)プロパー2
−エノエートの透明で濃厚な油状物11.25g、34
%を得た: n、m、r。
(90MHz、 CDCf)3): δ0.86(t、
J=7.2゜3)、1.42−1.82(m、2)、3
.72(d、J=11.7.6)、4.09(t、J=
7.2.2)、6゜65(dd、J=20.7および1
.8.l)、6.94(dd、J=41.4および1.
8.I)、i、r、(CHCf23): 3004,2
950,1732,1257゜105G、1041cr
’。
製造例14 4−(R,5)−(t−ブトキシカルボニ
ルアミノ)−3−オキソ−1−[1’−(n−プロピル
カルボキシレート)−ビー(ジメチルホスホナト)エラ
ー2°−イル]−1,2−ジアゾリジン窒素雰囲気下で
、4−(1N、5)−(t−ブトキシカルボニルアミノ
)−3−オキソ−1,2−ジアゾリジン(8,14g、
40.5ミリモル)をメタノールに溶解した。溶液を0
℃に冷却し、次いで、n−プロピル2−(ジメチルホス
ホナト)プロパー2−エノエート(8,14g、40.
5ミリモル)を加えて溶液を2時間撹拌し、室温まで温
めた。更にn−プロピル2−(ジメチルホスホナト)プ
ロパー2−エノエー1−(2Li/)を加え、溶液を更
に30分間撹拌した後、メタノールを減圧留去した。残
留物を1%メタノール/酢酸エチルで溶離するシリカゲ
ルクロマトグラフィーにかけ、4.−(R,5)−(1
−ブトキシカルボニルアミノ)−3−オキソ−I−[1
’−(n−プロピルカルボキシレート)=1’−(ジメ
チルホスホナト)エラー2′−イル」−1,2−ジアゾ
リジン10.99.64%を得た。
n、m、r、(300Mllz、 CD CQ3):δ
0.96(t。
J=7.5.3)、1.45(s、9)、1.62−1
゜75(m、2)、 3.83(d、J = I 2.
6)、 4.、l 2(t、J=7.5.2)、3.0
8−5.10(m、8)。
i、r、(CHC+23): 3019,3000.2
970゜1729.1709,1270.1257’、
If65、+057,1041cr’。
製造例 15 1−(ジメチルホスホネート)−1−(
メチルスルホネート)エチレン 窒素雰囲気中1.ベンゼン(50mC)、酢酸(15m
l)、パラホルムアルデヒド(0,99g、0.033
 mof2)およびピロリジン(0,234g10.0
033moρ)を混合し、混合物を25分間加熱還流さ
せた後、0℃に冷却した。■−(ジメチルホスホネート
)−1−(メチルスルホネート)メタン(5g10.0
25mo12)を加え、溶液をまず10分間加熱還流さ
せ、次いで装置にディーンースターク・トラップを設置
して25分間加熱還流させた。トルエンを加え、溶液を
減圧濃縮した後、トルエンを加え、再度減圧濃縮して、
1−(ジメチルホスホネート)−1−(メチルスルホネ
ート)エチレンを得た。n、m、r、(90MHz、 
CD Cf2+): δ3.08(s、3);  3.
80(d、+3.J = I 3);  6.80(d
、 l 。
J=18); 7.00(d、1.J=36)。
製造例 16 4−(R,’5)−(t−ブトキシカル
ボニルアミノ)−3−オキソ−1−[1’−(ジメチル
ホスホネート)−1’−(メチルスルホネート)エタン
−2゛−イル]−1.2−ジアゾリジン窒素雰囲気中、
4−(R,5)−(t−ブトキシカルボニルアミノ)−
3−才キソー1.2−ジアゾリジン(4,5g、  2
2.4mmoR)をメタノール(40mf2)に、加熱
しながら溶解した後、溶液を0℃に冷却した。!−(ジ
メチルホスホネート)−i(メチルスルホネート)エチ
レン(25mmof2)を加え、溶液を0℃で1時間お
よび室温で1時間50分撹拌後、濾過した。濾取した固
体をメタノールで洗い、室温で一晩減圧乾燥して、4−
(R,5)−(t−ブトキシカルボニルアミノ)−3−
オキソ−1−0’=(ジメチルホスホネート)−1’−
(メチルスルホネート)エタン−2°−イル]−1,2
−ジアゾリジン3.25gを得た。n、m、r、(30
0MIIz、 DMS O−d、) : δ1.40(
s、9)+  2.80−3.00(m。
1); 3.10−3.66(m、3); 3.20(
s、3);3、G G−3,80(m、6); 4.2
0−4.54(n+。
2); 7.20(br、d、 l 、J = 12)
; 9.70(br、d。
1、J=6); i、r、(KI3r)+ 3310.
