JPS63110780A - ガスレ−ザ発振装置 - Google Patents

ガスレ−ザ発振装置

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JPS63110780A
JPS63110780A JP25745386A JP25745386A JPS63110780A JP S63110780 A JPS63110780 A JP S63110780A JP 25745386 A JP25745386 A JP 25745386A JP 25745386 A JP25745386 A JP 25745386A JP S63110780 A JPS63110780 A JP S63110780A
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JP
Japan
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main discharge
laser
discharge electrodes
equivalent circuit
gas laser
Prior art date
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Pending
Application number
JP25745386A
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English (en)
Inventor
Shigeyuki Takagi
茂行 高木
Saburo Sato
三郎 佐藤
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Publication of JPS63110780A publication Critical patent/JPS63110780A/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/0971Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、パルスレーザを出力するエキシマレーザ装置
等のガスレーザ発振装置に関する。
(従来の技術) 第6図は従来のエキシマレーザ発振装置の構成図であっ
て、レーザ管1の内部にはガスレーザ媒質例えばXe/
HCノ/ N eやXe/HCJ/Heの混合ガスが大
気圧以上で封入されている。
そして、このレーザ管1の内部には互いに対向して対を
成す主放電電極2a、2bが設けられるとともにこれら
主放電電極2a、2bに波形整形の為のピーキングコン
デンサ3.4を介してピン電極5.6が接続されている
。そこで、高圧電源7からギャップスイッチやサイラト
ロン等のスイッチ装置8を通して主放電電極23,2b
間にパルス電圧が印加されると、第7図に示すように約
100nsec期間に電流が各ピーキングコンデンサ3
.4を通して各ピン電極5.6に流れてピン電極5゜6
間を放電させる。これにより、主放電電極2 a s2
b間が予備電離される。このとき、各ピーキングコンデ
ンサ3.4は負方向に充電され、これが十分な充電電圧
になされると、主放電電極2 a s2b間で主放電が
発生して大電流が流れる。これによって、レーザ管1内
にエキシマが生成され、このエキシマが解離するときに
発生する光エネルギがパルスレーザとして出力される。
なお、パルスレーザ波形は第7図に示す電流波形より少
し遅れて立ち上がり、パルスレーザのパルス幅は電流の
パルス幅とほぼ同じである。
ところで、電流の流れる期間(以下、電流パルス幅と指
称する)はピーキングコンデンサ3,4、レーザ管1内
における浮遊インダククタンス12および放電部におけ
るインピーダンスZによって決定されるが、エキシマレ
ーザの場合は放電部のインピーダンスZが1Ω以下と比
較的小さいためにピーキングコンデンサ3.4とレーザ
管1内における浮遊インダククタンスI!2とによって
決まる。通常、ピーキングコンデンサ3.4の値Cは3
0 nFであり、浮遊インダンタンス12は3  nH
である。従って、電流パルス幅では、 τ−πJτ−「71− から30nsccとなり、短パルス幅のパルスレーザと
なる。ところで、エキシマレーザは発振波長が紫外線領
域であって半導体製造プロセスにおけるレーザ誘導化学
反応等に好適であって、その応用が十分期待されている
。ところが、パルスレーザのパルス幅が上記の如< 3
0nsecとう短パルス幅では、レーザ誘起化学反応が
間欠的処理となってしまい各種処理を連続的にスムーズ
に進行できないという問題がある。
(発明が解決しようとする問題点) 以上のようにパルスレーザのパルス幅が短(レーザ誘起
化学反応等の各種処理を連続的に行うことができなかっ
た。
そこで本発明は、パルス幅を長くできるガスレーザ発振
装置を提供することを目的とする。
(問題点を解決するための手段) 本発明は、レーザ管内にピーキングコンデンサ等を通し
て主放電電極間に往復電流を流す電気的等価回路を形成
して上記目的を達成しようとするガスレーザ発振装置で
ある。
(作用) このような電気的等価回路が形成されると、主放電電極
間に往復7d流が流れて電流パルス幅が長<なり、これ
