JPS63100061A - 透光性セラミツクスの製造方法 - Google Patents
透光性セラミツクスの製造方法Info
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- JPS63100061A JPS63100061A JP61246823A JP24682386A JPS63100061A JP S63100061 A JPS63100061 A JP S63100061A JP 61246823 A JP61246823 A JP 61246823A JP 24682386 A JP24682386 A JP 24682386A JP S63100061 A JPS63100061 A JP S63100061A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はジルコンチタン酸鉛中の鉛の一部をランタンで
置換した組成をもつ焼結体である透光性セラミックス（
明細書において単に、ＰＬＺＴと略号表示する場合もあ
る）の製造方法に関する。
置換した組成をもつ焼結体である透光性セラミックス（
明細書において単に、ＰＬＺＴと略号表示する場合もあ
る）の製造方法に関する。
（従来技術）
ＰＬＺＴ構成成分となる原料粉末を用いて透光性セラミ
ックスを製造する場合において、透光性をもたせるため
のもっとも重要な条件は、周知のように、セラミックス
の気孔率を小さく抑えることである。
ックスを製造する場合において、透光性をもたせるため
のもっとも重要な条件は、周知のように、セラミックス
の気孔率を小さく抑えることである。
この方法として従来、知られているものとしては、つぎ
の（ａ）〜（ｅ）に列挙するような方法が論文発表され
ている。
の（ａ）〜（ｅ）に列挙するような方法が論文発表され
ている。
Ｔａ）真空ホットプレス法；
ホットプレスの過程において減圧（〜１Ｏ−３Ｔｏｏｒ
）することにより、残留空孔を除去しようというもの。
）することにより、残留空孔を除去しようというもの。
〔和久茂他：第１９回応用物理連合講演会予稿集３ｌ−
Ｐ−Ｇ−２Ｐ２Ｓ５ （１９７２）〕 （ｂ）酸素雰囲気ホットプレス法； 予備成形した試料を型の中に入れ、試料の周辺をＡｈＯ
ｉ 、ＭｇＯ、Ｚｒ０ｚなどの粉末覆うもので、代表的
な条件は１．１５０℃、２１０ ｋｇ／−１１６ｈｒで
加圧中酸素を流すことにより、製品の気孔率の小さくし
ようというもの。
Ｐ−Ｇ−２Ｐ２Ｓ５ （１９７２）〕 （ｂ）酸素雰囲気ホットプレス法； 予備成形した試料を型の中に入れ、試料の周辺をＡｈＯ
ｉ 、ＭｇＯ、Ｚｒ０ｚなどの粉末覆うもので、代表的
な条件は１．１５０℃、２１０ ｋｇ／−１１６ｈｒで
加圧中酸素を流すことにより、製品の気孔率の小さくし
ようというもの。
〔ハートリングの論文（Ｇ −Ｈ−Ｈａｅｒｔｌｉｎ
ｇ ｅｔ ａｌ ： Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃｓ
３２６９ （１９７２） ）（Ｃ）アイソスタテック
ホットプレス法；その圧力媒体としてガラスを用い、加
圧は２，０００気圧、温度７００〜９００℃、２〜５０
時間の条件で処理して透光性セラミックスを得ようとい
うもの、〔石飛裕他：粉体粉末冶金協会、昭和４９年度
春季大会講演概要集ｐ１８９ （１９７４） ） （ｄ）２段焼成法； 焼結過程を２段階に分離し、前段で短時間真空ホットプ
レスし、後段で長時間雰囲気焼成する方法であって、真
空ホットプレス条件を１ 、２００℃、２００ｋｇ／ｃ
ｄ、ｌｈｒとし、雰囲気焼成条件をＰｂＺｒ０＝ ＋
ＰｂＯ雰囲気中、１ 、２５０℃、４０ｈｒとしたもの
であって、前段において気孔は粒界の液相酸化鉛中に集
まり、後段においては酸化鉛が菓発、消失すると同時に
気孔が消失するとするもの。〔岡崎清他：チタン酸バリ
ウム実用化研究会資料Ｘ Ｘ Ｉ［［−１３２−８７５