 3190゜1710、  +696. 1525. 
1232. 1165、 1142. 1052. 1
043cm″″l;  f、d。
m、s、(m/e) M”=415 、 215(M 
−200)、201(M−215):m、p、141−
143°C;元素分析(C+JI*5N30sS+P+
として)理論値:  C,37,59,tl、6.31
.  N、10.12゜実測値:  C,37,85,
1−1,6,30,N、 9.99゜製造例 +7 2
−(アリルカルボキシレート)−3−(メチルスルホネ
ート)−7−(r(,5)−(を−ブトキシカルボニル
アミノ)−8−オキソ−1゜5−ジアザビシクロ[3,
3,0]オクテン(2)窒素雰囲気中、4−(R,5)
−(t−ブトキシカルボニルアミノ)−3−オキソ−1
−[ビー(ジメチルホスホネート)−1’−(メチルス
ルホネート)エタン−2′−イル]−1,2−ジアゾリ
ジン(2゜75g、 6.6mmo()を塩化メチレン
(150mC)中でスラリーとし、得られたスラリーを
0℃に冷却した。アリルオキザレート酸クロリド(0,
98g。
6 、 G mmo(りを、追加の塩化メチレンと共に
溶液に濯ぎ入れた後、ビス(イソプロピル)エチルアミ
ン(1,71g、  I 3,2mmof2.2.3n
+&)を加え、混合物を0℃で30分間および室温で3
.25時間撹拌した。溶液を水で洗い、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、濾過し、濃縮して、黄色油状物3.89g
を得た。この油状物を、同様の方法によって先に得られ
た粗生成物と合し、ンリカゲルを用いたフラッシュクロ
マトグラフィーに付し、25%ヘキサン/75%酢酸エ
チルで溶出して、2−(アリルカルボキシレート)−3
−(メチルスルホネート)−7−(1,5)−(t−ブ
トキシカルボニルアミノ)−8−オキソ−1,5−ジア
ザビシクロ[3,3゜0]オクテン(2)1.87gを
得た。n、m、r、(90MHz。
CD C123): δ1.44(s、9); 2.9
4(dd、l、J−11および11); 3.10(s
、3); 3.86−4.90(m、4); 3.97
,4.49(ABq、2.J=l 2.5);  4.
96−5.18(br、d、l、J=5); 5.18
−5.54(m、2); 5.68−6.18(m。
1); i、r、(CIrCQ、s): 3021. 
 l 741. 1717、  I 326.  l 
l 42cm”−’: r、d、m、s、(m/e):
M”=401 : u、v、(EtOI−[): λm
ax= 329 (ε=6037); m、p、80°
C; 元素分析(C+aLI !3N 30)S、とじて)理
論値:  C,47,87,H,5,78,N、10.