に従ってパルスレーザのパルス幅が長くなる。
(実施例) 以下、本発明の第1実施例について図面を参照して説明
する。
第1図は本発明のガスレーザ発振装置を適用したエキシ
マレーザ装置の構成図である。レーザ管10内にはガス
レーザ媒質例えばXe/HCj?/NeやXe/HCJ
/Heの混合ガスが大気圧以上で封入され、かつ第2図
に示す如く互いに対向して対を成す主放電電極11a、
11bが設けられている。そして、各主放電電極11a
、llbにはそれぞれ共振用インダクタンスL a %
 L b −。
電流波形整形の為のピーキングコンデンサ12.13を
介してピン電極14.15が接続されている。さて、各
共振用インダクタンスLa、Lbはレーザ管10内にお
ける電気的等価回路を振動させるためのものでその値に
次のようにして決定される。第3図はレーザ管10内の
各ピーキングコンデンサ12.13、共振用インダクタ
ンスLa。
Lb、各ピン電極14.15および主放電電極11a、
llbにより形成される電気的等価回路を示している。
つまり、Caはピーキングコンデンサ12.13の容Q
、Lgは共振用インダクタンス値、I!gは浮遊インダ
クタンス値であり、rは電気的等価回路上の抵抗値、Z
は放電時にほぼ純抵抗成分のみとになる放電部のインピ
ーダンスである。ここで、上記各値において Lg十ノg =Lt r+Z=R として第3図に示す等価回路の振動条件を求めると、 4 X (L t / Ca ) > R2−(1)と
なる。また、振動の減衰量αは、 α−R/2xLt             ・・・(
2)となる。そこで、ピーキングコンデンサ12.13
の容QCaはエキシマレーザでは例えば3゜nFであり
、浮遊インダクタンス値、!?gは3.1nHであり、
回路上の抵抗値rは0.2Ω、放電部のインピーダンス
Zoはガスレーザ媒質の組成によって異なるがここでは
組成を HCI! / X c / Hc −3,5/80   /2000 f’orr   f’orr    forrとして0
.7Ωとすると、R−0,9Ωとなる。これら8値を上
記第(1)式に代入することによりインダクタンスLt
は、 Lt =6.l  nH となって共振用インダクタンス値Lgは8.1−3.1
 =3.0  nH以上であればよいことが分がる。
従って、共振用インダクタンス値Lgはこの値より少し
高めの4nHと設定する。
さらに構成の続きを説明すると、各主放電電極11a、
llbにはギャップスイッチやサイラトロン等のスイッ
チ装置16を介して20〜50 kVの出力電圧を持つ
高圧電源17が接続されている。
次に上記の如く構成された装置の作用について説明する
。高圧電源17からスイッチ装置16を通して各主放電
電極11a、llb間にパルス電圧が印加されると、第
4図に示すように電流が各共振用インダクタンスLa、
Lbがらピーキングコンデンサ12.13を通して各ピ
ン電極14.15に流れて各ピン電極14.15間を放
電させる。これにより、主放電電極11a、llb間が
予備電離される。そうして、各ピーキングコンデンサ1
2.13が負方向で十分充電されると、主放電電極11
a、llb間に主放電が発生して大電流が流れる。これ
によって、放電部でエキシマが生成され、このエキシマ
が解離するときに発生するエネルギがパルスレーザとし
て出力される。
ところが、レーザ管lo内の電気的等価回路は上記説明
の如く振動条件を満足する値の共振用インダクタンスL
a5Lbが接続されているために前記放電によって消費
できなかった電気エネルギは再び各ピーキングコンデン
サ12.13に充電される。なお、このときの充電方向
は放電時における電流の流れ方向によって決まるので前
回の充電とは逆方向となる。従って、主放電電極11a
111bは第4図に示す如く正方向の電圧が加わる。
そして、各ピーキングコンデンサ12.13に充電され
た電荷が、今度はピン電極14.15から主放電電極1
1b、lla、さらに共振用インダクタンスLa5Lb
に流れて2回目の放電が発生する。つまり、主放電電極
11a、llb間には往復電流が流れて2回の放電が連
続して発生し、この結果パルスレーザのパルス幅は75
nsecとなる。
このように上記第1実施例においては、ピーキングコン
デンサ12.13に共振用インダクタンスLa、Lbを
接続してレーザ管10内の電気的等価回路を振動条件を
満足するように構成したので、主放電電極11a、ll
b間に往復電流が流れて2回連続してパルスレーザが出
力される。従って、パルス幅の長いパルスレーザを出力
することができ、半導体製造プロセスにおけるレーザ誘
起化学反応等を連続してスムーズに進行できる。
なお、往復電流を得るのでなくただ単にインダクタンス
を接続してパルス幅を長くしようとすると、そのインダ
クタンス値は非常に大きくなる。
例えば、上記実施例の条件でパルス幅80nsecを得
ようとすると、ピーキングコンデンサ値を30 nFと
して上記式 %式% から総インダンタンスLtの値は22 nHとなる。
すなわち、浮遊インダクタンス3.i n Hに、共振
用インダクタンスLg  (1g、9 nH)を付加す
る必要がある。このようにインダクタンス成分Ltが2
2 nHと大きくなると主放電電極11a、llb間に
流れる電流の立ち上がりが遅くなってパルスレーザの発
振効率が2分の1がら3分の1に低下してしまう。