（１９７４） ）ｔｅｌ酸素雰囲気焼成法； ホットプレスを用いない唯一の方法であって、酸素気流
中、高いｐｂｏの蒸気圧のもとで１ 、２００℃、６０
ｈｒの長時間焼成を行うことにより透明ＰＬＺＴを得よ
うというもの。
ｇ ｅｔ ａｌ ： Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃｓ
３２６９ （１９７２） ）（Ｃ）アイソスタテック
ホットプレス法；その圧力媒体としてガラスを用い、加
圧は２，０００気圧、温度７００〜９００℃、２〜５０
時間の条件で処理して透光性セラミックスを得ようとい
うもの、〔石飛裕他：粉体粉末冶金協会、昭和４９年度
春季大会講演概要集ｐ１８９ （１９７４） ） （ｄ）２段焼成法； 焼結過程を２段階に分離し、前段で短時間真空ホットプ
レスし、後段で長時間雰囲気焼成する方法であって、真
空ホットプレス条件を１ 、２００℃、２００ｋｇ／ｃ
ｄ、ｌｈｒとし、雰囲気焼成条件をＰｂＺｒ０＝ ＋
ＰｂＯ雰囲気中、１ 、２５０℃、４０ｈｒとしたもの
であって、前段において気孔は粒界の液相酸化鉛中に集
まり、後段においては酸化鉛が菓発、消失すると同時に
気孔が消失するとするもの。〔岡崎清他：チタン酸バリ
ウム実用化研究会資料Ｘ Ｘ Ｉ［［−１３２−８７５
（１９７４） ）ｔｅｌ酸素雰囲気焼成法； ホットプレスを用いない唯一の方法であって、酸素気流
中、高いｐｂｏの蒸気圧のもとで１ 、２００℃、６０
ｈｒの長時間焼成を行うことにより透明ＰＬＺＴを得よ
うというもの。
但し、この方法によると、かなり大きな空孔が残留する
ことは避けられない。ＣＧ 。
ことは避けられない。ＣＧ 。
Ｓ 、 Ｓｎｏｗ ： Ｊ 、 Ａｍ、Ｃｅｒａｍ、
Ｓｏｃ 、、５６９１ （（発明が解決しようとする
問題点） しかしながら、上述の（ａｌ〜＋ｅｌに列挙した従来技
術を比較すると第１表のとおりである。
Ｓｏｃ 、、５６９１ （（発明が解決しようとする
問題点） しかしながら、上述の（ａｌ〜＋ｅｌに列挙した従来技
術を比較すると第１表のとおりである。
上記比較表から明らかなように、（ａ）の真空ホットプ
レス法、中）の酸素雰囲気ホットプレス及び（Ｃ）のア
イソスタテックホットプレス法による場合には、透光性
良好なＰＬＺＴが得られる反面、試料の大きさく得よう
とする製品の大きさ）が型によって制限されるし、雰囲
気を真空、酸素雰囲気等のコントロールするものく（ａ
）及び（ｂ）の方法）では装置上の制約が非常に多く、
（Ｃ）のものでも別に圧力媒体が必要となるので、装置
上非常に制約されるものであり、いずれの場合にも装置
的にみて不利となる。さらに、予備成形した試料から出
発するので焼成中の収縮などのコントロールのため、昇
温スケジュールや加圧スケジュール等が非常に難しくな
る欠点がある。
レス法、中）の酸素雰囲気ホットプレス及び（Ｃ）のア
イソスタテックホットプレス法による場合には、透光性
良好なＰＬＺＴが得られる反面、試料の大きさく得よう
とする製品の大きさ）が型によって制限されるし、雰囲
気を真空、酸素雰囲気等のコントロールするものく（ａ
）及び（ｂ）の方法）では装置上の制約が非常に多く、
（Ｃ）のものでも別に圧力媒体が必要となるので、装置
上非常に制約されるものであり、いずれの場合にも装置
的にみて不利となる。さらに、予備成形した試料から出
発するので焼成中の収縮などのコントロールのため、昇
温スケジュールや加圧スケジュール等が非常に難しくな
る欠点がある。
一方、（ｄｌの二段焼成法では優れた透光性セラミック
スが得られる反面、１段目のホットプレスが減圧ホント
プレスという装置上の制約があるうえ、２段目（アニー
リング）が雰囲気焼成であり、比較的長時間を要し、ｐ
ｂｏのコントロールが困難かつ粒径制御も困難で再現性
に乏しい欠点を有する。また、（ｅ）の酸素雰囲気焼成
法ではホットプレスを用いないので装置上の制約はない
が、透光性の良好な製品は得られず、また、長時間を要