47゜実測値:  C,47,75,H,5,74: 
 N、lQ、55゜実施例 l 2−(アリルカルボキ
シレート)−3−(メチルスルホニル)−7−(R,S
)−アミノ−8−オキソ−1,5−ジアザビシクロ(3
,3゜0〕オクタ−2−エン塩酸塩 窒素雰囲気下、2−(アリルカルボキシレート)−3−
(メチルスルボニル)−7−(R,5)−(t−ブトキ
シカルボニルアミノ)−8−オキソ−1,5−ジアザビ
シクロ(3,3,0)オフクー2−エン(1,54g、
4.43ミリモル)を、濃度3Nの無水塩化水素(50
1のを含有する冷水酢酸溶液と混合し、混合物を室温で
溶液状になるまで(2分間)撹拌した後、減圧下に蒸発
乾固した。塩化メチレン(7×)と共沸蒸留することに
よって残留物中の揮発物を除去し、次いて室温で2.5
時間真空乾燥し、得られた残留物3.5gを再び塩化メ
チレンに溶解し、2回真空乾燥することにより、2−(
アリルカルボキシレート)−3−(メチルスルホニル)
−7−(11,9)−アミノ−8−オキソ−1,5−ジ
アザビシクロ(3,3,0)オクタ−2−エン塩酸塩を
得た。
実施例 22−(アリルカルボキシレート)−3−(メ
チルスルホニル)−7−(R,S)−(2−(2−アリ
ルオキシカルボニルアミノチアゾール−4−イル)−2
−(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕−8−オキソ
−1,5−ジアザビシクロ〔3゜3.0〕オクタ−2−
エン 窒素雰囲気下、2−〔2″−(アリルオキシカルボニル
アミノ)チアゾール−4゛−イル)−2−(Z)−メト
キシイミノ酢酸(2,7g、9,5ミリモル)を塩化メ
チレン(100uQ)に懸濁し、懸濁液を0℃に冷却し
た。2−クロロ−4,6−シメトキシー1.3.5−ト
リアジン(1,7g、9.5ミリモル)、次いでN−メ
チルモルホリン(1,(lo2. 9.5ミリモル)を
加え、得られた混合物を0℃で45分間撹拌した。2−
(アリルカルボキシレート)−3−(メチルスルホニル
)−7−(R,S)−アミノ−8−オキソ−1,5−ジ
アザビシクロ[:3..3゜0〕オククー2−エン塩酸
塩(3,2g、9.5ミリモル)を加え、更にN−メチ
ルモルホリン(1,0mQ、9.5ミリモル)を追加し
た。得られた混合物を、撹拌下、0°Cから室温まで一
夜かけて徐々に温め、次いで、減圧下に濃縮乾固した。
得られた残留物を、濃度0.INの塩酸を含有する酢酸
エチル溶液に溶かした。層に分かれた有機層を飽和炭酸
水素ナトリウム溶液、および飽和塩化ナトリウム水溶液
で洗浄した後、硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、濾過
して蒸発乾固した。残留物を酢酸エチルで溶離するシリ
カゲルフラッシュクロマトグラフィーにかけて、2−(
アリルカルボキシレート)−3−(メチルスルホニル)
−7−(R,S)−[2−(2−アリルオキシカルボニ
ルアミノチアゾール−4−イル)−2−(Z)−メトキ
シイミノアセトアミド]−8−オキソ−1,5−ジアザ
ビシクロ[3,3,O]オクタ−2−エン1.27g(
23゜5%収率)を得た: n、m、r、(300Ml
lz、DMS O−d、) : δ 3.26(s、3
);3.20−3.30(m。
1);3.80−3.96(m、I);3.90(s、
3);4゜23および4.42(AI(q、2.J=+
 2):4.60−4.92(m、4);5.04−5
.20(m、 I):5.20−5.54(m、4);
5.8 G−6,0(i(m、2)ニア。
43(s、1);9.31(d、l、J=6);l 2
.20(s。
1);i、r、((jlcl、);3240,3019
,1748.1732,1704,1554,1423
,1321 、 l l 44 cm−’; f、d、
m、s、(m/e);Fvl”+ l −5G 9 ;
u、v、 (EtOH)λmax=206(ε=220
59)、264(ε=13351)。
元素分析(C2、Hz−NaOeS2として)理論値:
C,44゜36; H,4,25,N、14.78実測
値:C,44,56; H,4,25,N、IL50゜
実施例 32−(カルボン酸)−3−(メチルスルホニ
ル)−7−(R,S)−[2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)−2−(Z)−メトキシイミノアセトアミ
ド]−8−オキソ−1,5−ジアザビシクロ[3,3,
0]オクタン−2−エン窒素雰囲気下、酢酸パラジウム
II(54mg、0゜24ミリモル)をアセトン(13
mf2)に溶力化、次いで、トリフェニルホスフィン(
316mg、  1.2ミリモル)を加えた。得られた
懸濁液を室温で30分間撹拌した。2−(アリルカルボ
キシレート)−3−(メチルスルホニル)−7−(R,
S)−[2−(2−アリルオキシカルボニルアミノ)チ
アゾール−4−イル)−2−(Z)−メトキシイミノア
セトアミド]−8−オキソ−1,5−ジアザビシクロ[
3,3,0]オクタ−2−エン(1,23g、  2.
