JPS6310521A - 真空処理室 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は真空処理室に係り、特番こ半導体製造装置等の
ドライエツチング装５１４こ好適な真空処理室に関する
ものである。

〔従来の技術〕

従来の装置は、特開昭５９−９４４３５号に記載のよう
に、真空室と、真空室内の処理室と、アーム等の搬送機
構の待避した空間を避けて真空室の増を上下から挾む方
式の仕切弁によって形成される予備室の構成になってい
た。しかしウェハの大口径化による仕切弁の構成要素の
小型化および、搬送系の制御性の点について配慮されて
いなかった。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記従来技術は、ウェハの大口径化による仕切弁のＪｆ
ｔ成要素の小型化および、ｑ１送系の制御性の点につい
て配慮がされておらず、ウェハの大口径に伴ない予備室
と真空室とを継な（゛開口が太き（なり、予備室を大気
圧にシー４した時に開口を仕切る仕切弁が大きな圧力を
受け、それに伴って仕切弁を支持する駆動系を大型化さ
せなければならないという問題があった。また、ウェハ
の搬送機構のアームの停止位置が多（、搬送系の制御が
複推化するという問題があった。

本発明の目的は、予備室とぼ空室との仕切機構を簡単で
小型化するとともに、試料の搬送系の制＠１．−Ｂ単に
して、真空処理室の保守性、制御性を向上させることの
できる真空処理室を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的は、所定圧力に減圧排気される真空室と、該真
空室内で上下移動可能に設けられ前記真空室内の空間を
仕切る仕切弁と、該仕切弁により形成される処理室と、
前記真空室に設けられ前記処理室内にアーム先端を移動
可能で試料を搬送する第１の搬送装置と、該ｍｌの搬送
装置のアーム待避位ｌ上部にｊ）＃１０を有して設けら
れ真空またはリーグ可能な予備室と、該予備室）こ上下
動可能に設けられ前記開口を前記予備室側から仕切る仕
切弁と、前記第１の搬送装置のアーム待避位置下部に設
けられ前記試料を前記予備室と前δＣ真空室との間で受
は渡しする第１の押上装置と、前記予備室に設けられ＠
記真空室に継ながる開口部にアーム先端を移動可能で前
記試料を搬送する＠２の撤退装置と、該第２の搬送装置
のアーム待避位置上部の前記予備室に設けた開口を大気
側から仕切るフタと、前記９５２の搬送装置のアーム待
避位置下部に設けられ前記試料１大気側と前記予備室と
の間で受は渡しする第２の押上装ことで構成することに
より達成される。

〔作　　用〕

大気と予備室との仕切弁は大気側Ｅこ設けてあり、また
予備室と真空室との仕切弁は予備室側に設けてあり、予
備室を減圧した場合および予備室を大気開放した場合に
、大気側の仕切弁および予備室側の仕切弁は逆圧を受け
ることがなく、仕切弁の駆動系が小さくなる。また、真
空室のアームの待避位置上を予備室と真空室との試料の
受は渡し位置すなわち仕切弁の位置とし、また予備室の
アームの待避位置上を大気と予備室との試料の受は渡し
位置すなわち仕切弁の位置とすることによって、各アー
ムの停止位置は、２位置となるので、制御および機構が
簡単になる。

〔実　施　例〕

以下、本発明の一実施例を図により説明する。

図は、例えば平行平板式の枚葉式ドライエツチング装置
を示す。

真空室ｌ内をこは、リング状の仕切弁２が設けられ、仕
切弁２の上下駆動装ｒｉＬ４により仕切弁２が上昇して
処理室３が形成され、処理室３は真空室ｌと仕切られる
。

処理室３には、図示しないガス供給装置よりガスが導入
される上部＊極５と、ウェハ６が載置される電極７が設
けである。電極７には、ウェハ６の受は渡しのためのウ
ェハ受番１８およびその上下駆動装Ｍ９が設けられてい
る。また、処理室３は、電極７の下方より、排気装！１
０により真空排気される。

真空室１＋こは、ロード側のアーム１３を取り付けたア
ーム旋回駆動装置１１と、アンロード側のアーム１４を
取り付けたアーム旋回駆動装置１１２が設けられると共
に、各アームの待避位置の下方にウェハ受け１７および
１８を取り付けた上下駆動装置１ｉ１５および１６が設
けられている。

ロード側およびアンロード側のアーム１３および１４の
待避位置の上方には、真空室！に開けられた開口の外側
に設けた仕切弁１９および美により、真空室ｌと仕切ら
れるロード側の予備室２１と、アンロード側の予備室ｎ
が設けられている。仕切弁１９および美は、上下駆動装
置コおよび冴に取り付けられ、ロード側の予備室２１お
よびアンロード側の予備室乙に増付けられる。

ロード側およびアンロード側の予備室２１およびｎには
、ロード側のアーム２７を取り付けたアーム旋回駆動装
置５とアンロード側のアーム２８ｆ：取り付けたアーム
旋回駆動装ｇ！Ｌ２６が設けられる。アームｎおよび囚
の待避位置の下方には、ウェハ受３１および！を取り付
けた上下駆動装ｒｊ１２９および父が設けられる。一方
その上方には、大気と予備室２１およびｎとを仕切るフ
タ莫およびあが、予備室４およびｎに開けられた開口の
外側に設けられている。また、各予備室２１および乙に
は大気開放のためのリーク装置３５およびＩと、真空排
気のための排気装５！πおよび羽が設けられている。