し、かつ鉛を抜く工程（アニーリング工程）での再現性
に乏しいという欠点がある。
スが得られる反面、１段目のホットプレスが減圧ホント
プレスという装置上の制約があるうえ、２段目（アニー
リング）が雰囲気焼成であり、比較的長時間を要し、ｐ
ｂｏのコントロールが困難かつ粒径制御も困難で再現性
に乏しい欠点を有する。また、（ｅ）の酸素雰囲気焼成
法ではホットプレスを用いないので装置上の制約はない
が、透光性の良好な製品は得られず、また、長時間を要
し、かつ鉛を抜く工程（アニーリング工程）での再現性
に乏しいという欠点がある。
本発明は上述の従来技術の有する問題点にかんがみ、発
明されたものであって、透光性に優れ、製造時間の短縮
化が図れ、かつ製造装置面での制約も少なく、より簡便
能率的に高品質の透光性セラミックスを製造できる方法
を提供しようというものである。
明されたものであって、透光性に優れ、製造時間の短縮
化が図れ、かつ製造装置面での制約も少なく、より簡便
能率的に高品質の透光性セラミックスを製造できる方法
を提供しようというものである。
（問題点を解決するための手段）
以下、本発明の構成について説明する。
すなわち、本発明の構成要旨とするところは、ＰＬＺＴ
構成成分となる原料粉末を混合・仮焼したものを造粒し
、ついで、加圧成形したものを酸素気流中、ｐｂｏ雰囲
雰囲気−次焼成したのち、ホットプレス処理することを
特徴とする透光性セラミックスの製造方法、にある。
構成成分となる原料粉末を混合・仮焼したものを造粒し
、ついで、加圧成形したものを酸素気流中、ｐｂｏ雰囲
雰囲気−次焼成したのち、ホットプレス処理することを
特徴とする透光性セラミックスの製造方法、にある。
ここで、本発明において用いられるＰＬＺＴ構成成分と
なる原料粉末としては、化学組成式； Ｐ ｂ＋−ｘ
Ｌａ、、 （Ｚ ｒｖ Ｔ ｉ＋−ｙ ） ｖ ０３
となるように秤量混合した酸化物原料からなるＭＯ（Ｍ
ｉｘｅｄ ０ｗ１ｄｅ ）法の原料粉あるいは化学反応
で共沈させるＣ Ｐ （Ｃｈｅｍｉｃａｌｌｙ Ｐｒｅ
ｐａｒｅｄ）法による原料粉があるが、後者のＣＰ法に
よる原料粉のほうが雰囲気焼成時の密度を向上できる効
果があるのでより望ましい。
なる原料粉末としては、化学組成式； Ｐ ｂ＋−ｘ
Ｌａ、、 （Ｚ ｒｖ Ｔ ｉ＋−ｙ ） ｖ ０３
となるように秤量混合した酸化物原料からなるＭＯ（Ｍ
ｉｘｅｄ ０ｗ１ｄｅ ）法の原料粉あるいは化学反応
で共沈させるＣ Ｐ （Ｃｈｅｍｉｃａｌｌｙ Ｐｒｅ
ｐａｒｅｄ）法による原料粉があるが、後者のＣＰ法に
よる原料粉のほうが雰囲気焼成時の密度を向上できる効
果があるのでより望ましい。
また、混合・仮焼は均一度を向上させるために望ましく
は複数回（実用においては時間的能率を考慮して２回程
度）繰り返す。造粒については特に、限定しないが、適
量の水を添加したのち、６０メツシュ全通処理などに付
する。さらに、加圧成形は金型プレスで１５０〜１，５
００ ｋｇ／ｃｊ、好ましくはラバープレスで５００〜
２．０００ ｋｇ／ ｃｎＴ で成形する。なお、１
次焼成の雰囲気焼成は第１図に例示するようなルツボ中
で行う。
は複数回（実用においては時間的能率を考慮して２回程
度）繰り返す。造粒については特に、限定しないが、適
量の水を添加したのち、６０メツシュ全通処理などに付
する。さらに、加圧成形は金型プレスで１５０〜１，５
００ ｋｇ／ｃｊ、好ましくはラバープレスで５００〜
２．０００ ｋｇ／ ｃｎＴ で成形する。なお、１
次焼成の雰囲気焼成は第１図に例示するようなルツボ中
で行う。
同図について簡単に説明すると、符号ｌはマグネシア基
板、２はアルミナベソシャー、３は下蓋、４はアルミナ
ルツボ、５は上蓋、６は内アルミナルツボ、７は雰囲気
焼成粉、８は敷粉、９はＰＬＺＴ乾燥後供試体、１０は
ルツボ内に吹き込まれる０２ガスである。
板、２はアルミナベソシャー、３は下蓋、４はアルミナ
ルツボ、５は上蓋、６は内アルミナルツボ、７は雰囲気