次に本発明の第2実施例について説明する。
ところで、」二記第(1)式からレーザ管1o内の電気
的等価回路の振動条件を満足する構成とするためには放
電部のインピーダンスZを小さくすることが考えられる
。そこで、ガスレーザ媒質の組成する各ガス量を変える
ことが行なわれる。つまり、HCi/ Xc −3、”
’ / 80 r o r rをHc2000   で
希釈したときインピーダンスZorr は0.7Ωであるが、 M CI! / X c −3,5/ 80ror。
をN e 2000r。、、で希釈すればインピーダン
スZは0.4Ωとなる。従って、ガスレーザ媒質をイン
ピーダンスの低い組成とすることによりインダクタンス
成分Ltは上記第(1)式から Lt >2.7  nH となり浮遊インダクタンス1gのみで振動条件が満足さ
れるようになる。この結果、上記如くインピーダンスZ
の小さなガスレーザ媒質の組成とすれば少なくとも主放
電電極間に往復電流が流れてパルスレーザのパルス幅を
長くできる。
なお、インダクタンス成分Ltを一定とした場合、イン
ピーダンスZを小さくすることによりパルスレーザの2
回目のピーク値を大きくすることができる。つまり、イ
ンダクタンス成分Ltを7nHとしてインピーダンスZ
を0.7Ωとした場合減衰量αは上記第(1)式から α−0,4X107   (1/s) となり、またインダクタンス成分Ltを7  nHとし
てインピーダンスZを0.4Ωとした場合減衰量αは、 a−4,3X107   (1/s) となる。従って、インピーダンスZが0.7Ωのとき l  /  a  −15nsec に1 / eの割合いで電流のピーク値が減少し、イン
ピーダンスZが0.4Ωのとき 1/α厘23nsec に1/eの割合いで電流のピーク値が減少することにな
る。かくして、インピーダンスZが0.7から0.4Ω
への変化では2回口のヒータが発生するまでの時間はほ
ぼ同一となるのでインピーダンスZが0.4Ωの方が電
流ピーク値が大きくなる。なお、第5図はインピーダン
スZの値を小さくした場合の各波形を示しており、ガス
レーザ媒質は、希釈ガスをNelOO%とし、Xeガス
量を80「。rrから40rorrへ変え、インピーダ
ンスZoをZ < 0.35 している。
なお、本発明は上記各実施例に限定されるものでなくそ
の主旨を逸脱しない範囲で変形してもよい。例えば、レ
ーザ管内の電気的等価回路の振動条件を満足するために
ピン電極の径を細くしたり、あるいは全長を長くしたり
して浮遊インダクタンスl!gを増加してインダクタン
ス成分Ltを7nHとしてもよい。また、電気的等価回
路での振動を1隻数回にすれば、レーザパルスのパルス
幅がより長くてきる。
[発明の効果] 以−1二詳記したように本発明によれば、パルス幅を長
くできるガスレーザ発振装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1実施例を示す構成図、第3図は第1図に示す装置に
おけるレーザ管内の電気的等価回路の模式図、第4図は
第1図に示す装置のパルスレーザ発振作用を示すタイミ
ング図、第5図は本発明装置の第2実施例の作用を説明
するための図、第6図および第7図は従来装置を説明す
るための図である。 10・・・レーザ管、lla、llb・・・主放電電極
、12.13・・・ピーキングコンデンサ、14.15
・・・ピン電極、16・・・スイッチ装置、17・・・
高圧電源。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第20 第3図 第 4 図 第50 第6図 第7図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ガスレーザ媒質が封入されかつピーキングコンデ
    ンサが接続された対を成す主放電電極を内設したレーザ
    管と、前記主放電電極に前記ピーキングコンデンサを通
    してパルス電圧を印加して放電させる放電回路をもった
    ガスレーザ発振装置において、前記放電回路は前記主放
    電電極間に往復電流を流す電気的等価回路を備えている
    ことを特徴とするガスレーザ発振装置。
  2. (2)電気的等価回路はピーキングコンデンサに共振用
    インダクタンスを付加した特許請求の範囲第(1)項記
    載のガスレーザ発振装置。
  3. (3)電気的等価回路はインピーダンスを低下させるガ
    スレーザ媒質組成とする特許請求の範囲第(1)項記載
    のガスレーザ発振装置。
JP25745386A 1986-10-29 1986-10-29 ガスレ−ザ発振装置 Pending JPS63110780A (ja)

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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0446072A2 (en) * 1990-03-08 1991-09-11 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Laser apparatus with preionization
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