17ミリモル)をアセトン(85mC)に溶かし、上記
懸濁液に加えた。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温で
40分間撹拌した後、−10℃で10分間冷却した。水
素化トリ(n−ブチル)錫(1,26g、4.34ミリ
モル、1.17m12)を加え、得られた懸濁液を一1
0°Cで75分間、次いで、室温で1.75時間撹拌し
た。この1.75時間の工程の間に、ジエチルエーテル
(40m12)を@濁液に添加した。懸濁液を一10℃
に冷却し、IN塩酸(4,34mρ、2ミリモル)を加
えた。この懸濁液を−lO℃で10分間、次いで、室温
で10分間撹拌した。
析出した黄色の沈澱をセライトパッド(Celiteo
pad)を用いてj・!取した。集めた固形物質を水(
400mので洗浄し、洗液をアセトン濾液に加えた。
得られた、濁った黄色溶液をセライトパッドで濾過し、
濾液をヘキサン(4x 150mC)で抽出した。
濾液を、セライト0のパッドを用いて再度濾過した後、
3/4容量に減圧濃縮した。この濾液を再度セライト0
パツドで濾過した後、ジエチルエーテル(2X 200
mC)で洗浄した。濾液を減圧濃縮し、凍結乾燥するこ
とにより、固型物1.0gを得た。この固型物のI 1
W((I OOmg)を、シリカゲルカラムによる中圧
液体クロマトグラフィーにかけ、5%メタノール10.
5%酢酸/水で溶離し、表題の生成物30mgを得た。
固型物の残余部分を、シリカゲルカラム(直145mm
X長さ12インチ)による中圧液体クロマトグラフィー
にかけ、2%メタノール10.5%酢酸/水で溶離し、
2−(カルボン酸)−3−Cメチルスルホニル)−7−
(R。
S)−[2−(2−アミノデアゾール−4−イル)−2
−(Z)−メトキシイミノアセトアミド]−8−オキソ
−1,5−ジアザビシクロ[3、3、0]]オクター2
−エを得た: n、m、r、(300Ml−1z、DM
So−d、):3.00−3.26(m、 I);3.
22(s。
3):3.70−4.04(m、l);3.84(s、
3);4゜12および4.34(AI3q、2.J=1
2)、4.94−5.10(m、l)+6.94(s、
I)ニア、24(br、s。
2)、9.18(d、I、J=9):i、r、(KI3
r):3340(br)、+ 721.1644,15
34,1403゜1304、I 134,1047cm
−’;u、v、 t、EtOH):λmax=232(
εmax= 14681)、303(εmax= l 
I 495 );f、a、b、m、s、 (m/e):
M”+ 1−445;m、p、>200℃。
求廊fl  ± 2−(カルボン酸)−3−(メチルス
ルホニル)−7−(S)−[2−(2−アミノデアゾー
ル−4−イル)−2−(Z)−メトキシイミノアセトア
ミドコ−8−オキソ−1,5−ジアザビシクロ[3,3
,O]オクタ−2−エン 原料製造の段階で4−(S)−ジアゾリジノンを用いる
ことを除き、実施例1.2および3と同様にして表題の
生成物を合成した。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、R_1は式: −COOR_1_4 (式中、R_1_4は水素、有機あるいは無機カチオン
    、カルボキシ保護基、または非毒性かつ代謝的に不安定
    なエステルを形成する基である) で示される基であり、R_2は、式: −SO_2−R_7 (式中、R_7はC_1〜C_6アルキルである)で示
    される基であり、R_3およびR_4は水素であり、R
    _5およびR_8は、共に水素であるか、または一方が
    水素で、他方が式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_2_4は2−保護または非保護アミノチア
    ゾール−4−イル、R_2_6は飽和または不飽和C_
    1〜C_6アルキルを意味する) で示される基である] で示される化合物、またはその薬学的に許容しうる塩。
  2. (2)7−NR_5R_6基の立体配置がSである、第
    (1)項に記載の化合物。
  3. (3)2−(カルボン酸)−3−メチルスルホニル−7
    −[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(
    Z)−メトキシイミノアセトアミド]−8−オキソ−1
    ,5−ジアザビシクロ[3.3.0]オクテン(2)で
    ある第(1)項記載の化合物。
  4. (4)1またはそれ以上の薬学的に許容しうる担体と組
    み合わせて、第(1)項〜第(3)項のいずれかに記載
    の化合物を活性成分として含有する医薬製剤。
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