焼成粉、８は敷粉、９はＰＬＺＴ乾燥後供試体、１０は
ルツボ内に吹き込まれる０２ガスである。
かくして、第１図のようなルツボでＰＬＺＴ乾燥後供試
体の１次焼成が行われるが、この際の焼成条件としては
通常、１．１００〜１ 、３００°Ｃ（好ましくは１，
１５０℃〜１ 、２５０℃）で１〜５０時間（好ましく
は４〜３０時間）焼成する。この焼成時にルツボに供給
する酸素の流入量は通常、０゜５〜５１ ／ｍｉｎ
（好ましくは１．０〜２．５１／ｍ１ｎ）とし、ＰｂＯ
雰囲気をコントロールするために原料中に過剰なＰｂＯ
量として１〜６ｍｏ１％添加し、かつ雰囲気焼成時とし
てｐｂｏ過剰なＰＬＺＴ粉を用いる。
体の１次焼成が行われるが、この際の焼成条件としては
通常、１．１００〜１ 、３００°Ｃ（好ましくは１，
１５０℃〜１ 、２５０℃）で１〜５０時間（好ましく
は４〜３０時間）焼成する。この焼成時にルツボに供給
する酸素の流入量は通常、０゜５〜５１ ／ｍｉｎ
（好ましくは１．０〜２．５１／ｍ１ｎ）とし、ＰｂＯ
雰囲気をコントロールするために原料中に過剰なＰｂＯ
量として１〜６ｍｏ１％添加し、かつ雰囲気焼成時とし
てｐｂｏ過剰なＰＬＺＴ粉を用いる。
つぎに、ＰｂＯ抜きのアニーリングとして、１次焼成後
の供試体について短時間のホ・ノドプレス処理を行う。
の供試体について短時間のホ・ノドプレス処理を行う。
この際に使用するホットプレス治具としては、たとえば
、第２図に例示するようなものを用いる。同図について
簡単に説明すると、符号１１は炉体、１２はＳｉＣ発熱
体、１３はアルミナ押棒、１４はアルミナモールド、１
５はジルコニア粉、１６はジルコニアプレート、１７は
ＰＬＺＴ供試体である。なお、ホットプレス条件は通常
、温度１，１００〜１ 、３００℃（好ましくは１．１
５０〜１．２５０℃）、圧力１０〜５００ ｋｇ／ｃＩ
Ｊ（好ましくは２５〜３５０ｋｇ／ｃｆｌＩ）、時間１
〜３０時間（好ましくは３〜１５時間）とする。
、第２図に例示するようなものを用いる。同図について
簡単に説明すると、符号１１は炉体、１２はＳｉＣ発熱
体、１３はアルミナ押棒、１４はアルミナモールド、１
５はジルコニア粉、１６はジルコニアプレート、１７は
ＰＬＺＴ供試体である。なお、ホットプレス条件は通常
、温度１，１００〜１ 、３００℃（好ましくは１．１
５０〜１．２５０℃）、圧力１０〜５００ ｋｇ／ｃＩ
Ｊ（好ましくは２５〜３５０ｋｇ／ｃｆｌＩ）、時間１
〜３０時間（好ましくは３〜１５時間）とする。
（作用）
しかして、本発明方法によれば、基本的には２段焼成法
（従来の２段焼成法とは異なる）ではあるが、前段の雰
囲気焼成に先立ってＰＬＺＴ構成成分となるＣＰ粉など
の原料粉末をあらかじめ、混合・仮焼、造粒、加圧成形
したのち、雰囲気焼成することにより気孔率も１％以下
とできる。したがって、これに続くホットプレス段階に
おいては雰囲気コントロールの必要もなく、昇温・加圧
スケジュールも短縮でき、かつ型寸法が収縮重分だけ小
さくでき、しかもホットプレス条件として真空にしたり
、酸素を流したりする必要がなくなる。
（従来の２段焼成法とは異なる）ではあるが、前段の雰
囲気焼成に先立ってＰＬＺＴ構成成分となるＣＰ粉など
の原料粉末をあらかじめ、混合・仮焼、造粒、加圧成形
したのち、雰囲気焼成することにより気孔率も１％以下
とできる。したがって、これに続くホットプレス段階に
おいては雰囲気コントロールの必要もなく、昇温・加圧
スケジュールも短縮でき、かつ型寸法が収縮重分だけ小
さくでき、しかもホットプレス条件として真空にしたり
、酸素を流したりする必要がなくなる。
（発明の効果）
以上のように構成される本発明によれば、製造方法全体
としての所要時間を大幅に短縮化でき、しかも得られる
透光性セラミックスの気孔率もきわめて小さく、ＰｂＯ
のコントロール及び粒径の均一化が容易で、再現性の良
好な高品質のものとすることができ、製造装置面や操作