上記構成により、予備室■は仕切弁１９４こより真空室
１と仕切られ、リーク装置あにより大気にもどされて、
フタあの上昇によって大気開放される。

次に、図示しない搬送装置によりロード側のカセット等
からウェハ６が予備室２１の開口上に搬送され、このウ
ェハ６をウェハ受け３１が上昇して受は取り、次にウェ
ハ受３１が下降して、予備室乙内のアーム待避位置に移
動したアームｎの上に載置する。次にフタ（を閉じ、排
気装置ごてロード側の予備室ガな真空排気した後に仕切
弁１９を開放し、その開放した位置にアームＴを旋回さ
せて、アーム１３の待避位置の上方にもっていき、ウェ
ハ受け１７を上昇させ、ウェハ６をアームｎから浮かし
、アーム刀な待避位置にもどし、その後、ウェハ受け１
７も下降させて、アーム１３上にウェハ６を載置する。

次に、仕切弁２を下降させ、真菟室ｌと処理室３を連通
させ、アーム１３を旋回させて、電極７０ｆ＆載面上に
ウェハ６を搬送する。次蕃こウェハ受け８を上昇させ、
ウェハ６をアーム１３から浮かし、アーム１３’ｌ待避
位置に６どした後、ウェハ受け８〉下降°させて電極７
上薔こウェハ６１戦置する。

その後、仕切弁２を上昇させ、処理室３を形成して、ウ
ェハ６の処理を行なう。ウェハ６の処理中に上記搬送動
作もこより、アーム１３の待避位置まで次のウェハを搬
送し、アーム１３に載置しておく。

処理終了後、仕切弁２を下降させ、アンロード側のアー
ム１４を処理室３に旋回させ、ウェハ受け８によってア
ーム１４上にウェハ６を搭載させる。

一方、ロード側のアーム１３を処理室３に旋回させ、次
処理のウェハをＴＩＬ極７上にウメハ受け８によって載
置する。処理を終了し処理室３から搬出されたウェハ６
は前述の逆の動作により、アンロード側のカセットまで
搬送される。

以下同様の動作をくり返す。

以上本実施例によれば、仕切弁１９および美を予備室４
および２２（１ｉ１１＋に設けているので、予備室Ｚお
よびｎをリークして大気圧にした場合に、仕切弁１９お
よびＩは大気圧力を受けて、開口部に押し付けられるの
で、仕切弁１９およびＩの上下駆動装置ｎおよびスは仕
切弁１９および囚を動かすだけの力で済み、上下駆動装
置幻および冴を小型、簡素化できるという効果がある。

また、フタおおよびあも圧力が高４なる側に設けである
ので上記と同様の効果がある。

また、アーム１３および１４は、処理室ｌの電極７上と
、アームの待避位置である仕切弁１９およびＩの下との
２箇所で旋回停止するだけで、旋回途中での停止がない
ので、アーム旋回駆動装置１１および口の制御ならびに
機構が簡単になるという効果がある。また、アームｎお
よび田を旋回させるアーム旋回駆動装置３および謳につ
いても同様の効果がある。

これらにより、真空処理室の構成が簡単になり、また、
ウェハの搬送制御も簡単になって、保守性、制御性が向
上するという効果がある。

〔発明の効果〕

本発明によれば、予備室と真空室との仕切機構を簡単で
小型化できるとともに、試料の搬送系の制御を簡単にで
きるので、真空処理室の保守性、制御性を向上できると
いう効果がるる。

【図面の簡単な説明】

図は本発明の一実施例である真空処理室を示す縦断面図
である。 ｌ・・・・・・真空室、２・・・・・・仕切弁、３・・
・・・・処理室。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、所定圧力に減圧排気される真空室と、該真空室内で
   上下移動可能に設けられ前記真空室内の空間を仕切る仕
   切弁と、該仕切弁により形成される処理室と、前記真空
   室に設けられ前記処理室内にアーム先端を移動可能で試
   料を搬送する第１の搬送装置と、該第１の搬送装置のア
   ーム待避位置上部に開口を有して設けられ真空またはリ
   ーク可能な予備室と、該予備室に上下動可能に設けられ
   前記開口を前記予備室側から仕切る仕切弁と、前記第１
   の搬送装置のアーム待避位置下部に設けられ前記試料を
   前記真空室との間で受け渡しする第１の押上装置と、前
   記予備室に設けられ前記真空室に継ながる開口部にアー
   ム先端を移動可能で前記試料を搬送する第２の搬送装置
   と、該第２の搬送装置のアーム待避位置上部の前記予備
   室に設けた開口を大気側から仕切るフタと、前記第２の
   搬送装置のアーム待避位置下部に設けられ前記試料を大
   気側と前記予備室との間で受け渡しする第２の押上装置
   とから成ることを特徴とする真空処理室。