面からみても特別仕様のホットプレス機でなくとも通常
のホットプレス機を使用でき、雰囲気コントロールの必
要もないので製造方法の能率化・合理化が実現できる。
としての所要時間を大幅に短縮化でき、しかも得られる
透光性セラミックスの気孔率もきわめて小さく、ＰｂＯ
のコントロール及び粒径の均一化が容易で、再現性の良
好な高品質のものとすることができ、製造装置面や操作
面からみても特別仕様のホットプレス機でなくとも通常
のホットプレス機を使用でき、雰囲気コントロールの必
要もないので製造方法の能率化・合理化が実現できる。
（実施例）
酸化鉛（ＰｂＯ） 、酸化ランタン（Ｌａｇ （ｈ）、
酸化ジルコニウム（ＺｒＯｚ）ならびに、酸化チタン（
Ｔｉｅｚ）の各粉末を化学組成として、Ｐｂｏ、ｑ＋Ｌ
ａｏ、 ｏｗ（Ｚｒｏ、 ＆５Ｔｉｏｏ、 ｓｓ） ｏ
、 ｑ＊ ０３となるように配合したのち、ボールミル
で４時間混合した。配合時にｐｂｏは化学量論量より２
ｍｏ１％過剰に加えた。これを９００°Ｃで２時間、仮
焼した後、ボールミルで粉砕した。均一性の向上をはか
るため、仮焼・粉砕を２回繰り返した。この仮焼粉を水
をバインダーとして用いて造粒・成形した。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯｚ）ならびに、酸化チタン（
Ｔｉｅｚ）の各粉末を化学組成として、Ｐｂｏ、ｑ＋Ｌ
ａｏ、 ｏｗ（Ｚｒｏ、 ＆５Ｔｉｏｏ、 ｓｓ） ｏ
、 ｑ＊ ０３となるように配合したのち、ボールミル
で４時間混合した。配合時にｐｂｏは化学量論量より２
ｍｏ１％過剰に加えた。これを９００°Ｃで２時間、仮
焼した後、ボールミルで粉砕した。均一性の向上をはか
るため、仮焼・粉砕を２回繰り返した。この仮焼粉を水
をバインダーとして用いて造粒・成形した。
成形は一次成形を２５０ｋｇ ／ｃｎｉで金型成形し、
さらに、静水圧プレスを用いてｌ 、 ５００ ｋｇ
／ ｃａｌで加圧成形し、直径５０龍、厚み１０龍の円
形状成形体を作成した。この成形体を第１図の焼成治具
で一次焼成した。焼成条件は１ 、２００℃Ｘ １２ｈ
ｒ、焼成中酸素ガスを１．！ＩＭ／分流した。なお、雰
囲気焼成時に酸化鉛の飛散を防止するためにＰＬＺＴの
仮焼粉を周りに充填し、酸化鉛雰囲気状態で焼成した。
さらに、静水圧プレスを用いてｌ 、 ５００ ｋｇ
／ ｃａｌで加圧成形し、直径５０龍、厚み１０龍の円
形状成形体を作成した。この成形体を第１図の焼成治具
で一次焼成した。焼成条件は１ 、２００℃Ｘ １２ｈ
ｒ、焼成中酸素ガスを１．！ＩＭ／分流した。なお、雰
囲気焼成時に酸化鉛の飛散を防止するためにＰＬＺＴの
仮焼粉を周りに充填し、酸化鉛雰囲気状態で焼成した。
このようにして作成した焼結体を第２図のホットプレス
機を置き、ホットプレスを行った。
機を置き、ホットプレスを行った。
ホットプレス条件はＬ２００℃×４ｈｒ、圧力５０ｋｇ
ＺＣ−であった。
ＺＣ−であった。
得られた焼結体を厚さ５００μにスライスしたのち、鏡
面研磨し、厚さ３５０μの試料を作成した。これを分光
光度計により透過率を測定し、光学顕″ＲＸ鏡で組織の
観察を行った。
面研磨し、厚さ３５０μの試料を作成した。これを分光
光度計により透過率を測定し、光学顕″ＲＸ鏡で組織の
観察を行った。
なお、比較のために、雰囲気焼成のみのサンプルと、ホ
ットプレスのみのサンプルにても同様の測定を行った。
ットプレスのみのサンプルにても同様の測定を行った。
雰囲気焼成条件は１，２００℃Ｘ １００ｈｒとし、こ
の場合のホットプレス条件は第２図のホットプレス装置
にマツフルを装着し、酸素ガスを流しながら行った。ホ
ットプレス条件は１ 、２００℃Ｘ ２０ｈｒ、圧力２
００ ｋｇ ／ ｃｎｌであった。
の場合のホットプレス条件は第２図のホットプレス装置
にマツフルを装着し、酸素ガスを流しながら行った。ホ
ットプレス条件は１ 、２００℃Ｘ ２０ｈｒ、圧力２
００ ｋｇ ／ ｃｎｌであった。
その結果を第２表に示す。
第２表
第２表の結果からあきからなように、本発明による製造
方法によれば、内部欠陥のない優れた透光性を有するＰ
ＬＺＴウェファ−が比較的短時間に得られることとなり
、工業的価値はきわめて大きいものがある。
方法によれば、内部欠陥のない優れた透光性を有するＰ
ＬＺＴウェファ−が比較的短時間に得られることとなり
、工業的価値はきわめて大きいものがある。
第１図は雰囲気焼成時の状態を示す正面図、第２図はホ
ットプレス時の状態を示す正面断面図である。 ■・・・マグネシア基板、４・・・外アルミナルツボ、
６・・・内アルミナルツボ、９・・・ＰＬＺＴ乾燥後供
試体、１１・・・炉体、１２・・・ＳｉＣ発熱体、１３
・・・アルミナ押棒、１７・・・ＰＬＺＴ供試体。
ットプレス時の状態を示す正面断面図である。 ■・・・マグネシア基板、４・・・外アルミナルツボ、
６・・・内アルミナルツボ、９・・・ＰＬＺＴ乾燥後供
試体、１１・・・炉体、１２・・・ＳｉＣ発熱体、１３
・・・アルミナ押棒、１７・・・ＰＬＺＴ供試体。
Claims (1)
- ＰＬＺＴ構成成分となる原料粉末を混合・仮焼したも
のを造粒し、ついで、加圧成形したものを酸素気流中、
ＰｂＯ雰囲気下で一次焼成したのち、ホットプレス処理
することを特徴とする透光性セラミックスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61246823A JPS63100061A (ja) | 1986-10-16 | 1986-10-16 | 透光性セラミツクスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61246823A JPS63100061A (ja) | 1986-10-16 | 1986-10-16 | 透光性セラミツクスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63100061A true JPS63100061A (ja) | 1988-05-02 |
Family
ID=17154224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61246823A Pending JPS63100061A (ja) | 1986-10-16 | 1986-10-16 | 透光性セラミツクスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63100061A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005026369A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-01-27 | Kyocera Corp | 圧電アクチュエータ、液体吐出装置及び電子機器 |
| JP2010267980A (ja) * | 2010-06-30 | 2010-11-25 | Kyocera Corp | 圧電アクチュエータ、液体吐出装置及び電子機器 |
-
1986
- 1986-10-16 JP JP61246823A patent/JPS63100061A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005026369A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-01-27 | Kyocera Corp | 圧電アクチュエータ、液体吐出装置及び電子機器 |
| JP2010267980A (ja) * | 2010-06-30 | 2010-11-25 | Kyocera Corp | 圧電アクチュエータ、液体吐出装置及び電子機器 |
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